測定・分析の製品一覧

１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。

センサ

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直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウエハ

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株式会社エナテック東京本社

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！

その他半導体
加工受託
ウエハー

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ダイナミック光散乱光度計 DLS-8000 series　

動的光散乱法により超微粒子および希薄溶液中の微粒子測定に最適

その他理化学機器
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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

粒子径・粒子径分布測定装置　多検体ナノ粒子径測定システム　

使いやすさにこだわった粒径・粒度分布測定装置

その他理化学機器
その他検査機器・装置

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顕微分光膜厚計 OPTM series　

1ポイント1秒測定＆測定エリア最小3μｍ！高性能で使いやすい顕微分光膜厚計

膜厚計

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【医薬品向け】ELSZneo：製剤の安定性評価に

希薄系から濃厚系まで、医薬品製剤の粒子径・ゼータ電位を測定

その他計測・記録・測定器

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分光配光測定システム　GP series　　　

分光放射強度の角度分布を測定し、配光特性(光度・色度など)を評価！　

分光分析装置

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紫外放射照度測定システム MCPD series　

紫外域でも高精度な測定を実現！

その他電子計測器
その他計測・記録・測定器
光源・照明

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全光束測定システム HM/FM series　　　

LED単体から照明器具まで幅広い光源の全光束測定が可能

分析機器・装置

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分光全放射束測定システム HM/FM series　

IESNAのLM-79とLM-80に準拠した測定システム！分光全放射束測定の様々な要望に対応

分光分析装置

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高速LED光学特性モニター LE Series　

光ファイバーにより自由な測定系が可能　LED生産工程での光学特性を高速で評価

LED照明
光源・照明
光学測定器

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リポソームの粒子径とゼータ電位評価　

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの評価

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分光干渉式ウェーハ膜厚計 SF-3　　

各種ウェーハの厚み測定や、各種研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込みに！　

膜厚計

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インライン反射率評価システム　MCPD Series　

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で反射率、色などの測定が可能

分光分析装置

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インライン膜厚評価システム　MCPD Series　　

光干渉法の採用により、非接触・非破壊膜厚で膜厚測定が可能

分光分析装置

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ロードポート対応膜厚測定システム　GS-300　

半導体工場の膜厚ニーズに合わせたインテグレーションが可能！

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インライン透過率評価システム　MCPD Series　　

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で透過率、吸光度、色などの測定が可能

分光分析装置

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分光配光測定システム　Gp series

光源や照明器具の配光特性を測定する装置です　

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ラインスキャン膜厚計　オフライン（ウェーハ対応タイプ）　

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面検査を実現！

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ラインスキャン膜厚計　オフラインタイプ　

全面を高速かつ高精度に膜厚測定可能！

膜厚計

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ラインスキャン膜厚計　インラインタイプ　

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現！

膜厚計

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マルチチャンネル分光器 MCPD series　　

広ダイナミックレンジ！高速・高再現性、軽量・コンパクトが特長的　

分光分析装置

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光波動場三次元顕微鏡　MINUK　

nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能！フォーカス不要で高速測定　目視では見えないフィルム表面を可視化・定量化

光学顕微鏡

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顕微分光膜厚計　傾斜モデルを用いたITOの構造解析

傾斜モデルを用いたITOの構造解析

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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

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顕微分光膜厚計　複雑な形状のある任意ポイントの測定

さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定

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顕微分光膜厚計　反射率の変化と膜厚の関係

薄膜から厚膜まで高精度に測定が可能な顕微分光膜厚計『OPTM』

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顕微分光膜厚計 nk 未知の極薄膜の測定

複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

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顕微分光膜厚計　厚膜解析方法

屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析

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顕微分光膜厚計の膜厚解析

表面粗さを考慮した膜厚解析

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顕微分光膜厚計　ハードコートの膜厚測定　

ハードコートの膜厚測定

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顕微分光膜厚計のメリット

反射分光法と他の測定手法の比較

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顕微分光膜厚計の構造解析

傾斜モデルを用いた薄膜の構造解析

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顕微分光膜厚計の測定原理

光干渉法を用いた顕微分光膜厚計（OPTM）の測定原理

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多検体ナノ粒子径測定システムを用いたエマルションの粒子径測定　

O/Wエマルションの粒子径測定

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粒子径・ゼータ電位測定による無機粒子の分散性評価

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

コロイド分散系における無機粒子のｐHタイトレーションによる等電点の評価

分析機器・装置

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【船舶向け】傾斜計CM-961A

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計で船体の安定をサポート

その他計測・記録・測定器

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プリンター用インクを高濃度状態で粒子径・粒子径分布測定　

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

有機顔料の分散性を高濃度状態で評価

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【土木向け】傾斜計CM-961A：地盤の安定監視に

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計。地盤監視の安全性を向上。

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ゼータ電位・粒度分布測定　コロイド粒子のｐH依存性評価

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの等電点評価

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

粒子径・粒子径分布測定装置　リポソームの粒子径評価　

粒子径測定装置を用いた種類の異なるリポソームの粒子径評価

分析機器・装置
その他検査機器・装置

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ELSZneoを用いた固体表面ゼータ電位測定　

研磨パッドの表面ゼータ電位測定

その他理化学機器
その他検査機器・装置

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砥粒の異なるCMPスラリーの分散性評価　

CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

その他理化学機器
分析機器・装置

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CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御　

ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

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当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

固体表面のゼータ電位測定　

ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

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ゼータ電位・粒子径測定によるＣＭＰスラリーの評価　