半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
φ450（18インチ）治具 Siウェハと同等の比重、ヤング率！ 低価格！
- ファインセラミックス
- その他半導体製造装置
SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
- スパッタリング装置
- その他金属材料
- ファインセラミックス
最大□800ｘ40tのSiCセラミックス製品を高精度で提供します。装置性能向上や熱問題解消等、採用効果を実績にて紹介します。
- ファインセラミックス
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
軽量高剛性の金属セラミックス複合材料により装置性能が向上します
- マウンター
- その他半導体製造装置
- その他産業用ロボット
「光とレーザーの科学技術フェア2023」に出展いたします。
オプトシリウス株式会社は、「光とレーザーの科学技術フェア2023」に出展いたします。 【開催概要】 開催期間：2023年11月7日(火)～9日(木) 会 場：パシフィコ横浜（展示ホールC） 小間位置：S-10 主な展示品：レーザーパワー測定器、小型分光器、積分球、量子ドット、配光装置、高出力LED、レジスト 詳しくは以下のリンクをご参照ください。 https://www.optronics.co.jp/fair/
受託テスト成膜サービス（高品位反応膜などの試験成膜）のご案内
これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。
ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば産総研監修のもとに、弊社が製作した装置です
- ステッパー
～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピンコーターです。回転カップ式チャックにて省材料も実現！
- コーター
レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低粘度～高粘度(MAX10000cP)レジスト対応！
- コーター
研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置！卓上タイプとは違う自動機と同等のレジスト塗布機構を搭載！
- コーター
BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベーク搭載自動レジスト塗布装置
- コーター
10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能！ASAP（エイ・エス・エイ・ピイ）は高粘度レジスト・薬液に特化したメーカーです
- コーター
高粘度フォトレジスト塗布に自信があります！10000cPのポリイミドでも面内均一は±５％以内が標準で±３％以内の実績です。
- コーター