スパッタリング装置の製品一覧

フレコンバッグやドラム缶など粉体容器の設置・後処理の負担軽減！異物混入も防ぎ、省人化も実現

• 粉体搬送装置
• その他搬送機械

JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案！デモキット無料貸出。

• その他安全・衛生用品

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

アルミ切削／A5052／旋盤加工／大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• CVD装置
• スパッタリング装置
• 半導体検査/試験装置

半導体業界や太陽電池業界(PV)向けに、ポリシリコーンは原材料として使用。素材：ニッケル合金 プロセス:フィルター

• スパッタリング装置

■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント

• スパッタリング装置

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの正三角形です

• スパッタリング装置

1辺25mmトライアングルの有効エリア！単一基板に数百条件分の組成分布を形成します

• スパッタリング装置

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• スパッタリング装置
• CVD装置
• 蒸着装置

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。

• スパッタリング装置
• CVD装置
• その他半導体製造装置

磁気結合式直進回転導入機（MFL）を取り付ける際の軸差および角度調整に！

• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

真空チャンバーを製作いたします

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置
• その他加工機械

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• スパッタリング装置
• イオン注入装置
• 蒸着装置

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能

• スパッタリング装置

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハイクオリティ、多用途対応のＣｔｏＣタイプスパッタリング装置

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置
• その他実装機械

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発～量産に対応。デモ機でプロセスサポート。

• その他加工機械
• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス＆ハードウェア

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

• スパッタリング装置

低温ALD装置とバレル機構の融合

• 製造受託
• スパッタリング装置
• その他塗装機械

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

研究開発から量産までサポート！

• スパッタリング装置
• プリント基板
• その他半導体

新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見！樹脂基板への金属膜、保護膜を全自動で成膜

• 真空機器
• スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト＆装置見学対応中

• スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合物半導体量産プロセスを実現　サンプルテスト＆装置見学対応中

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ

• その他理化学機器
• スパッタリング装置

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装置で、同基板台内±５％以内の優れた膜厚均一性を実現

• スパッタリング装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

• スパッタリング装置

イオンソースを搭載した実験用装置　精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能

• スパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング（IBS）装置です。

• スパッタリング装置
• その他半導体
• 磁石

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用可能です。

• 蒸着装置
• スパッタリング装置
• CVD装置

表面改質から触媒利用まで！成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術をご紹介！

• スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

• スパッタリング装置

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

• 真空機器
• スパッタリング装置

940gのシリーズ最軽量！ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生！

• 塗装機械
• スパッタリング装置
• その他

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパッタ装置

• スパッタリング装置

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

• スパッタリング装置

低圧動作のECR型アトムソース

• エッチング装置
• 蒸着装置
• スパッタリング装置

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。研究開発に特化した新モデルも！

• スパッタリング装置

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持たせながら、小型化が実現。

• スパッタリング装置

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置

• スパッタリング装置

真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております。

• 蒸着装置
• CVD装置
• スパッタリング装置

クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタミフリーなアルミホイルです。

• スパッタリング装置
• アルミニウム
• その他半導体製造装置