半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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高 性 能 か つシンプ ル なストリップ マシン

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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「コーティングの効果を事前に確かめておきたい」 そんなニーズにお応えするため、吉田SKTではコーティング面の測定も承ります。

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混同されやすいテフロンとフッ素樹脂の違いについて詳しく解説します。

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  • その他半導体製造装置

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フッ素樹脂とテフロンに違いについて解説します。

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  • その他半導体製造装置

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【資料進呈中】テフロン フッ素樹脂「PTFE」と「PFA」樹脂やコーティングの特長の違いをご紹介します。

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  • その他半導体製造装置

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低い表面エネルギーで付着物を容易に除去。メンテナンス性を大幅に向上させるコーティング

  • その他半導体製造装置

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優れた電気絶縁性と帯電防止機能を両立。半導体製造の静電気トラブルを防ぐコーティング

  • その他半導体製造装置

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金属イオン溶出を極めて低水準に抑制。高純度が求められる半導体製造工程に対応

  • その他半導体製造装置

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搬送・洗浄・エッチング・CMP・めっき・検査まで。半導体製造の幅広い工程を支えるコーティング

  • その他半導体製造装置

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金属イオン汚染を制御。高純度プロセスをフッ素樹脂で守る。

  • その他半導体製造装置

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半導体製造工程で静電気起因のパーティクル・ESD不良を根絶。帯電防止と非粘着を両立した独自コーティング。

  • その他
  • その他半導体製造装置

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搬送ハンドの傷・欠け防止から躯体の腐食対策まで。ウエハー搬送の信頼性を高めるコーティング

  • その他半導体製造装置

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腐食防止・金属イオン溶出防止・ウエハー傷防止。洗浄装置の課題をまとめて解決

  • その他半導体製造装置

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強酸・強アルカリ・有機溶剤にも屈しない。半導体製造工程対応の耐薬品コーティング。

  • その他半導体製造装置

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ウエハーの傷・固着・金属粉発生を防止し、検査工程のクリーン環境を維持

  • その他半導体製造装置

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各種薬液環境に耐える化学的安定性。半導体製造装置の腐食対策に最適なフッ素樹脂コーティング

  • その他半導体製造装置

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配管を外さずフィルターカートリッジの交換可能。

  • その他半導体製造装置
  • その他プロセス制御
  • 配管材

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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

  • 加熱装置
  • アニール炉
  • 電気炉

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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

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普通のバルブメーカーではありません!フィルターやセンサーなどを組合せた「ユニット集積バルブ」など要望に合わせて幅広く製作可能!

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  • その他半導体製造装置

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製薬・食品・飲料・バイオテクノロジー・化粧品業界向け

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  • その他半導体製造装置

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オールフッ素樹脂の壊れにくい圧力計!!

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  • 圧力計
  • CMP装置
  • その他半導体製造装置

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装置内のフットプリントを最小に!でも高耐圧・流量能力は抜群!フッ素樹脂バルブ

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  • バルブ
  • その他半導体製造装置

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新しい形で半導体薬液供給にかかわる排圧弁のソリューションを提案!幅広い用途に合わせて選択できます。

  • バルブ
  • その他半導体製造装置

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高純度有機溶剤向けGEMÜステンレス製ダイアフラムバルブ

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  • バルブ
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モジュラータイプをカスタムオーダーメイド!メンテナンス簡単・フレキシブルな組み合わせをお客様にて実現!

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  • バルブ
  • その他半導体製造装置

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安定したスラリー供給を実現!GEMU 半導体製造向けスラリー供給アプリケーション事例

  • バルブ
  • その他半導体製造装置

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スラリーなどの研磨性流体に最適・液溜まりを最小限に抑えたフッ素樹脂製ダイアフラムバルブ

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【オンライン展示会 3/8-3/10】日本の製造業の未来展 出展のご案内

2021年3月8日~10日において、『日本の製造業の未来展』へ出展します。 かつては「モノづくり大国」と呼ばれたが、 DX化への遅れなどにより危機に直面している日本の製造業界に、大きなインパクトをもたらす技術が集結。 池上彰氏や、HUAWEI社 会長の王氏も登壇者として登場。 日本の製造業の”未来”をともに考えるチャンスです! 皆さまのご来場をお待ちしております。

腐食性の高い薬液にも対応!!GEMÜ製高純度フッ素樹脂バルブ

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  • バルブ
  • レジスト装置
  • CMP装置

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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。

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  • スパッタリング装置

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大好評 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大4基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール

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  • スパッタリング装置
  • プラズマ発生装置

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FCCL(フレキシブル銅張積層板)製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置

  • スパッタリング装置

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FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。

  • スパッタリング装置

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高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード!  販売・修理/メンテも対応可能

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スパッタカソード サービスセンター開設いたしました

2024年4月より、アメリカオングストローム・サイエンス社製「マグネトロンスパッタカソード」の点検・修理のサービスセンターを開設いたします。 新たなサービスセンターにはクリーンルーム設備をはじめ、真空リークチェッカー、各種検査機器を常備して万全な体制でのメンテナンスを実施いたします。 すべての作業はAngstromeScience社での研修を修了した有資格者が指導・監修し、アメリカ本国の修理と同様のサービスを提供いたします。 これまでは、故障に伴う修理を中心に対応をいたしておりましたが、サービスセンター開設を機に定期メンテナンスをお引き受けすることができるようになりました。 定期的にカソードの点検を行って、ダウンタイム無しでの運用をサポートいたします。

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

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  • スパッタリング装置

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MEMS Engineer フォーラム 2025 出展いたします

MEMS Engineerフォーラムは、21世紀のキーテクノロジーとされるMEMS技術のキープレイヤーの中でもエンジニアを中心に運営されるユニークなフォーラムです。 世界中のMEMS研究者、開発者、技術者が一堂に集うこのフォーラムの技術展示会にて、Plasma Quest Ltd.社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置のご紹介と技術展示をいたします。 弊社展示のみならず、MEMSに関する最先端の技術をご覧いただける絶好の機会でございます。ぜひ足をお運びいただきたくご案内申し上げます。 会場: 国際ファッションセンター ホール 〒130-0015 東京都墨田区横網1-6-1 国際ファッションセンタービル アクセス https://www.tokyo-kfc.co.jp/access/ 展示製品: Plasma Quest Ltd. 社製  リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 https://mono.ipros.com/product/detail/2001148974 https://www.plasmaquest.com/

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

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  • スパッタリング装置

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リアクティブスパッタ、合金スパッタを自在にコントロールしての成膜を実現します

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  • プラズマ発生装置
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PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました

ご紹介開始より、各社様からご好評を頂いております、PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました。 リモートプラズマ ターゲットバイアス スパッタリングの動画を掲載いたしました。 ご質問、ご要望等ございましたらお気軽にお問い合わせください。

リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発メーカー

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  • スパッタリング装置

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受託テスト成膜サービス(高品位反応膜などの試験成膜)のご案内

これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。

貴社の装置を ボルトオン、カプラーオンで延命化いたします

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  • スパッタリング装置
  • ソレノイド・アクチュエータ
  • 搬送・ハンドリングロボット

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ティー・ケイ・エス株式会社 長岡サービスセンター開設 ワンストップでの装置再生と延命化を実現いたします

近年、稼働中の装置延命化のご依頼を多数頂戴いたしております。 近年では装置並びに構成部品の高機能化により、修理対応も専門化が進みました。その専門化に伴い、修理対応は分業・専業化し総合的な診断と検証による「修理」の提供が難しくなってきております。 本サービスセンターの開設により、確かな技術を持つ弊社エンジニアによる「装置の総合診断」と全国に点在するパートナーエンジニアの「専門技術の統合」を行い、ワンストップでの再生と延命化をご提供いたします。

高純度と高収率を両立。半導体材料の高純度化に貢献。

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  • 精製・抽出装置
  • 有機EL

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ディスプレイ製造における薄膜化を支える、高純度・高収率の昇華精製装置

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  • 精製・抽出装置
  • 有機EL

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太陽電池の効率向上に貢献する、高純度有機材料の昇華精製装置

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高純度と高収率の両立を実現。発光材料の品質向上に貢献。

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香料の品質を向上させる、高純度・高収率の昇華精製装置

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