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食品業界の品質管理において、コーティングや包装材の膜厚測定は、製品の品質保持に不可欠です。特に、均一な膜厚は、食品の保存性や安全性を左右する重要な要素となります。しかし、従来の測定方法では、測定に時間がかかったり、サンプルを傷つけてしまう可能性がありました。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。非破壊で測定できるため、食品サンプルを傷つける心配もありません。この製品は、食品の品質管理における膜厚測定の課題を解決し、より効率的で正確な品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・食品包装材の膜厚測定 ・コーティングされた食品の膜厚測定 ・品質管理部門での測定 【導入の効果】 ・非破壊測定によるサンプルの有効活用 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上
包装業界では、製品の品質保持のため、包装材のバリア性が重要です。特に、酸素や水分の透過を防ぐための膜厚管理は、製品の賞味期限や品質に大きく影響します。膜厚測定の測定結果のバラつきや測定精度の悪さは、品質管理上の課題となります。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、正確な膜厚測定を実現します。 【活用シーン】 ・食品包装、医薬品包装、工業製品包装におけるバリア性評価 ・包装材メーカーでの品質管理 ・研究開発部門での材料評価 【導入の効果】 ・非破壊測定によるサンプルへの影響を最小限に ・迅速な測定による工程管理の効率化 ・測定結果の安定化による品質向上
電子部品業界において、絶縁膜の品質管理は製品の信頼性を左右する重要な要素です。絶縁膜の膜厚測定は、製品の性能を維持し、不良品の発生を防ぐために不可欠です。しかし、従来の測定方法では、測定場所の制約や測定結果のばらつき、測定精度の問題といった課題がありました。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、絶縁膜の品質管理を効率化します。 【活用シーン】 ・電子部品製造における絶縁膜の膜厚測定 ・品質管理部門での膜厚測定 ・研究開発部門での膜厚評価 【導入の効果】 ・測定場所を選ばず、どこでも測定可能 ・測定結果のばらつきを抑制 ・高精度な膜厚測定を実現 ・非破壊測定によるサンプルの有効活用
精密機械業界の表面処理工程では、製品の品質を左右する膜厚管理が重要です。均一な膜厚は、耐摩耗性、耐食性、外観品質を向上させるために不可欠です。しかし、従来の測定方法では、測定場所の制約、測定結果のばらつき、測定精度の問題といった課題がありました。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、表面処理工程における膜厚測定の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 * 金属部品の塗装膜厚測定 * プラスチック部品のコーティング膜厚測定 * 電子部品の表面処理膜厚測定 * 研究開発における膜厚評価 【導入の効果】 * 測定時間の短縮 * 測定結果の安定化 * 品質管理の向上 * 不良品の削減
航空宇宙業界では、耐熱性コーティングの品質管理が重要です。高温環境下での部品の性能を維持するためには、コーティングの膜厚が均一で、適切な厚さを保っている必要があります。膜厚が不均一であったり、薄すぎると、熱による劣化が早まり、部品の寿命を縮める可能性があります。逆に厚すぎると、重量が増加し、燃費効率が悪化する可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、非破壊で膜厚を測定できます。これにより、航空宇宙部品の品質管理を効率化し、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・耐熱コーティングされた航空機部品の膜厚測定 ・ロケットエンジンの耐熱材の膜厚測定 ・宇宙ステーションの断熱材の膜厚測定 【導入の効果】 ・非破壊測定による検査時間の短縮 ・測定結果のばらつきを抑制 ・品質管理の向上による製品信頼性の向上
医療機器業界では、インプラントや医療用デバイスのコーティングなど、生体適合性材料の膜厚管理が製品の安全性と性能を左右する重要な要素となります。特に、材料の均一な膜厚は、生体組織との親和性や耐久性に大きく影響し、不適切な膜厚は、製品の早期劣化や拒絶反応を引き起こす可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、測定したい場所ですぐに膜厚を測定できます。最薄0.1μmまで検量線不要で測定可能で、非破壊で測定できるため、サンプルを傷つける心配もありません。これにより、品質管理の効率化と精度の向上が期待できます。 【活用シーン】 ・インプラント表面のコーティング膜厚測定 ・医療用デバイスのコーティング膜厚測定 ・生体適合性材料の研究開発 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果のばらつきを抑制 ・非破壊測定によるサンプルへの影響を軽減
自動車業界のコーティング工程では、保護膜の品質管理が重要です。特に、耐摩耗性や耐候性を向上させるためには、コーティング膜厚の均一性が求められます。膜厚が不均一な場合、性能の低下や外観不良につながる可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、測定したい“その場”ですぐに膜厚を測定できます。人による測定結果のバラつきを抑え、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。基材を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。 【活用シーン】 ・自動車ボディのコーティング膜厚測定 ・バンパーやパーツの塗装膜厚測定 ・コーティング品質の検査 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・品質管理の向上
光学部品業界では、製品の性能を左右する反射防止膜の正確な膜厚測定が求められます。特に、光の透過率や反射率を精密に制御する必要がある場合、膜厚のわずかな差異が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。測定結果のバラつきや測定精度の低さは、歩留まりの低下や不良品の増加につながりかねません。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。光学部品の製造プロセスにおける膜厚測定の課題を解決します。 【活用シーン】 ・反射防止膜の膜厚測定 ・光学フィルターの膜厚測定 ・レンズコーティングの膜厚測定 【導入の効果】 ・測定結果の信頼性向上 ・歩留まりの改善 ・品質管理の効率化
太陽電池業界では、製品の品質と効率を向上させるために、膜厚の正確な測定が求められます。特に、太陽光の吸収効率を左右する膜厚の均一性は、製品の性能を大きく左右します。測定の遅延や精度の低さは、生産効率の低下や品質問題につながる可能性があります。当社のスマート膜厚計 SM-100 seriesは、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能で、非破壊で膜厚を測ることができます。これにより、太陽電池製造における品質管理と生産効率の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・太陽電池セルの膜厚測定 ・太陽電池モジュールの膜厚測定 ・製造ラインでの品質管理 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・不良品の削減
ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する膜厚の均一性が重要です。特に、薄膜の均一性は、表示性能や耐久性に大きく影響します。膜厚測定の際に、「測りたい“その場”ですぐに測れない」「人によってバラつく測定結果」「測定精度が悪い」といった課題を抱えている企業も少なくありません。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、高品質なディスプレイ製造をサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程における膜厚測定 ・品質管理部門での膜厚検査 ・研究開発部門での薄膜評価 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・品質管理の向上
半導体業界の成膜管理においては、高品質な製品を安定的に製造するために、膜厚の正確な測定が不可欠です。特に、薄膜の成膜プロセスにおいては、膜厚のわずかな差異が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。測定結果のばらつきや精度の低さは、歩留まりの低下や不良品の増加につながり、大きな損失を招く可能性があります。SM-100 seriesは、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能で、基材を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における成膜プロセスの品質管理 ・研究開発における薄膜材料の評価 ・製造現場での迅速な膜厚測定 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・不良品の削減
このセミナーではゼータ電位を正しく測定する上で知っておきたい情報やノウハウをご紹介します。 さらに、ゼータ電位測定装置をより知っていただくために、測定原理やアプリケーション事例についてもご紹介します。 これからご使用いただく方やすでにご使用いただいている方はぜひご受講いただき、測定にご活用ください。
光を用いた計測・分析機器の開発で培った技術を活かし、先端技術を支える装置・測定技術・応用例を中心に解説するWebセミナーを開催いたします。 ぜひ、ご参加ください。
光の波長より十分に小さい粒子によって散乱される光はレイリー散乱と言われており、この領域の大きさのサンプルの絶対散乱光強度を単一粒子からの散乱光強度で除算することで、粒子濃度が算出されます。 今回、粒子径の異なるポリスチレンラテックス（28nm ～ 2900nm）分散液の絶対散乱光強度を求め、理論式より粒子濃度の算出を試みました、 レイリー散乱領域を超えた大きさまで粒子濃度の評価可能であることがわかりました。また、1μｍ以上になると測定値から乖離する結果となっています。
通常の動的光散乱測定では後方か側方のいずれか1方向の散乱角度で測定を行い、粒子径を求めますが、多角度測定では後方・側方・前方の3角度で動的光散乱測定を行います。各角度で測定した散乱光強度の自己相関関数に対して最適解となる粒子径分布を解析します。これにより、１角度での粒子径分布解析では困難であった隣接した粒子径分布の分離能が向上し、粒子径分布の分離が可能になります。
水の中に油が分散するものをO/W(Oil-in-water)エマルション、油の中に水が分散するものをW/O(Water-in-oil)エマルションと区分されます。これらエマルションは、食品、化粧品、塗料、医薬品などで用いられています。その粒子径および分散性は、製品の機能性や安定性を決める因子として重要です。今回、エマルションの測定例として、0.1wt%のドデシル硫酸ナトリウム(SDS)を用いて大豆油を0.01vol%に調製したものを溶媒とし、超音波ホモジナイザーを用いてO/Wエマルションを作成し超音波処理時間を0.5 ～ 10分間と変化させ粒子径測定を行いました。超音波処理時間が。2 ～10分では、処理時間が増えるごとに平均粒子径および多分散指数が減少しています。このことから長時間超音波処理を行うことでより微細で単分散なエマルションとなっていることが分かります。このように粒子径測定を行うことで作成したエマルションが目的の粒子径であるかの確認や分散性の評価が可能です。
多くのコロイド分散系においては、ｐHを変化させることによって、様々な特性が現れます。ｐHタイトレーション測定は、単一測定条件下は得られなかった材料の物性情報が得られます。この方法は、再現性の高いプロセスコントロールの追及に不可欠で、無機粉体、セラミックス、汚水処理、洗浄、繊維、化学工業、バイオ、食品等の分野で幅広く利用されています。
超複屈折フィルムなど、従来方式では10,000nｍ程度までしか測定できなかったが、高精度多波長測定および独自のアルゴリズムにより60,000nmまで測定可能。また、多波長をワンショットで測定できるため約１秒で測定可能。
近年、様々な機能を持つ高機能フィルムを用いた製品が一般に普及しており、用途によってはフィルム表面に耐摩擦、耐衝撃、耐熱、耐薬品などの性能を持つ保護フィルムが必要になることもあります。保護フィルム層としてハードコート(HC)膜を製膜することが一般的ですが、HC膜の厚みによって保護フィルムとして機能しなかったり、フィルムにそりが生まれたり、見た目のムラや歪みの原因になるため、HC層の膜厚値を管理する必要があります。
液晶ディスプレイなどに用いられる透明電極材料であるITO（Indium-tin-oxide）は、製膜後のアニール処理（熱処理）によって導電性や色味が向上します。その際、酸素状態や結晶性も変化しますが、この変化は膜の厚みに対して段階的に傾斜変化することがあり、光学的に組成が均一な単層膜として見なすことができません。 このようなITOに対し、傾斜モデルを用いて、上部界面と下部界面のnkから、傾斜の度合いを測定した事例を紹介します。
大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■フラーレンの粒子径評価 ■陰イオン界面活性剤によるカーボンナノチューブの分散評価 ■偏光解消動的光散乱法によるカーボンナノチューブの軸比の評価 ■各種分散剤によるカーボンナノチューブの分散評価 ■カーボンナノホーンの開孔処理の評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■導電性高分子(PEDOT/PSS)の特性評価 ■O/Wエマルションの粒子径測定 ■シクロヘキサン中のポリスチレンの温度グラジエント評価 ■粒子径が隣接したサンプルの多角度粒子径測定 ■粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子個数測定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■ノンホモ牛乳・低脂肪乳・一般牛乳の粒子径評価 ■牛乳の温度変化による粒子径評価 ■牛乳・豆乳のpHタイトレーション測定による等電点評価 ■無調整豆乳と調整豆乳の粒子径評価 ■缶コーヒーの粒子径評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■エクソソームの粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定 ■細菌から生産された細胞外膜小胞の粒子径、粒子濃度、ゼータ電位評価 ■タンパク質フォールディングの介添え役シャペロニンの粒子径評価 ■超遠心機を用いたタンパク質会合体の分離分析 ■分子量の異なるタンパク質の粒子径評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
各種フィルム上コート膜などの反射率測定および膜厚などの測定が可能。 測定可能膜厚範囲は 65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～ ※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
各種フィルム上コート膜などの透過率測定および吸光度、色などの測定が可能です。 仕様により膜厚測定も可能であり、測定可能膜厚範囲は 65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～ ※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
測定可能膜厚範囲は 65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～ ※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
DLC(diamond‐like carbon)はアモルファス（非晶質）な炭素系材料です。高硬度・低摩擦係数・耐摩耗性・電気絶縁性・高バリア性・表面改質やDLCの厚み測定は断面を電子顕微鏡にて観察する破壊検査が一般的でしたが、大塚電子の光干渉式膜厚計であれば非破壊かつ高速に測定が可能です。 独自の顕微鏡光学系を採用することで、形状のあるサンプルの実測定が可能になりました。
従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。（特許取得済 第5721586号） 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値（ｄ）を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。 しかしながら、ｄ が100nm以下の極薄膜の場合、ｄ とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な ｄ が求められないことがあります。 このような場合、ｄ の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析（複数点同一解析）をします。これにより精度よくnkを求め、正確な ｄ を求めることが可能です。
屈折率の波長分散を考慮したFFT法によって、厚膜においても従来法に比べ、より真値に近い解析結果が得られます。（特許取得済 第4834847号）
サンプル表面に粗さがある膜の場合は、膜の理論反射率と異なるため解析が難しくなります。 OPTMでは粗さ層はEMA法（有効媒質近似法）でモデル化して評価することが可能です。
OPTMでは単一層内に存在する厚み方向で屈折率が変化する膜の解析に対応しております。
フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 （特許取得済 第5172203号）
反射分光法は他の膜厚測定方法と比較して、薄膜対応、測定時間、非接触性、前処理や検量線不要、多層膜対応、光学定数解析などの点でメリットがございます。 一度お試し測定をしてみてはいかがでしょうか？
自社開発分光器と２軸のゴニオメータを使用することで照明器具やランプの配光データと一緒に光源色データを高精度に測定することを実現しました。室内照明から投光器まで幅広い照明器具を取り扱え、マルチパーパスな要求に応える装置です。角度ごとの分光測定でも照度計タイプのV(λ)受光器と同等の高速測定を実現しました。配光測定結果から照明率解析も可能です。また、球帯係数法により分光全放射束と全光束および色度、色温度などの光源色データを求めることができます。本システムは、北米照明学会（IES）のLM-75のType B、Type Cに対応しています。更に、システムの校正に欠かせない光度標準ランプは、光のJCSS登録事業者である弊社の光計測評価センターより供給可能です。
積分球と分光器との組み合わせで、照明器具や各種ランプの分光全放射束、全光束から演色性評価などの光源色評価まで幅広く対応可能です。ダウンライトなどの2π配光光源の測定に有効な積分半球（HalfMoon）を使ことで加熱冷却をコントロールして温調しながらの測定が容易に実施できます。また、直流・交流電源をコントロールするようにシステムアップすることで、L-I-V測定、パルス幅変調（PWM）調光などを含むパルス点灯測定、温度特性測定などが一括制御下で面倒な操作が不要になります。測定部である積分球と積分半球の大きさは、測定する照明器具やランプの大きさや形状に応じてφ250mmからφ2000mmまでラインアップしています。検出器部である分光器には広いダイナミックレンジを有するMCPD-9800シリーズを採用しており、数ルーメンの低強度ランプからワットクラスのハイパワーレーザー光源まで対応可能です。なお、本システムは、北米照明学会（IES）のLM-79とLM-80とに準拠しています。
一般に市販されているプリンター用インクは、分散安定性を向上させるために、少量の分散剤が添加されています。これらインクの分散性を評価するために、ゼータ電位や粒子径測定が行なわれています。しかし、今までは溶媒のみで希釈して測定されていました。このような処理では添加剤濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。この問題を解決するために、超遠心分離機で分離させた上澄み液を希釈溶媒として使用し添加剤濃度が変わらない状態でゼータ電位および粒子径測定を試みました。
各種有機顔料はプリンタ用インクなどに使用されています。インクが凝集し固まってしまうと色ムラにつながるため、製品寿命や品質向上のためにインクの分散性条件の検討に粒径分布が測定されています。今までは溶媒で希釈して測定されていましたが、このような処理では濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。 図のデータは実際使用している顔料の原液あるいは原液に近い高濃度状態で粒径分布を測定した例です。
『SM-100 series』は高精度かつ簡単に持ち運び・操作ができる膜厚計です。 現場での抜き取り検査や成膜条件の検討にも柔軟に対応が可能。 基材(ガラス・プラスチック)を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で測ることができます。 ■持ち運び可能なハンディタイプ ■高精度測定＆簡単測定 ■多層膜も対応 ■非破壊・非接触測定 ■様々なサンプルを測定 ※詳しくは＜PDFダウンロード＞より資料をご覧ください。 デモ機を無料貸し出し中！＜お問い合わせ＞よりお申し込みいただけます。
半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。
反射率スペクトルは、同種材質の膜であっても、膜厚値の違いにより図のような異なる波形になります。 膜厚が薄い場合、図左側のようなスペクトルを示し、より厚くなると図中央から右側のようなスペクトルへと変化します。 これは光干渉現象によるものです。 大塚電子の膜厚計では高精度で高い波長分解能を持つ分光計測が可能で、正確に絶対反射率スペクトルを求めることができます。 これにより材質の持っている光学定数（n：屈折率、k：消衰係数）の解析も可能になります。
ゼータ電位がゼロ（粒子の表面電位がゼロ）になるpHを等電点といい、コロイド粒子は等電点近傍のpHに近づけると、静電的な反発力がなくなり凝集しやすくなります。安定した分散状態を実現するためには、溶液のｐHを等電点からできるだけ離し、ゼータ電位の絶対値を高める必要があります。 今回は生理食塩水にリポソームを分散させリポソームの粒子径とゼータ電位のpH依存性を測定し、分散安定性を評価しました。 DDSナノ材料リポソームのと等電点評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
リポソームの体内動態を理解する上で粒子径やゼータ電位などの物性評価は非常に重要です。 リポソームを生理食塩水に分散させポアサイズ0.2μｍのフィルターでろ過した後、動的光散乱法により粒子径を電気泳動光散乱法によりゼータ電位の測定を行いました。 DDSナノ材料リポソーム粒子径・ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
リポソームは膜を構成する層数と大きさにより、小さい一枚膜リポソーム（ SUV; 100nm以下）、大きな一枚膜リポソーム（ LUV; 100-500nm）、そして多重層リポソーム（MLV; 200-1000nm）に大別されます。 これら3種（それぞれ超音波処理法、逆相蒸発法、ボルテックス処理法によって調製）のリポソームを動的光散乱法を用いて、粒子径測定を行いました。 種類の異なるリポソームの粒子径評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
『GS-300』は、小フットプリント仕様のロードポート対応膜厚測定 システムです。 φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応。 ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現します。 また、半導体プロセスの高スループット要求に対応しております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応 ■ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現 ■半導体プロセスの高スループット要求に対応 ■小フットプリント仕様 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
