テクノメイトの製品・サービス一覧

『UPPU-10LR』は、工場の超純水供給ラインの圧力が不足している場合に使用する昇圧ユニットです。 昇圧はエア駆動ベローズポンプにより行い、圧力を調整するためのエアレギュレータや吐出圧力モニターを有します。 【特長】 ■水圧の低い純水を昇圧して装置に供給 ■エア駆動ベローズポンプを使用した超純水用のモデル ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

本装置は供試品の特性試験のためドライソルベントＨＳを一定圧力､一定温度で安定的に供給し循環使用するためのものである。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

ＣＭＰ装置の原液供給に使用されます。 【特長】 ■ＰＴＦＥ製バルブを使用 ■排気用ダンパーを内蔵 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

【特長】 ■インバータ内蔵により流量特性を可変可能 ■外部信号により運転、停止が可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

電動式のプランジャポンプを用いたポンプユニットです。 吐出圧力、流量についてはお客様のご要望に合わせて調整いたしますのでご相談ください。 【特長】 ■ポンプ1台で関連する複数の用途に対応 ■スケルトン筐体でお客様の装置に組込容易 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

『FSBL-50』は純水、IPA、NMPなどの流体を高圧に送り出して、 ウエハーなどの洗浄対象に噴射して膜を除去する目的の装置に組み込まれるポンプです。 接液部の材質はSUS316、逆止弁は新開発のポペット弁により長寿命で金属粉の発生がありません。 また、昇圧部のシール材はフッ素系高分子ポリエチレンを標準採用、NMPなど有機溶剤系仕様としてカルレッツも対応可です。 【特長】 ■コンパクト設計で組込に好適 ■操作はエア供給圧を可変することで吐出圧を制御可能 ■電気を使用しないため、防火・防爆地区に適応 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他理化学機器

『PU300A』は、工場の純水供給ラインの圧力が不足している場合や、建物で階上への供給で圧力が不足する場合に使用する昇圧ユニットです。 運転中に外部負荷が締切状態になってもリリーフ弁の作動による内部循環が可能です。 【特長】 ■水圧の低い純水を昇圧して装置に供給 ■外部締切運転時リリーフ弁により内部循環自動切換え ■循環水温度上昇検知（作動温度 50℃） ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

『連続式スラリー供給装置　P85』は、半導体のウエハー研磨工程で加工時に塗布されるスラリーを供給する装置です。 冷凍機とヒーターの低容量化で、装置容積は当社従来比61％低減して供給流量も増大。 また、原液補給から供給可能までの所要時間を当社従来比で52分⇒22分に大幅短縮しました。 【特長】 ■当社独自の調合方式でスラリーと純水を調合＜特許取得済＞ →ポンプが不要となり、当社従来比１５％以上のコストダウンを実現 ■当社独自の加熱方式によりスラリーを加熱＜特許取得済＞ →高効率、ハイレスポンスの加熱を実現 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

『PU201A』は、工場の純水供給ラインの圧力が不足している場合や、建物で階上への供給で圧力が不足する場合に使用する昇圧ユニットです。 運転中に外部負荷が締切状態になってもリリーフ弁の作動による内部循環が可能です。 【特長】 ■水圧の低い純水を昇圧して装置に供給 ■外部締切運転時リリーフ弁により内部循環自動切換え ■循環水温度上昇検知（作動温度 50℃） ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

『SSBL-XXシリーズ』は、純水、IPA、NMPなどをウエハ等に高圧噴射して 膜を除去するリフトオフ装置等に適したポンプです。 エア駆動式のため防火・防爆対策が必要な場所でも使用できます。 昇圧部シール材としてフッ素樹脂、超高分子量ポリエチレンを使用。 OリングはFKM仕様とカルレッツ仕様から選択可能。 2000年から25年におよぶ市場供給をしております。 【特長】 ■コンパクト設計で組込みに好適 ■操作はエア供給圧を可変することで吐出圧を制御可能 ■エア圧力0.5MPaにて最高17.6MPaまで昇圧可能（SSBL-37.5A） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他理化学機器

『KPWシリーズ』は、高圧ポンプに基本的に必要となる周辺機器をセットにして、専用量産装置以外の用途で利用しやすいように整えたユニットです。 エア駆動式プランジャーポンプ内蔵の高圧水発生ユニットでエア圧調整器､エア圧力計､吐出圧力計などが一体となった設計で装置組み込みに適しており、 高圧ジェット洗浄用としてウエハのIPA洗浄や溶剤による剥離等に用います。 【特長】 ■小型な組込用ポンプユニット（W194×H190×D490） ■エア供給用電磁弁、エアレギュレーター、圧力計を標準内蔵 ■オプションで純水用電磁弁、エア駆動用吐出弁の内蔵、NMP対応シール材を選択可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

『真空ポンプユニット P94』は、加工対象物を薬液をかけながら切断する際に、対象物を保持する真空源として使用するユニットです。 ダイシング装置のウエハー真空チャックの為の真空発生装置として使用され、水封式ポンプ、制御バルブ封水流量計、真空圧力計などから構成されています。 【特長】 ■ウエット処理装置の真空チャック用の水封式真空ポンプにユニット ■水滴・水蒸気を含んだ気体の吸引に好適 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他ポンプ

YAGレーザの発光時の発熱を純水で冷却するためのもので､純水器､ポンプ､タンク､温度制御部よりなっており、組み込み用で空冷式(P23)と水冷式(P14)があります。 【特徴】 ○純水器・ポンプ・タンク・温度制御部より構成 ○適用レーザ出力：50W ○純水器：内蔵 ○フィルター：5ミクロン ○ポンプ：ステンレスポンプ 0.4KW ○温度制御方式 　熱交換器により純水と冷却水を熱交換 　冷却水開閉により制御 ○空冷式(P23)もご用意

• 冷却装置

本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。 【特徴】 ○純水加熱容器は石英ガラスを使用 ○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用 ○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用 ○加熱効率が９６％以上 ○PID制御による±1℃の安定した温度制御 ○起動から使用温度まで120秒以内の昇温 ○幅広い使用流量・温度に対応 ○流量変化に対応した温度調整が可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 加熱装置

スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。 【特徴】 ○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製 ○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分 ○供給エア：85リットル毎分 ○電源容量：AC100V 5A

• その他半導体製造装置

『添加剤滴下装置　P101』は添加剤を任意の濃度で設定することで 切削水の流量に比例した添加剤をDIWに注入し混合することで、 添加剤を均一な濃度で供給するための装置である。 【仕様】 〇適用流体：切削水 〇混合薬液：添加剤　0.2～20mL/分 〇切削水流量：2～20Ｌ/分　at0.2～0.5ＭＰa　水温20～25℃ 〇濃度設定範囲：0.01％～0.1％ 〇混合精度：±10％ ○導電率計測定範囲：0～20μＳ/cm ○警報出力：アラーム発生時画面に下記の表示を出すとともに外部信号出力する ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他理化学機器

対象となる装置より温風発生の指令を受け内蔵タイマーにより一定時間 温風を発生し､ウエハに乾燥用温風を供給するためのものである 【仕様】 ○電源電圧 AC100V±10%､ 10A 50/60HZ ○電源接続ブレーカーの1次側に端子台を介さず直接接続する ○各部温度設定範囲及び上限温度リミッタ設定 ○温風タイマー設定時間 : 0~10分 【安全仕様】 ○温度コントローラが｢センサ異常｣や｢温度異常｣を検出した場合､温度コントローラの電源を切断し「運転異常」ランプを点灯する ○ノズルヒータ制御の故障による温度上昇を防ぐためヒータ出口に独立した温度計にてモニターし設定温度を超えたときは温度コントローラの電源を切断し｢温度異常｣ランプを点灯する ○ノズル先端温度を計測する温度計を内蔵する ○寸法：W200×D200×H375

• その他理化学機器

本装置は冷却プレートと温度制御部から構成され、分析機器などの組み込みに好適です。 【特徴】 ○温度を自動で計測し設定温度より低ければ上昇、高ければ低下させる ○性能 　・使用温度範囲　0～70℃（室温 20℃） 　・温度設定精度　±0.1℃（室温20℃､周囲の風の影響はないものとします。） 　・温度制御精度　±0.2℃（室温20℃） ○仕様（冷却プレート部） 　・外形寸法　W173*D174*H114 　・プレート寸法　W88*D88*H10 　・重量　約2ｋｇ 　・プレート材質　アルミ（表面硬質アルマイト処理） 　・放熱方式　強制空冷式 　・サーモモジュール　2ケ 　・センサー　測温抵抗体　Pt100

• その他理化学機器

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。

• その他理化学機器

本装置はスラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給し、送液温度とpH値を制御(オプション機能)するとともに、スラリー液を連続的に供給するための調合タンクと供給タンクを内蔵しています。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 加熱装置

ヒーター部はPFA被覆されている為優れた耐薬品性を示します。液中から直に加熱できる為電熱効率が高いです。フランジ型、ネジ込み型のラインナップがあり、加熱槽内部の液を抜かずにヒーターを交換できます。 【特徴】 ○ヒーター部はPFA被覆されている為優れた耐薬品性を示します。 ○液中から直に加熱できる為伝熱効率が高いです。 ○装置側の仕様に合わせてフランジ型とネジ込み型が選択できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

• 加熱装置