更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
631～645 件を表示 ／ 全 1121 件
テフロンスクレーパにてスケーリング（焦げ付き）を防止！豆知識もご紹介します！
『減圧脱水乾燥装置』は、蒸留釜内に独自の撹拌・排出スクリューを 内蔵している為、スケーリング（焦げ付き）に強いという特長があります。 構造がシンプルな為、取扱が非常に簡単で、角度付け攪拌で蒸留残渣は 自動排出が可能。 また当製品の豆知識として、「攪拌羽根」は析出した残渣が蒸留釜内壁に こびりつかないようにテフロンの板羽根で常に内壁をこすり洗いしており、 残渣を自動排出させる為に、テフロンの板羽根に角度を付けて残渣を 排出口に送り出しています。 【特長】 ■蒸留釜内に独自の撹拌・排出スクリュー（テフロン板）を内蔵 ■スケーリング（焦げ付き）に強い ■角度付け攪拌で蒸留残渣は自動排出 ■構造がシンプルな為、取扱が非常に簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金属材料加工や半導体部品製造業などで導入実績を保有！多数のラインアップもご紹介
当社が取り扱う『減圧脱水乾燥装置』は、2021年4月30日時点で、 日本国内で264台、海外で88台と計352台の導入実績がございます。 食品製造業のM社様をはじめ、食品製品原料加工業のO社様や 半導体部品製造のS社様など様々な導入実績を保有。 岡山県某所のステンレス製品製造業のO社様では、新設工場の建設にあたり、 製品生産過程の洗浄工程から排出されるリンス水の処理に減を採用。 通常の排水処理施設と比べ、非常にコンパクトで場所をとらず、 管理が楽だと大変喜ばれています。 【導入実績（一部）】 ■食品製造業：M社様 ■金属材料加工業：A社様 ■食品製造業：B社様 ■食品製品原料加工業：O社様 ■半導体部品製造業：K社様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大幅コスト削減でゼロエミッション達成！90%以上の減容に成功した事例をご紹介！
『減圧脱水乾燥装置』を導入した、静岡県にある金属材料加工業の A社様の事例をご紹介します。 同社では、20000L/日の水溶性圧延油廃液を引取処理に出していたため、 処分費用が大きな負担となっていましたが、減導入により90%以上の減容に成功。 さらに残渣の油分は含水率が低く良質なため、有価物として引き取られる 事となり、ゼロエミッション達成と、大幅なコスト削減に成功しました。 【事例概要】 ■お客様名：A社様 ■所在地：静岡県 ■業種：金属材料加工 ■導入機種：G 1000型 ■導入時期：2012年3月 ■処理廃液：水溶性圧延油廃液 ■処理量：20000L/日（24H/日稼動） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
導入後は産廃引取量が約7割減！大幅な産廃排出量削減とコスト改善を達成した事例
『減圧脱水乾燥装置』を導入した、山形県某所にある食品製造業の B社様の事例をご紹介します。 同社では、導入前には、毎日大量の廃ゼリーが発生し、産廃引取費用が 嵩んでいましたが、導入後は産廃引取量が約7割減となったため、 大幅な産廃排出量削減とコスト改善を達成。 また、導入時には「平成24年度循環型産業施設整備事業費補助金」の交付を 授与したため、さらに大幅なメリットを得ています。 【事例概要】 ■お客様名：B社様 ■所在地：山形県某所 ■業種：食品製造 ■導入機種：G 300型 ■導入時期：2012年12月 ■処理廃液：廃ゼリー ■処理量：6000L/日（24H/日稼動） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸留、濃度調整をして再生利用を実現！産廃処理コストの大幅削減となった事例
『減圧脱水乾燥装置』を導入した、群馬県にある食品製品原料加工業の O社様の事例をご紹介します。 同社では、以前は洗浄用アルコール水溶液（35%）使用済液を 全量産廃引取処分していましたが、減で蒸留、濃度調整をして再生利 用を実現。 その結果、産廃処理コストの大幅削減となりました。 【事例概要】 ■お客様名：O社様 ■所在地：群馬県 ■業種：食品製品原料加工 ■導入機種：G 150型（安全増防爆） ■導入時期：2014年3月 ■処理廃液：洗浄用アルコール水溶液再生 ■処理量：2760L/日（20H/日稼動） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
減容率は96.42%！処理の簡素化と大幅なコスト削減を実現した導入事例のご紹介！
『減圧脱水乾燥装置』を導入した、長野県にある半導体部品製造業の K社様の事例をご紹介します。 同社では、以前はマイクロフロー→フィルタープレス→ディスクドライヤーで 処理していましたが、前期工程を減1台にまとめることで、処理の簡素化と 大幅なコスト削減を実現。 導入後、釜残渣の有価引取を模索しており、実現すればさらに導入効果が 大きくなる見込みとなっております。 【事例概要】 ■お客様名：K社様 ■所在地：長野県 ■業種：半導体部品製造 ■導入機種：G 500型 ■導入時期：2014年10月 ■処理廃液：メッキ工程廃液 ■処理量：10000L/日（24H/日稼動） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
無菌接続ポート、ゴム栓投入リフターを含め、一連の供給システムを完備。
仕上がり乾燥度0.3～0.5Ｗ％、0.1％以下も可能で、滅菌・乾燥のバリデーションが容易であり、オプションでシリコン処理が可能。
【お試しレンタル中】 使ってみればわかる、感覚的な操作、オプション豊富
【1週間程度の無料レンタルのご希望は、下記のお問い合わせフォームから↓】 アントンパールのすべてのパワフルな合成リアクター、MonowaveシリーズおよびMultiwave 5000 SOLVは、優れたパフォーマンスを提供します。最小量からグラムスケールのライブラリ生成、バッチ処理まで、合成アプリケーションの最適なソリューションが見つかります。どのソリューションを選択しても、システムの直感的なソフトウェアにより、反応パラメーターを正確に制御できます。 アントンパール社のマイクロ波合成の世界にアクセスして、理想的なリアクターを見つけ、アントンパール社の合成リアクターで成功した1000件を超えるアプリケーションが含まれるデータベースを検索してください。
マイクロ波で加熱することで、固形試料の酸分解や、合成が効率的に行えるだけでなく、多くのメリットを有します。
マイクロ波酸分解の基本、また合成については、それぞれガイドブックを作成しています。無料ですので、下記のリンクからご請求ください。 試料の前処理と化学合成には類似点があります。どちらも高温で効率的になり、一部のアプリケーションは高温でしか機能しません。 温度を上げると反応時間が大幅に短縮されます。アレニウスの式に基づくと、経験則によれば、温度を10℃上げると反応速度が2倍になります。 言い換えれば、140℃で5時間の反応は、200℃で5分未満で終了します。
モノウェーブ200は、小規模から中規模のマイクロ波合成（有機合成・無機合成）用に設計されたマイクロ波合成装置です
高速、高圧、高温の反応のための高度な常時安全機能が万全です。 正確な加熱プロファイルにより、研究開発ラボのすべてのアプリケーションで生産性と製品の純度を向上させます。 再利用可能なバイアル、キャップ、およびセプタムを使用して、消耗品のコストと環境フットプリントを削減します。 また、反応の高速化や選択性向上、無溶媒化等の可能性もあり、合成時のCO2排出削減、環境負荷や製造コストの低減などにも寄与します。 正確な温度測定 温度を正確に測定することは、後の再現性を求めたり、スケールアップ化の鍵になります。Monowaveリアクターは、IR温度センサーを介して温度を測定します。これは、絶対的に正確な温度測定を保証する、堅牢で信頼性の高い温度制御方法です。発熱反応や非常に敏感なサンプルを含む反応など、さらに要求の厳しい反応を正確に制御するために、オプションの光ファイバー ルビー温度計を使用した内部温度測定を同時に行うことができます。 バージョンアップ 購入後、上位クラスのMonowave400、450へアップグレード可能。まずはMonowave200から始めましょう。
比重差で“水”を浮かせるHFE乾燥の新基準。『3つのゼロ』で品質を決める――それが私たちの仕事です。
従来のIPA乾燥や温風乾燥で課題となっていた「水染みゼロ」「乾燥ムラゼロ」「引火リスクゼロ」を実現。 弊社独自の水分除去装置により、HFE溶剤中の微量水分を常時管理し、乾燥品質を安定化させます。 ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる水の大半は、比重分離により装置外へ排出されます。 HFE溶剤に溶け込んだ微量水分も、水分除去装置によって確実に除去します。 HFE溶剤による水切り・乾燥システムは、洗浄後のガラスや金属製品に付着した水を比重差と超音波作用で素早く分離し、水染みを完全に防止します。 ガラス・レンズ・金属部品などの精密乾燥工程で、安全・省エネ・量産対応を実現します。 【特徴】 ○ IPAを使用しないため、引火・安全面のリスクを回避 ○ 乾燥に必要なエネルギー消費量を大幅削減し、CO₂排出を抑制 ○ 洗浄スピード向上により量産ラインにも対応 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く ○ 微量水分を常時除去する「水分除去装置（オプション）」により水染み“ゼロ”を維持 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
低酸素環境でのクリーンなガス雰囲気循環ファン加熱を可能とする真空ガス置換乾燥装置
真空排気による効率的なガス置換により、処理室内の酸素濃度を迅速に低減、低酸素環境でのクリーンなガス雰囲気循環ファン加熱をおこないます。
真空乾燥装置や真空脱泡装置等、真空機器を幅広くラインナップしております。貴社のニーズに合わせた製品選択が可能です！
【真空装置総合カタログ】は、真空乾燥装置や高真空排気装置等の豊富なラインナップを掲載しています。製品仕様、各機器の特徴、応用例等を加え、よりわかりやすく、お客様のニーズに最も適合する機器のよりスムーズな選定ができるような構成になっています。また、【規格品総合カタログ】は、真空ポンプや真空計等、広範囲にわたり掲載しております。真空を作り利用するにあたっての必要アイテムを網羅し、お客様の用途に合わせた機器の選択、組み合わせが可能です。是非カタログダウンロードよりご覧ください。冊子ご希望の方はお問い合わせよりご連絡ください。
多数の乾燥装置製品のほか、乾燥装置選定表を掲載！
当カタログは、心のこもった製品づくりで信頼と期待に応える、富士工機の 乾燥装置製品の総合カタログです。 粉状、粒上のものだけでなく、液状、泥状、ケーキ状のものの乾燥も可能な フジクロン「真空ウィングドライヤ」をはじめとした多数の製品を紹介。 製品の写真や特長、用途のほか、乾燥装置選定表も掲載しており、商品の選定に 役立つ1冊となっております。 【掲載製品(抜粋)】 ■真空ウィングドライヤ ■真空ミックスドライヤ ■ダブルディスクドライヤ ■沪過ドライヤ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1台で反応、濃縮、晶析、乾燥、粉砕が可能！熱感受性の強い原料の乾燥に好適
『真空ウィングドライヤ』は、粉状、粒上のものだけでなく、液状、泥状、 ケーキ状のものの乾燥ができる、乾燥装置です。 両持式または片持式の攪拌羽根を入れた円筒型、または溝型の 真空容器内に原料を入れ、ジャケットおよび攪拌軸からの伝熱により、 攪拌、混合、粉砕しながら均一に乾燥します。 【特長】 ■粉状、粒上のほか、液状、泥状、ケーキ状のものの乾燥が可能 ■真空下で低温乾燥のための熱感受性の強い原料の乾燥に好適 ■コンデンサを用いることで、用材の回収が容易 ■破砕棒を採用することにより乾燥速度が早くなる ■特殊原料での製作も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
