更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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調理と配缶場所を明確に区分して作業性を高められる！状況に応じた移動や固定が可能
『和え物盆SMK』は、内釜を取り外し、シンクで洗浄できる 排水用の床ピットが不要な内釜着脱移動式和え物盆です。 内釜1個当たり65Lでおよそ600食の調理に対応。 1校単位での調理、配管が可能なので喫食までの時間を短縮し、 トレーサビリティも確保できます。 また、果物提供時や清掃時など使用状況に応じて移動や固定ができます。 ロックは2か所に取り付けられたフットレバーを踏み込むだけで簡単です。 【特長】 ■簡単設置 ■少量調理 ■移動式 ■内釜着脱式 ■内釜回転 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ひとつ上の美味しさを実現する、スチーム専門メーカーの技術力。調理から除菌、乾燥まで幅広く対応したオーブンです。
過熱水蒸気オーブン『DFC-800-2R』は、 最高400℃の過熱水蒸気を常圧加熱で実現しました。 過熱水蒸気の「凝縮熱」は、豊富な熱量で食材を素早く均一に焼成し、 旨味と水分を閉じ込めてジューシーな食感をキープ。 調理庫の上部に扉を設置（フロントウイングハッチ式） 日頃の洗浄やメンテナンス工程がシンプルになり、時間とコストを低減します。 「過熱水蒸気」は調理だけでなく、除菌・乾燥・脱臭・焙煎・油ヌキなど、様々な利用方法があります。 【特長】 ■平均歩留まり率が80％、生産性が大幅アップ ■上部扉が簡単に開閉（フロントウイングハッチ式）で、清掃性が格段にアップ ■高温の水蒸気を、安全で大量につくることが可能 ■超低酸素状態で調理する過熱水蒸気は食品が酸化しにくい ■できたての風味と食材本来の色味を長時間キープ ■におい移りがなく、異なる食材の同時調理も可能 当社は6月10日～6月13日に開催されるFOOMA JAPAN 2025に出展いたします。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
環境にやさしい低排出、低ランニングコストを実現した洗浄機
有機ELパネル製造ラインで使用される蒸着用メタルマスクを、新品同様の品質へ再生する量産対応洗浄装置(特許取得済)です。 洗浄後溶剤は蒸留・分離機構で自動再生、常時新液状態を維持。 廃液量は極少で、低ランニングコストと低環境負荷を両立。 HFE溶剤も蒸留機＆HC/HFE分離装置により再生・再利用可能。 日本・台湾・中国の有機ELメーカーで多数採用され、スマート フォン向けパネルの歩留まり向上と製造コスト削減に貢献。 【特徴】 〇洗浄方式は独自の“コ・ソルベント方式”を採用。 〇使用したHC溶剤は内蔵の真空蒸留装置により有機物を分離・ 排出後、洗浄工程へ循環再利用されます。 〇洗浄を終えたメタルマスクはリンス・乾燥工程へ搬送、 リンス後は低真空の真空乾燥工程で仕上げます。 〇使用するHC・HFE溶剤はいずれも蒸留装置・回収装置を 経由して再利用され、ランニングコストを大幅に低減。 蒸留機の搭載により、洗浄液は常に新液状態を維持し、 汚染成分は凝縮・分離されて少量の廃液として排出されます。 ※従来の全量液交換は不要
溶剤消耗量を減らしてランニングコストを激減！ 蒸留＆分離で洗浄溶剤を常に再生・再利用する洗浄機です。
溶剤の再生・再利用でランニングコストを大幅削減！ 2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。 弊社の『コ・ソルベント方式脱脂洗浄機』は、炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）とフッ素系洗浄溶剤（HFE/HFO溶剤）の2種類を組み合わせた高精度洗浄システムです。 乾燥性能に優れるため、引火点の高い安全な溶剤が選択可能。 レンズ･プリズム･精密部品など熱に弱いワークにも最適です。 リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤はそれぞれ洗浄槽に戻され、再利用します。 分離・蒸留装置で溶剤再生＆洗浄槽へ戻すを繰り返すことで溶剤消費量を最小化できるため、経済的な運用が可能。 【特長】 ◆洗浄溶剤を再生・再利用することで、溶剤消耗量が激減 ◆高精度リンス･乾燥で加工油･防錆油汚れ･微細油分も除去 ◆乾燥性能に優れるため、溶剤選定時には安全性を重視 ◆洗浄物が高温にさらされる事が無いため、取扱いが容易 【詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせ下さい】
切削油・防錆油の除去に最適！安全・低コストな炭化水素系洗浄装置。
切削油・防錆油などの油汚れを、炭化水素系溶剤で安定して 除去します。 主に脱脂洗浄に用いられ、次工程への影響を抑えた安定した 洗浄品質を実現します。 当社では炭化水素単独装置のほか、フッ素系溶剤との併用機 も多数実績があり、洗浄目的や安全性・環境対応に合わせた 最適な装置をご提案します。 ◇切削油・防錆油などの脱脂洗浄に最適 ◇真空乾燥・冷却機能などの安全設計にも対応 ◇炭化水素単独／複合洗浄の両方に対応可能
基材を痛めずに洗浄やコーディング膜の削除を可能とした噴流加工
SIRIUS-Oは、噴流加工技術を搭載した洗浄装置です。 噴流加工とは、弾性体であるメディアを噴射し、スベリながら被加工物に アタックすることで面ダレ・梨地などが発生しない加工技術です。 被加工物へのダメージも無く、コーティング膜のみを落とすことができるので、精密部品の洗浄などに適しています。
洗浄槽にはフィルター循環方式を採用
【特長】 ●汎用性の高い洗浄槽+リンス槽（２槽）の組み合わせ ●超音波発振器は洗浄槽とリンス槽（１槽）に装備（38ｋＨｚ/600Ｗ） ●洗浄槽にはフィルター循環方式を採用 ●リンス槽は２槽のフロー方式でヒーター（ＭＡＸ５０℃）が付属 ※詳細は【資料請求】まで
ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減！ウェット洗浄に比べて大幅な時間短縮！
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 ★☆★【無料デモ】実施中！！★☆★ 【特徴】 ●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適 ●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。 ●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。 ●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要 ●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！ ●作業者に負担のかからない安全設計。 ★【無料デモ】ご希望の方は≪お問い合わせ≫よりご連絡ください★
精密部品、光学ガラス部品から自動車・衛星まで。幅広く利用可能の蒸気洗浄機
精密部品、光学ガラス部品をはじめとして電子部品や自動車関係、衛生関係部品に至るまで幅広い分野で使用する事が可能。 真空装置で問題となる「出ガス」を大幅に取り除く事も可能とした蒸気洗浄機です。
【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業者の負担も軽減されます
「MDC8540L」は、パワーデバイスや青色レーザーダイオード、青色LED等の化合物半導体製造用MOCVD装置の治具に、成膜時に堆積するGaN、AlN等のドライエッチング方式で洗浄するMDCシリーズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない、安全設計 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ガラスの各種洗浄及びプロセス間での液切りに最適！！
PVAロールスポンジはカーボンシャフトを使用し、P V A スポンジ表面に特殊研磨加工を施し、高精度な洗浄を可能とします。従来と比較し、ガラス洗浄のP V A スポンジとしては、最長の3 6 0 0 mmまで製作が可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
２種類のフィルター搭載したろ過システム
研磨材ろ過システムは、２種類のフィルターを搭載したろ過システムです。１次フィルターはバッグ式３層フィルター（※メッシュ＃50 メッシュ＃80 メッシュ＃200）、２次フィルターはカートリッジフィルター（特殊形状）です。循環研磨材の中に含まれる異物を除去し再度研磨機へ供給致します。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
