現像装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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現像装置 - 企業19社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年04月02日~2025年04月29日
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企業ランキング

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  1. 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
  2. 日本ベーカーヒューズ株式会社&ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社  東京都/試験・分析・測定 (旧)GEセンシング&インスペクション・テクノロジーズ株式会社 & GEエナジー・ジャパン株式会社
  3. 株式会社二宮システム 大阪府/その他
  4. 4 アクテス京三株式会社 神奈川県/産業用機械 技術センター
  5. 5 株式会社ラットコーポレーション 愛知県/商社・卸売り 本社:営業部・業務部

製品ランキング

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  1. コンパクトフィルム自動現像機 NOVA 日本ベーカーヒューズ株式会社&ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社  (旧)GEセンシング&インスペクション・テクノロジーズ株式会社 & GEエナジー・ジャパン株式会社
  2. 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
  3. 小型現像機 SPseries SPD40 株式会社二宮システム
  4. 4 2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー) 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
  5. 5 スプレー/パドル兼用 小型スピン現像装置(デベロッパー) アクテス京三株式会社 技術センター

製品一覧

16~30 件を表示 / 全 40 件

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シンボリックテック フィルム自動現像機

十分な柔軟性を持った7つのプログラム可能なプロセスチャネルを装備

『シンボリックテック フィルム自動現像機』は、PCBフィルム 自動現像技術において培われた全ての経験と技術を結集した装置です。 中間の水洗システムは引き込みローラーを持ち、絶えず次工程への ケミカル持ち越しを最小とするようフィルムクリーンナップを行っています。 また、次工程へ渡すクロスオーバーローラーは液面の上方に位置し、 簡単に取り外し清掃出来るよう設計されています。 【スタンダード機能と付属品】 ■取り外し可能なフィードテーブル ■ユーザーサイトにおいてより高度な生産能力へのアップグレード可能 ■現像液量の低下を監視 ■現像、定着、水洗の外付けフィルター ■フィルター交換時期告知アラーム ■自動スタンバイ、低電力モード ■モニタリング機能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他画像関連機器

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研究開発用小型現像機 SPD40

研究開発用小型現像機 SPD40

【工程】投入→現像→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型薄板用現像装置 FBD40

小型薄板用現像装置 FBD40

【工程】投入→エアーナイフ→現像→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型超高精度現像装置 MPD40

小型超高精度現像装置 MPD40

【工程】投入→現像→液切→リンス→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型現像装置 ED25

小型現像装置 ED25

当社水平搬送式モデル最小サイズ

  • その他半導体製造装置

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セラミック基板用 現像装置

セラミック基板用 現像装置

現像・エッチングのファイン化技術や高度な薄板搬送技術を駆使してお客様の付加価値向上に貢献します。

  • その他実装機械

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二宮システム製 ガラス基板現像装置

二宮システム製 ガラス基板現像装置

最適なノズル配置により高精度な現像を実現

  • その他半導体製造装置

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半自動フォトレジスト現像装置(セミオートデベロッパー)

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。

当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリングユニットを搭載。 自動機を導入するほど生産量が多くないけどもマニュアル機では 工数の問題で導入できない等でお悩みのお客様におススメです! 御社のニーズに合わせた半自動機を設計・製造いたしますので 新規装置の導入でお困りのお客様はぜひご検討ください! TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■自動搬送機能 ■低価格を実現 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

  • レジスト装置

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角基板対応自動レジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

低粘度~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの装置も作製可能です!

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板や角基板の搬送実績も多数あります! 【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応可能 ■回転カップ塗布方式による均一な成膜分布 ■2~12インチまで対応可能 ■複数種類ウエハ処理可能(3・4・5インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • コーター

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スプレー/パドル兼用 小型スピン現像装置(デベロッパー)

高品質・低価格・省スペースを追求 スイングスプレー式、パドル方式の両方に対応したデベロッパー

マルチステッププログラムは99ステップ×50パターン保存可能。 薬液系統増設や薬液温調システム等のオプションもご用意しています。 他サイズ、特注仕様もご相談下さい。

  • レジスト装置
  • エッチング装置
  • その他半導体製造装置

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スピン洗浄装置 スプレー現像装置 SD-8004型

自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います!

SD-8004型は、4 ~8 ウエハーのスピン式スプレー現像装置です。自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います。条件設定は操作パネル上のタッチパネルで行います。各処理モード中はタッチパネル上に各モードが表示されます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • コーター
  • その他半導体製造装置

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フォトリソ用小型現像装置

フォトリソ用小型現像装置

スイングノズル式 スプレー現像・パドル現像対応装置 【特長】 ・高性能、低価格、コンパクト卓上タイプ ・ワークサイズ Φ1 〜Φ6 ・液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作 ・薬液圧送ポンプ2系統を内蔵 ◆詳細仕様はカタログより◆

  • エッチング装置

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有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T

装置寸法:1700W×1300D×1400H

基板をマニュアルでチャックにセットし、パドル現像、リンス、スピン乾燥します。 本体側面にキャニスター缶を収納可能。

  • その他半導体製造装置

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全自動スクリーン版現像機

全自動スクリーン版現像機

スクリーン印刷機メーカーだからこそ、の、スクリーン版への「こだわり」と「経験」が生み出した、スクリーン版製版機材です。 露光後のスクリーン版現像作業は従来、スプレーガン等による手作業で行われていました。 しかし、近年の印刷パターンの精細化、スクリーン版の大型化により、要求される製版品質を満たす事が非常に困難なものになりつつあります。 そこで御勧めしたいのが、このミノスクリーンプロセッサー2です! 御好評頂きましたミノスクリーンプロセッサーに、よりユーザーライクな仕様を実装してリニューアルしたのが、このミノスクリーンプロセッサー2です。 全自動運転ならではの均一で強力な洗浄能力は、高い製版精度を確実なものとします。 また、バックライトが標準搭載されており、版のヌケを簡単に確認する事が出来ます。 洗浄音や現像水の漏洩を防ぐサッシ戸の標準装備により、作業環境への圧迫もありません。 現像水を循環使用する事により、コストと共に環境への負荷の軽減にも役立ちます。

  • その他加工機械

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塗布・現像装置 ACS200

全自動最大200mm対応

全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキングさせることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能

  • その他加工機械

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