石英の製品一覧
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紫外管タイプ殺菌器です １本の深紫外UVC管CCLを使っています ＵＶＣ殺菌対象）スマホ、マスク、身の回り小物
- 紫外線照射装置
- その他オフィス備品
- ランプ・発光素子
Optogama社製モーター駆動式ビームエキスパンダ、レーザービームを拡大等倍縮小、優れたポインティング安定性、コンパクトサイズ
- レーザ部品
- 光学実験部品
- その他光学部品
≪加熱炉≫最高1800℃/高速昇降温/温度制御性能[観察動画付]加熱中の観察用だけでなく、加熱炉としても。
集光加熱炉「IRシリーズ」は、世界中の様々な研究機で使用され、カスタマイズにも柔軟に対応します ▼IRシリーズ特徴▼ 急速加熱性能と温度制御の優位性、観察ポートからの情報が加熱実験時間の大幅短縮、最適な加熱条件のスクリーニングなどを容易にし、材料開発業務効率の向上に貢献できます。 ▮急速加熱冷却&温度制御性能 集光加熱方式で約50℃/secの昇温性能で、加熱ランプOFFで急冷も可能で、温度制御性能では加熱ランプボリュームの高速PID制御で温度プログラムに対し、温度制御性±1℃以内を実現します。 ▮各種雰囲気への対応 すべての炉で真空チャンバー構造を採用しており、ガス置換可能です。高真空下の加熱、不活性ガス、還元雰囲気下、バブリングによる加湿露点制御雰囲気などにも対応しています。 ▮手軽に実験・観察が出来る コンパクト＆省エネのため設置場所を選びません。昇温速度が速いため、事前に炉を温める時間が必要がなく、実験を行いたい時に行うことが出来ます。 ▼その他詳細特徴▼ ・加熱中のリアルタイム観察 ・クリーン 観察動画や、観察画面の遷移例などは、関連リンク内記事にてご確認ください！
波長可変レーザーや広域スペクトル光源との使用に理想的な、広い波長範囲で優れたリタデーション特性を持つアクロマティック波長板
- レーザ部品
- 光学実験部品
- その他光学部品
精密洗浄に適する高い周波数洗浄機（500kHz、1MHzHz）----<<テスト機レンタル（有償）、お問い合わせください>>
- その他半導体製造装置
マイクロ波帯で誘電損失が小さいセラミックス基板、マイクロ波用誘電体基板、曲がるセラミックスを製造から薄膜パターン形成まで一貫生産
- 高周波・マイクロ波部品
- ファインセラミックス
Optogama社製手動可変式ビームエキスパンダ・レデューサ、連続的にビーム倍率を可変、ハイパワーレーザーアプリケーションに！
- レーザ部品
- 光学実験部品
- その他光学部品
タンタル酸リチウム／ニオブ酸リチウムなど脆性ウェハーのラッピング加工におすすめ！GC,アルミナなど各種砥粒に最適な砥粒分散剤です
- 油脂
- 潤滑油
- その他金属材料
New 「スラリー分散剤のいろは」～実践編～
スラリー分散剤の基礎知識ほか、実践に役立つ情報が盛り沢山。課題ごとにおすすめの油剤もご紹介 大人気「スラリー分散剤のいろは 入門編」に引き続き「実践編」をリリースいたしました！ スラリー分散剤の基礎知識ほか、実践に役立つ知識をお届けします。 さらに、今回はスラリー分散剤の選び方や押さえておきたいポイントなど知って得する情報が盛り沢山。課題ごとにおすすめの油剤もご紹介 嬉しいキャンペーンのお知らせも♪
Optogama社製電動可変式レーザーパワーアッテネータ、ビームを減衰、制御、優れた安定性、再現性、コンパクトサイズ
- レーザ部品
- 光学実験部品
- その他光学部品
ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処理装置 （Ｏ２ｏｒH2雰囲気アニールサンプルテスト対応）
- その他理化学機器
- 加熱装置
富県宮城グランプリ受賞いたしました！
この度宮城県より第9回「富県宮城グランプリ」を受賞いたしました。 県産業の発展地域、地域経済の活性化に最も貢献したと認めるものに与えられる賞とのことで大変光栄に思っております。 これを励みに今後も前進し続けてまいります。
１つのACアダプターで複数の殺菌灯を点灯可能
インバータ内蔵型の冷陰極殺菌灯。 １つのアダプターに対し複数のランプを点灯可能に。 省スペース化に貢献します。
各種ウエハーサイズ(2"～12")または規格に合わせ、専用治具を製作いたします！材質も様々ご用意できます！！
- ウエハー
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
●微細回路パターンLine/Space：30μm/30μm ●パターン寸法精度：±10μm
- 高周波・マイクロ波部品
- ファインセラミックス
時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、パーティクル低減、装置稼働時間が大幅アップし、生産性向上！
- エッチング装置
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテスト対応によるプロセスサポートが特徴のプラズマエッチング装置
- エッチング装置
- その他理化学機器
- プラズマ発生装置
３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基板にも対応。先端電子デバイス量産用熱処理装置
- アニール炉
石英管オゾン発生器の世界市場：水冷式、風冷式、飲料用水処理、産業廃水処理、都市下水処理、ガス消毒
- その他の各種サービス
