「GCxGC-MSによる原油中のバイオマーカーの特定」
「GCxGC-MSによる原油中のバイオマーカーの特定」のスペシャルレポートです
LECOジャパンでは、LECO社の分析装置でお客様の分析業務がより高精度化、効率化、安全性を図れるであろうサンプルをピックアップしスペシャルレポートとしてご案内いたします。是非ご覧ください。また、類似のサンプルに応用できるかがお知りになりたい場合は、気兼ねなくお問い合わせください。
- 企業:LECOジャパン合同会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年09月24日~2025年10月21日
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「GCxGC-MSによる原油中のバイオマーカーの特定」のスペシャルレポートです
LECOジャパンでは、LECO社の分析装置でお客様の分析業務がより高精度化、効率化、安全性を図れるであろうサンプルをピックアップしスペシャルレポートとしてご案内いたします。是非ご覧ください。また、類似のサンプルに応用できるかがお知りになりたい場合は、気兼ねなくお問い合わせください。
研究開発や品質管理に好適!様々なサンプルのオイル、水、フッ素などを測定可能
『MQC+』は、コンパクトな卓上型核磁気共鳴(NMR)分析装置です。 少量のサンプルや高感度測定のアプリケーションに使用される 「MQC+23」をはじめ、「MQC+5」、「MQC+F」の3つのモデルをご用意。 数秒、長くても数分で分析結果が得られ、 簡単で迅速で正確な品質保証と研究開発を実現します。 【特長】 ■簡単なトレーニングで操作可能 ■非破壊分析 ■費用対効果 ■最小限のサンプル前処理 ■危険な溶媒や化学薬品が不要 ■迅速な分析 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
2点の問題を解決するために濃度既知の試料を3点以上分析。
歪 Si デバイスに用いられる組成比勾配を持つ Si(1-x)Gex膜の深さ方向に 対するGeの濃度分布を正確に定量するのに SIMS(2 次イオン質量分析法)が 用いられます。 SIMS で Si(1-x)Gex 膜を分析する際に 2 点解決しなければならない問題があり、 1点目はSi に対する Ge の2次イオン強度が組成比の変化に伴い大きく変化 するので、組成比毎の相対感度因子を決定する必要があります。 もう一点は、Si と Ge の組成比が変化する事により分析点毎のスパッタリング レートが変化するので、組成比とスパッタリングレートとの関係を求める 必要があります。 この2点の問題を解決するために濃度既知の試料を3点以上分析し、RSF と スパッタリングレートが決定しました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
化合物半導体系超格子サンプルを使用した深さ分解能測定の結果を掲載!
当事例集は、イオン注入、成膜・分析、研究・事業化マネジメントの サービスなどを提供している株式会社イオンテクノセンターの 深さ分解能測定の結果を掲載している事例集です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ:ADEPT-1010)によって、 Al0.28Ga0.72As/GaAsを50nmずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した 化合物半導体サンプルを試料として用いて、深さ分解を求めた結果を 掲載しています。 【掲載概要】 ■深さ分解能測定の結果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
質量分析による薬剤耐性検出アッセイ!簡単なワークフローなどを解説
MBT STAR-BL ソフトウェアモジュールは、MBT STAR-Carba および MBT STAR-Cepha キットと併せて使用することによって、 細菌内の β-ラクタマーゼ活性の分析で、信頼性が高く、迅速で費用対効果の高い分析を可能にします。 【掲載内容(一部)】 ■MBT STAR-BL アッセイ-簡単なワークフロー ■MBT STAR-Cepha キット ■MBT STAR-Carba キット ■MBT STAR-BL の分析-便利なキット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※本製品は研究用です。臨床診断目的には使用できません。
取得・解析したデータにMBT抗酸菌ソフトウェアモジュールを適用!
『MALDIバイオタイパー 抗酸菌ライブラリ』は、MALDI-TOF質量分析計を 通してより高い信頼性と迅速な抗酸菌の同定を必要とするラボに解決策 を総合的に提供します。 抗酸菌ライブラリ7.0は182菌種を収載。 1069株のうち584株は臨床分離株であり、抗酸菌の自然界での多様性をカバーしています。 さらに、取得・解析したデータにMBT抗酸菌ソフトウェアモジュールを適用し、 高感度に抗酸菌同定を行うことができます。 【特長】 ■MycoEX-好適かつ安全に抽出するプロトコール ■個体培地も液体培地も同じワークフロー ■国際マイコバクテリアコンソーシアムによる菌株カバレッジの向上 ■好適な抗酸菌同定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※本製品は研究用です。臨床診断目的には使用できません。
シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。
■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。 ■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。 ■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富 ■基板サイズごとにシリーズ化した標準装置ですが、カスタム対応も可能です。 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」 ◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載 ◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去 ◎スクラブブラシは、ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態で選択 ■各種オプションで多様なニーズに対応 ◎<洗剤の自動希釈><ブラシの自己超音波洗浄><CO2イオナイザー><MS洗浄> ■基板のC/C自動搬送処理装置にも対応実績豊富 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置
お客様の装置を最適な状態でお使いいただくために、さまざまなサービスパッケージをご用意しています。
いつでも最適なサポートを提供するために、カスタマーサポートのスペシャリストがお客様のお手伝いをします。装置の納入時から、設置、調整、装置性能のチェック、試験結果など、お客様の個々の測定ニーズにお応えするサービスを提供します。
官能基や骨格構造など、様々な分析手法から情報を得て解析!質量分析ガイドをご紹介
当資料では、質量分析ガイドをご紹介しております。 有機化合物の分析では化合物が有する官能基、骨格構造、質量など、 様々な分析手法から情報を得て解析を行います。 化合物の質量を知る為の分析として様々な手法があり、それぞれ得意な 分析内容や対象があります。また、用途に合わせて使い分けたり、 他の分析手法と組み合わせて使うことで必要な情報を得る事が出来ます。 【掲載内容】 ■質量分析で主に用いられる手法 ・GC-MS ・LC-MS ・MALDI-TOFMS ・GPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
イオンを検出器で検出し、定性・定量をおこなう分析手法です
液体クロマトグラフィー(LC)は、クロマトグラフ法の一種に分類され、液体状のサンプルをクロマトグラフィーの原理により成分の分離を行います。ここで分離された成分の検出を質量分析計で行うものを液体クロマトグラフィー質量分析法(LC/MS)と言います。 LC/MSは有機化合物の定性・定量を行う分析手法です。 ・分子量が比較的大きいまたは極性が比較的高い成分の分析に有効 ・イオン化方法を選択することにより、熱に不安定な物質などにも対応可能 ・様々なイオン化法があり、成分に最適なイオン化法で検出することが可能(エレクトロスプレーイオン化法(ESI)・大気圧化学イオン化法(APCI)・大気圧光イオン化法(APPI)) ・Time-of-Flight法を利用した質量分析器により、高い質量分解能を得ることが可能
サンプルを加熱することによって生じる重量変化・示差熱・熱量および揮発成分の質量を測定
TG-DTAは、加熱によって生じる重量変化(TG)、吸熱・発熱の熱挙動(DTA)を同時に評価します。 またTG-DTA-MSはTG, DTAの評価に加え、揮発成分の評価(MS)を連続して行います。 ・TGにより、%オーダーの重量変化を捉えることが可能 ・DTAにより、熱分解・融解・昇華・酸化・燃焼・相転移等の反応の知見を得ることが可能 ・MSにより、揮発成分や分解物の構造推定が可能
酸化物デバイスにおける局所元素分布を酸素同位体を用いて高感度に評価
酸化物ReRAMでは、電場印加に伴う酸素拡散がメモリ動作(抵抗変化)と関連しているとされていました。 SIMS分析では同位体を測定可能であるため、同位体18Oイオン注入技術を利用すれば、酸素拡散の追跡が可能となります。18Oを局所的に注入した素子に対し、電場印加により動作領域となるブリッジ構造を形成し、元素マッピングを行った結果、ブリッジ部では18Oの強度が弱く、局所的に還元されていることが分かりました。
表面の凹凸の影響を受けない高精度な測定が可能です
太陽電池では太陽光を有効に吸収するために表面凹凸を活用しています。SIMS分析を行う上で、表面の凹凸は深さ方向分解能の低下を招きます。表面からの測定では表面凹凸及びノックオンの影響により、CIGS中へCd、 Zn、 Oなどが拡散しているように見えます(図3)が、基板側(裏面側)から測定することにより、Cd、 Zn、 OなどのCIGS層中への顕著な拡散がないことがわかります。(図4) 相互拡散の他にも、主成分(Cu、 In、 Ga、 Se)の組成変化、不純物(B、 Na、 Fe)の濃度分布の評価が可能です。
膜厚1nm程度のSiON中Nの評価が可能
高感度なSIMS分析が得意とする低濃度領域に至るまで、SiON膜中Nの分布を深さ方向に評価し、N量(単位:atoms/cm2)を高い精度で評価が可能です(図1)。またNをatomic%へ変換(図2)、Nのフィッテングカーブ算出することができ、フィッティングによりNのピーク濃度・深さ・半値幅を算出(図3)することが可能です。
SSDP-SIMSによる測定面の凹凸・高濃度層の影響を避けた測定
基板側からSIMS分析(SSDP-SIMS)を行うことで、表面の凹凸・スパッタに伴う表面側高濃度層からのノックオンの影響を受けない測定が可能です。ゲート電極(BドープPoly-Si)から基板へのボロンの突き抜け量を評価しました。基板側からの測定ではノックオンなどの影響が見られず、より正確な突き抜け量評価が可能であることがわかります。このように、バリアメタルのバリア性・Low-k膜中への金属の入り込み・凹凸のあるシリサイド直下の評価にSSDP-SIMSが有効です。