サーモニックENGの製品・サービス一覧

当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン＆俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気：Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度：〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途：塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気：真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす：〜1800℃前後(機種による) ・主な用途：焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、計装重視の「管状炉」を取り扱っております。 途中データが取れず焼成前後の差分しか分からない、サンプリングポートや 背圧制御が無く圧力・流速の当て込みができないなどといった課題を解決。 お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装します。 【特長】 ■必要な計装を装備：お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 　サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装 ■同期ロギング：温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで取得 ■プロセスポートの自由度：入口・出口にサンプリングポート、バイパスライン、 　ドレン/凝縮トラップを設計可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、酸化/還元雰囲気での材料評価・相転移試験を“雰囲気×温度"の 二軸で精密設計した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空システムを内蔵しており、処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減。 また、トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEでスケールアップの 当たり条件を短サイクルで抽出します。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 　計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 　炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで 　スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、NH3・COなどの発生ガスに対応した「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/ 熱酸化)まで、一気通貫で設計。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 　計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 　炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで 　スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、露点×酸素分圧を自在に設計できる「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 加湿がブレやすい/切替が遅く再現性が出ない、結露・逆流・汚染・腐食が 怖くて踏み出せない、チューブ炉では並列自由度が低く条件出しに時間がかかる などといった課題を解決。 また、仕様につきましては、お客様の要望によりカスタム可能ですので、 詳細はご相談ください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■ガス種に依存しない加湿系：N2/Ar/空気/(少量H2も可)へWetter直結で 　加湿量を設定 ■真空置換→ガス置換：試料内部空気を事前除去し、立ち上がりから狙いの 　湿潤雰囲気へ ■切替えの速さ：乾燥・湿潤、N2/Ar・空気(少量H2)を簡便に切り替え可能 ■棚積み×角型サヤ：同条件多検体で並列試験を短サイクル化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる「塩素炉」を 取り扱っております。 高温×腐食性雰囲気を安全に再現できる実験炉。塩素ガスによる高温腐食機構の 基礎研究や耐塩素性材料(高合金・被膜材・セラミックス)の耐久評価、腐食防止 コーティングの試験プラットフォームなどへの応用が理論的に期待されます。 また当社では、テスト機もご用意いたしております。 【特長】 ■塩素・塩化水素など腐食性ガス対応 ■減圧・温度の同時制御 ■乾式構造による高純度雰囲気 ■常時減圧雰囲気によるプロセスガスの漏洩リスクを低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「塩素炉」は、減圧下で温度と塩素分圧を独立制御できる構造を 有しています。 都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niといった金属が複雑に共存しており、これらを 乾式塩化揮発法により分離できれば、廃液処理の負担を抑えつつ、有価金属のみを 効率的に回収する新しいリサイクル手法が実現可能。 また、温度・圧力・塩素分圧を精密に制御できる本装置の特性から、将来的に 「都市鉱山からの有価金属選択回収」に発展し得ると考えています。 【特長】 ■低温でのベースメタル揮発：FeCl3、SnCl4などを200〜300℃付近で選択揮発 ■中温での貴金属塩生成制御：AuCl3などの安定領域を利用した貴金属分離 ■圧力制御による反応シーケンス切替：減圧条件下で塩化物の生成・分解平衡を制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、研究開発用「小型塩素炉」を取り扱っております。 管状炉の“ガス漏洩リスクが高く、安全性に乏しい"“試料スケールアップや 連続試験に不向き"といった課題を解決するために開発。 本装置は、塩素および塩化水素を安全かつ制御性高く供給できる密閉構造炉であり、 試料量を確保しつつ、腐食性ガスを用いた乾式処理を研究レベルで再現性高く 行うことが可能です。 【特長】 ■高耐食材料採用：サーモニック独自の技術により高耐食性を実現 ■スクラバー連結容易：液吸収・二段式中和塔などとの接続が簡便 ■腐食ガスモニタ対応：漏洩検知センサーとの連動運転が可能 ■スケール適応性：数g〜数100gまでの試料処理に対応 ■常に負圧での運転：大気圧よりも低い圧力で運転することにより 　プロセスガスの漏洩リスクを低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「カーボン炉」は、“極低酸素×3000℃級×真空置換"で 再現よく高温相転移・結晶化・焼結できます。 相転移・再結晶化の促進/粒成長制御(高温域での相安定化)や セラミックス・難焼結材料の緻密化焼結、表面・界面のエネルギー制御 (低酸素下での表面安定化)などのプロセスに使用可能。 研究〜少量量産の温度レシピ出しに適しています。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→Ar/N2置換(必要に応じ希薄H2※)で酸素ポテンシャルを段階低下 　※H2は装置の安全設計範囲(例：4％以下目安)で運用 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存O2を吸収し、副反応を抑制 ■3000℃級の高温安定 ・常用～2800℃/最大～3000℃、緩昇温→保持で相転移・結晶化・焼結を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「カーボン炉」は、窒化の基礎反応試験に好適です。 N2のみでは反応開始温度が高いため、粒成長・粗大化とのバランスが難しい、 冷却時に表面再酸化し、色調・抵抗・硬度のばらつきにつながるなどといった 課題を解決します。 また当社は、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→N2置換で酸素ポテンシャルを段階的に下げる ・炉材カーボンのゲッタリングが残存O2を吸収し、酸化側副反応を抑制 ■十分な高温域へ素早く到達 ・1400-2400℃まで短時間で到達・安定保持 ■短サイクルで条件出し ・トレイ自由度/棚構成で複数試料を同時評価、厚み・接触の影響を検証しやすい ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃＊＊を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安：SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用～2800℃、最大～3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200～2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、3000℃級・極低酸素の「カーボン炉」を取り扱っております。 酸素分圧が下がらず、高温域で酸化・脱炭が発生して目標特性に届かない、 チューブ炉ではトレイ自由度が乏しく処理量が低い/試料サイズ制約が厳しい といった課題を解決。 黒鉛材料や黒鉛箔・黒鉛シート、等方性黒鉛・成形体の用途に使用可能です。 【黒鉛化で効く理由】 ■極低酸素を作りやすい：炉材がカーボンで残存酸素を化学的に捕捉＋真空置換で 　試料内部空気を事前に排除 ■3000℃級の温度帯：-3000℃の黒鉛化域で均熱・保持が安定、短時間到達・高再現 ■トレイ/サヤ設計の自由度：角型サヤ＋棚積みで複数サンプルを同時処理、 　条件出しを高速化 ■雰囲気柔軟性：真空/Ar/N2/低濃度H2※で欠陥低減・熱脱離を組み合わせ可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「メタル炉」は、評価したいのは材料そのものの表面反応・ 相変化だが、黒鉛部材や有機材のアウトガス/炭素源が系を乱すことがある などといった課題を解決します。 ハロゲン・窒化・還元など化学雰囲気が敏感なプロセスは、カーボンフリー の方が再現性が高く、だからこそ、内壁・ヒータ・治具まで金属で統一した メタル炉が有効です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■カーボンフリー ・全金属(Mo/W)ホットゾーン/金属チャンバー、黒鉛・有機材不使用で 　炭素由来の副反応を抑制 ■クリーンな雰囲気切替 ・真空→Ar/N2の切替がスムーズ、置換後のブランクが低い ■反応の再現性 ・小型チャンバーで同一条件を短サイクルに再現 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級＋(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)～還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「メタル炉」は、高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で 脱ガス挙動を安定再現します。 高温処理時に試料内部から発生する吸着水・CO2・残留有機物を効率的に 除去できない、高純度プロセスを再現性良く実施できるラボスケール装置が 少ないなどの課題を解決。 小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用しております。 【特長】 ■金属製ヒーター・金属製チャンバー構造により、カーボン源の混入を排除 ■高真空(10^-3～10^-5Pa)運転＋還元雰囲気(H₂/Ar/N₂)切替に対応 ■高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で脱ガス挙動を安定再現 ■酸化物・窒化物の高純度化、残留C・O低減に最適化されたヒートプロファイル ■小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用(Thermonik ENG製) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気～還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(～1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり 　(サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社は「電気×設備×化学」の三位一体で、材料の試作～量産を加速する 電気炉メーカーです。 小型塩素炉はCl2を用いた選択塩素化/塩化揮発の基礎検討に好適で、 腐食環境を前提にした材料選定と温度·雰囲気制御が特長的。 「選択塩素化/塩化揮発による乾式での不純物除去」や、CNT/カーボン材料の 高温処理·高純度化などの課題を解決します。 【特長】 ■小型塩素炉：Cl2を用いた選択塩素化/塩化揮発の基礎検討に好適 　腐食環境を前提にした材料選定と温度・雰囲気制御 ■カーボン炉(～3000℃)：極低酸素条件での焼成 ■メタル炉(～1800℃)：高純度雰囲気での焼成 ■マルチ雰囲気炉(加湿・酸化・還元をレシピで切替) ■小型管状炉：試験・教育用途などに対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社は、先端材料分野(半導体·電池·粉末冶金·大学研究)での装置需要拡大 に伴い、販売パートナーを募集します。 取扱い装置例として、小型～パイロットスケールまでの各種電気炉や、 選択塩素化・高純度化プロセス開発などの小型塩素炉(Cl2/HCI対応)が ございます。 ご関心ある企業様は、「会社名/ご担当/得意分野/主要取引領域/拠点」を お知らせください。 【対象】 ■技術商社 ■装置系商社(研究機関や材料メーカーなどとのネットワークをお持ちの企業様) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱っている「管状炉」は、お客様の用途に合わせて必要な 計装機器をオプション選定します。 ～1200℃の安定運転で、加熱ゾーンはΦ120mm×500mmL。管サイズは Φ70mm×1000mmLです。 また、N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応しております。 ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。 【特長】 ■安定運転：～1200℃(更なる高温はご相談可) ■加熱ゾーン：Φ120mm×500mmL ■管サイズ：Φ70mm×1000mmL(サイズ/ゾーン長はカスタム可) ■雰囲気：N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

小型塩素炉(Cl2/HCI対応)について、現場の困りごとと、なぜ安全に 塩素化プロセスを運転できるのかをご紹介します。 酸化物/金属中の微量不純物を揮発性塩化物として除去し、ハロゲン洗浄 による脱金属·脱酸素、表面クリーニングが可能。 また、独自設計により高温×Cl2/HCIでも炉材の劣化を抑制する耐食構造など といった、安全·再現性を担保する設計ポイントがございます。 【よくあるお困りごと】 ■湿式酸処理は廃液処理・エネルギーコストが重く、乾式で置き換えたい ■製品が禁水性のため、濡らさずに金属異物を除去したい ■Dry雰囲気で選択的に金属不純物だけを除去したい ■管状炉でのCI2試験から、より安全にスケールアップしたい ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱っている「小型メタル炉」についてご紹介いたします。 ～1800℃の安定運転で、高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応しており、 オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化し、色味・特性の再現性を 向上します。 また、大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易な コンパクト設計です。 【特長】 ■～1800℃の安定運転：高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応 ■クリーン度：オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化 ■低酸素雰囲気の再現性：N2/Arによるパージ・置換を標準手順化 ■コンパクト設計：大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う小型カーボン炉について、なぜ低酸素・超高温が実現できる のかをご紹介します。 カーボン炉材が残留酸素と反応し、“漏らさない"設計と製作ノウハウが 特長で、真空ポンプ＋置換で粉末内部の空気まで除去します。 放射率の高いグラファイトヒーター×均熱ホットゾーン×高断熱で効率よく 加熱し、局所過熱を避けつつ3000℃クラスまで安定到達が可能です。 【小型カーボン炉の特長】 ■3000℃まで昇温可能：グラファイトヒーターの輻射熱で短時間に超高温へ ■低酸素での焼成がしやすい：炉内カーボンが残留O2と反応 ■粉末内部の空気も置換：真空→不活性ガスの繰り返しで粒子間のO2を低減 ■温度ムラを抑制：均一に温める"均熱ゾーン"で中央/端部/厚み方向の差を縮小 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は小型カーボン炉の用途について紹介しました。 今回は、実際の装置仕様と構成について紹介します。 本装置は研究開発向けに設計されたコンパクトタイプで、限られたスペース でも設置が可能です。 真空および不活性ガス(Ar、N2)雰囲気での加熱に対応し、酸化を抑制した 安定した加熱環境を実現します。本仕様は研究用の小型装置のスペック例 となります。装置サイズはさらに大型機にも対応可能です。 【主な仕様】 ■設備外寸法：1000W×1000D×2100H mm ■炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■対応雰囲気：不活性ガス(Ar、N2)および真空 ■炉内材質：グラファイト ■ドア構造：前開き方式 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ ■記録·監視：温度、流量、圧力など 【安全装置】 ■過昇温防止 ■冷却水低下検知 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は、小型カーボン炉の"原理"について紹介しました。 今回は、実際にどのような用途で使われているのか、またどのような 研究・開発に応用できるのかを紹介します。 ■主な用途例 1.高温材料の合成・焼結(～3000℃) カーボン炉ならではの極低酸素環境により、炭化物·窒化物などの 高融点材料を酸化させずに焼成可能。 2.炭素系材料の高結晶化 グラファイトやカーボンナノチューブなどの高結晶化に好適。 3.金属材料の高温処理·還元反応 金属酸化物を低酸素下で還元し、微細構造や相制御が可能。 4.高温ガス反応の評価 N2、H2、Arなど多様な雰囲気で、反応性ガスとの相互作用や材料安定性を検証。 5.研究開発·試作スケールでの材料プロセス評価 短時間で条件最適化を行うためのR＆D用途として。 今後は、より精密な酸素分圧制御を活かした新素材開発への応用を検討して います。次回は「仕様」について詳しく紹介します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

小型カーボン炉は、極低酸素環境と超高温(～3000℃級)を両立できる点が 特長です。今回は"なぜそれができるのか"を原理からシンプルに解説します。 1)なぜ「極低酸素」になるのか？ ■炉材自体が“酸素ゲッター" 炉のホットゾーンはカーボン(黒鉛)で構成。残留O2/CO2/H2Oはカーボンと 反応してCO/CO2へ還元·固定化され、実効的に酸素活量が下がります。 結果として、酸化に弱い材料でも穏やかな雰囲気で処理しやすい。 ■真空システム内蔵＋置換 加熱前に真空引き→不活性ガス(Ar/N2など)でパージを繰り返すことで、 試料内部の空気まで事前に追い出せます。単なる“通気"では届かない 細孔・粉末間隙のガス置換に有効。 2)なぜ「3000℃級」が可能なのか？ ■発熱体＝黒鉛の高温安定性 黒鉛は不活性雰囲気·真空下できわめて高い耐熱性を示し、抵抗加熱で 効率的にホットゾーンを昇温できます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

乾式·還元系の熱処理ニーズが高まる一方、現場では次のような課題が 目立ちます。 ■研究現場の課題 ・最大到達温度の制限(管状炉では材料・構造上の上限でレシピ設計が縛られる) ・仕込みサンプル量の制限(有効加熱域が狭く、スケール検討に不向き) ・極低酸素(ppm～ppb級)の維持が難しい(リーク/残留O2/ヒートショック 　由来の微細クラック等) ■解決の方向性(要求仕様) ・短時間で均一加熱：高速昇温・高い温度均一性・良好な応答 ・柔軟スケール：少量試料～小スケール量産まで連続的に対応 ・雰囲気制御：Ar/N2(必要に応じH2少量)＋低残留O2設計で極低酸素を安定化 ■コンセプト グラファイト発熱体×高断熱構造×低リーク設計。 試作～条件出しに最適化した小型カーボン炉で、乾式·還元プロセスを速く、 再現よく。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

“温度は出るのに、狙った反応場が作れない"その壁を、小型カーボン炉で 超えます。 本連載では、極低酸素雰囲気(O2 ppmレベル※)かつ超高温(2,000-3,000℃ 級※)を再現性高く扱える小型カーボン炉の実力を、現場目線で解説します。 こんな課題、ありませんか？ ■昇温はできるが、わずかな酸素混入で特性がブレる ■大型炉だと立上りが遅く、条件出しが回らない ■温度ムラや生焼けで結晶性・孔構造が安定しない 小型化×極低O2×超高温のメリット ■短時間で到達→1日の試行回数が増える ■少量試料でも均熱域を確保→再現性↑ ■酸素管理と熱履歴を両立→結晶相・導電性・微構造を意図通りに この連載では、開発背景/加熱原理/用途別ノウハウ/安全設計/仕様＆拡張/ ミニ事例/FAQを順にご紹介します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は小型塩素炉の適用実績と、今後有望と考える用途をご紹介してきました。 今回は、小型塩素炉の主な仕様についてご紹介いたします。 これまで当社で取り扱ってきた塩素炉は装置寸法が大きく、設置スペースが 必要で、炉を運転するためのユーティリティー量も大きなものが必要でした。 Part4で紹介してきたように、塩素炉はまだまだ発展途上であるため、 さらなる用途開発のためにはR＆D用の小型サイズである必要があると考え、 この度「小型塩素炉」を新たに開発しました。 【小型塩素炉の主な仕様】 ■炉内寸法：200mm×200mm×200mm ■設置寸法：1000mm×1000mm×2000mm ■ガス雰囲気：Cl2、HCI、N2、Ar、H2 ■最高温度：1400℃ ■真空度：数Pa ■必要ユーティリティー：冷却水、電力 ※除害装置はオプションとしてご用意可能です。 ※仕様は開発中のもので、予告なく変更される場合があります。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は小型塩素炉の安全設計についてご紹介しました。今回は、これまでの 適用実績と、今後有望と考える用途をご紹介します。 【これまでの主な適用先】 1.カーボン粉末の純化：粉末内部に混入した金属不純物の除去 2.サセプター洗浄：治具表面に蓄積した GaN などの除去 3.セラミックスの相転移制御：相転移温度の低減・相制御 →「禁水性の材料」や「廃液を極力出したくない」現場の乾式不純物除去/ 反応制御に適用されてきました。 【小型塩素炉のコア価値】 当社の小型塩素炉は常時負圧下で Cl2/HCI 処理を行います。その結果、 塩化生成物の実効沸点を下げられるため、常圧より低いエネルギーで 塩化物を揮発・除去しやすいのが特長です。 【今後の応用が見込める分野】 ■レアメタルの選択分離・回収 ■超高純度材料の開発 ■新素材探索(反応経路の開拓・スクリーニング) ■表面改質(疎水性二親水性制御) ■合金・材料の腐食評価(選択的塩素化を活用) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は、塩素炉で金属不純物を塩化物に変換して取り除く原理(塩化揮発)を ご紹介しました。 今日は多くの方が抱く疑問 「Cl2やHCIのような腐食性・有毒ガスを"高温で"流すのは危険では？」に お答えします。 管状炉は入手しやすく多用途で、少量サンプルの新規合成には好適です。 一方で 「有効加熱域が小さく、スケールアップで頭打ちになりがち」 「長期使用やヒートショックで管に微小クラック、正圧運転時に漏えい リスクが増大」といった"現場あるある"も否めません。 「高温×腐食性ガス＝危険」は直感的に正しい。だからこそ、設計思想と 運用設計で"危険を管理する"ことが本質です。Thermonik ENGの小型塩素炉は、 その発想でつくられています。 安全をつくる設計思想 1)負圧(減圧)運転を基本に 真空システムを有しているため、炉内圧を常に大気圧より低く維持。 万一のシール劣化時も外部への吹き出しを抑制し、Cl2/HCIの漏えいリスクを 低減します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

前回は小型塩素炉の開発背景をご紹介しました。 今回は、塩素炉で不純物を除去できる反応原理(塩化揮発)について説明します。 粉体プロセスで不純物が混入する要因は主に2つ。 原料由来、2)設備由来。 いずれも金属単体の沸点は高く(例：Fe＝2800℃超、Cu＝2500℃超)、単純加熱 では飛ばせません。 そこで炉内に塩素(Cl2)や塩化水素(HCI)を供給し、金属不純物を塩化物へ 変換します。 例として鉄の反応式は以下の通りです。 2Fe ＋ 3Cl2-＞ 2FeCl3 Fe2O3 ＋ 6HCI -＞2FeCl3 ＋ 3H2O 多くの金属は塩化物になると沸点が大きく低下する性質があります。 この性質を利用し、生成した塩化物を気化·揮発させて分離する方法が 塩化揮発法です。 当社の小型塩素炉はこの原理を用い、各種金属不純物を乾式で選択的に 除去できる　従来の電気炉にはない特長を備えています。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社が取り扱う小型塩素炉について、 ■開発の背景 ■塩素炉内部での不純物除去メカニズム(塩化揮発法) ■装置の仕様・運用ポイント を連載でご紹介します。 まずは「なぜ塩素炉なのか？」から。 近年、半導体の微細化·電池の高性能化に伴い、粉体原料に求められる 金属不純物(Fe/Cu/Niなど導電性異物)管理は、ppm～ppbレベルへ急速に 高度化しています。 わずかなコンタミでも、歩留まり·信頼性に致命的な影響を与えます。 一般的な対策としては 1 湿式(酸処理)：強酸で金属不純物を溶解除去 2 乾式(磁選)：強力な電磁石で磁性粒子を回収 が採られてきました。 しかし、 ■湿式は均一除去の利点がある一方で、大量の排水、禁水性材料に不適、 　再乾燥によるエネルギー負荷などの課題。 ■磁選は磁性を持つ粒子に限定され、非磁性の金属化合物や微細付着物には 　効きづらい。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「小型塩素炉」は、母材を残して乾式で分離・低汚染、洗浄レスで後処理を 簡素化する製品です。 材料中の金属不純物をCl2/HClによる選択塩素化で揮発性塩化物に変換し、 温度段階と滞留時間の制御で優先的に除去する乾式プロセス。 また、金属塩化物の蒸気圧差・生成自由エネルギー差を利用するため、 母材の組成や結晶相を損なわずに高選択で分離でき、排液がほぼ出ないため 環境負荷とコストを低減できます。 【特長】 ■選択性：塩化物の蒸気圧差を利用し、ターゲット不純物のみ優先揮発 ■段階温度プロファイル：低温→中温で順次分離、母材損傷を抑制 ■乾式・低廃棄：洗浄レスで廃液ほぼゼロ、後処理が簡便 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 　母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「小型塩素炉」は、負圧運転と酸素分圧制御で相や粒径を保ち、洗浄レスで 廃液を最小化する製品です。 Cl2/HClを用いた選択塩素化により、セラミックス粉(SiO2/Al2O3/Si3N4) 製造時に混入した金属不純物を乾式で除去。 また、塩化揮発により母相の組成・結晶相・粒度分布を保持しつつ、 短時間で不純物を低減。水洗工程を省けるため再乾燥、廃液処理コストを 抑えられます。 【特長】 ■選択塩素化×温度段階化：金属塩化物のみを優先揮発、母材相を維持 ■乾式プロセス：水洗不要で廃液・再乾燥の負担を最小化 ■物性保持設計：酸素分圧・滞留時間制御で結晶相・粒径・比表面を維持 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる選択塩素化で、カーボン粉末に残る Fe/Ni/Alなどの金属不純物を乾式で揮発・除去することが可能です。 段階温度プロファイルで塩化、揮発を制御し、母材の結晶性や比表面を 保ったまま短時間で低残渣化。 また、塩酸や硫酸などの酸性溶媒を使用しないため、廃液処理の負担を 抑えつつ、製品の高純度化ができます。 【特長】 ■塩素化で選択的に金属塩化物を揮発 ■乾式で水洗レス、後処理の簡素化・歩留まりおよびエネルギー効率向上 ■母材保持設計：酸素分圧と滞留時間の制御で物性維持 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「塩素炉」は、サーモニック独自の技術により、Cl2、HClガスなどの ハロゲンガス対応する装置です。(CE、SEMI、UL規格認証) 棚板ヒーター採用により均一加熱が可能で、サンプル内部までCl2ガスが 拡散し高効率の反応ができます。 また、発生した塩化物の沸点を降下でき、より低温での処理が可能です。 【特長】 ■独自の技術により、Cl2、HClガスなどのハロゲンガス対応 ■棚板ヒーター採用により均一加熱が可能 ■サンプル内部までCl2ガスが拡散し高効率の反応が可能 ■発生した塩化物の沸点を降下でき、より低温での処理が可能 ■Cl2やHClガスの漏洩リスクを低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「管状炉」は、円筒状の加熱部(セラミックス反応管)にサンプルを配置し、 様々な雰囲気ガスを流しながら加熱処理を行うコンパクトな炉です。 小型・低コストでありながら、流量・圧力・温度の測定が可能なため、 反応条件の評価や試作研究に適しています。 当社の管状炉はコンパクトかつ高い計測機能を備えており、 ガス流通下での材料反応評価に特化しています。 【特長】 ■各種ガスを流しながら加熱でき、雰囲気条件の自由度が高い 　小型・安価で研究開発や試作用途に適する ■熱電対を差し込み、サンプルの実温度を直接測定可能 ■反応管はアルミナ製で、耐食性・耐熱性に優れる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「マルチ雰囲気炉」は、真空や不活性雰囲気に加え、NH3・H2・O2など 多様な雰囲気ガスを流通させながら加熱できる汎用型炉です。 さらにガスを加湿して湿潤雰囲気での焼成も可能なため、 幅広い反応条件に対応。 材料の還元、酸化、窒化、加湿処理など、複雑な雰囲気制御が 求められる研究・製造現場で威力を発揮します。 【特長】 ■真空、不活性雰囲気(N2、Ar)、酸化雰囲気(O2)、還元雰囲気(H2、NH3)まで対応 ■加湿装置(wetter)による特殊熱処理が可能 ■最高温度1700℃まで対応し、昇温速度は10℃/min ■アルミナシースヒーター＋アルミナ断熱材により、耐食性と安定加熱を両立 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「カーボン炉」は、炉内部のヒーター・断熱材・炉壁すべてをグラファイト (炭素)で構成した、超高温対応型加熱炉です。 通常の電気炉では到達困難な3000℃級の高温域での加熱が可能で、 かつ炉内酸素濃度を極限まで低く抑えることができます。 高結晶化が必要な炭素材料や、超高融点金属の焼結など、 高温・低酸素が不可欠なプロセスに適しています。 【特長】 ■超高温対応 ■低酸素雰囲気 ■高結晶化処理に適している ■幅広い材料対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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「メタル炉」は、炉内の構成部材(ヒーター・断熱材・炉壁)をすべて タングステンやモリブデンなどの金属で構成した高性能加熱炉です。 通常のアルミナやカーボン製炉では避けられない微量コンタミネーションを 排除し、超高純度・高温・クリーンな焼成環境を実現。 特に、真空または不活性ガス雰囲気での超高温プロセスに適しています。 研究開発から量産まで、シビアな温度・雰囲気管理が求められる プロセスに対応します。 【特長】 ■高純度環境 ■高精度温度制御 ■超高温対応 ■真空・不活性雰囲気対応 ■低アウトガス・低発塵 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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