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静電チャック（ESC）の焼成プロセスに特化したマルチ雰囲気対応の電気炉です。常用1600℃（Max 1650℃）の高温域に対応し、N₂およびN₂＋H₂の還元雰囲気で運転可能。さらにWetterによるInputガス加湿によりDry/Wet切替（オプション）を実現し、露点（pH₂O）制御で表面状態調整の再現性を高めます。 同一チャンバー内で雰囲気を切替できるため、工程分割に伴う待機・搬送・外気曝露を抑制し、パーティクルや水分等の再付着リスクを低減。ESC焼成の条件出し工数削減と品質安定化に貢献します。
粉末冶金業界、特に精密成形においては、材料の特性を最大限に引き出すための焼結プロセスが重要です。焼結時の酸素濃度や温度制御は、製品の強度や寸法精度に大きく影響し、不良品の発生や性能劣化につながる可能性があります。当社のカーボン炉は、極低酸素環境と3000℃級の高温制御により、精密な焼結プロセスを実現します。 【活用シーン】 ・高精度な形状が求められる部品の焼結 ・特殊合金やセラミックスの焼結 ・新素材の研究開発 【導入の効果】 ・高密度で均質な焼結体の生成 ・製品の強度と耐久性の向上 ・歩留まりの向上
セラミックス業界では、製品の強度や耐久性を向上させるために、高密度化が重要な課題です。特に、高温環境下で使用されるセラミックス製品においては、緻密な組織構造が求められます。不十分な焼結は、製品の性能低下や破損につながる可能性があります。当社のカーボン炉は、“極低酸素×3000℃級×真空置換”により、セラミックスの焼結を促進し、高密度化を可能にします。 【活用シーン】 ・セラミックスの焼結 ・相転移・再結晶化の促進 ・粒成長制御 【導入の効果】 ・高密度化による製品の強度向上 ・精密な温度制御による高品質な製品の製造 ・研究開発から少量量産まで対応
新材料開発を行う研究機関では、材料の特性を最大限に引き出すために、精密な温度管理と雰囲気制御が求められます。特に、高温相転移や結晶化、焼結といったプロセスにおいては、酸素濃度が材料の品質に大きく影響します。不適切な環境下での処理は、所望の特性が得られない、または材料の劣化につながる可能性があります。当社のカーボン炉は、“極低酸素×3000℃級×真空置換”を実現し、再現性の高い高温処理を可能にします。 【活用シーン】 ・新材料の基礎研究 ・材料の特性評価 ・少量多品種の試作 【導入の効果】 ・高品質な材料作製 ・研究開発期間の短縮 ・多様な材料への対応
航空宇宙業界では、高度な安全性と信頼性が求められ、耐熱部品の品質が重要です。高温環境下での使用に耐えるためには、焼成プロセスにおける精密な温度管理と、材料特性を最大限に引き出すための環境制御が不可欠です。カーボン炉は、極低酸素環境と3000℃級の高温制御により、耐熱部品の焼結、相転移、表面・界面のエネルギー制御を最適化し、高品質な製品製造を可能にします。 【活用シーン】 ・航空宇宙用エンジンのタービンブレード焼結 ・ロケットノズル材料の焼成 ・耐熱コーティングの焼成 【導入の効果】 ・耐熱部品の強度と耐久性の向上 ・材料の組織制御による性能向上 ・製造プロセスの再現性向上
光学業界では、高性能な光学部品の製造において、材料の接合精度と清浄度が重要です。特に、温度変化や外部環境の影響を受けやすい光学部品においては、セラミックスと金属の接合部の気密性と耐久性が、製品の性能を左右します。不適切な接合は、光学特性の劣化や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のメタル炉は、高真空・還元雰囲気下で、セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、強固な封着を実現します。 【活用シーン】 ・高精度な光学素子の封止 ・薄膜光学部品のアニール ・光学部品のろう付け 【導入の効果】 ・高真空環境による接合部の清浄度向上 ・安定した気密性の確保 ・光学特性の長期安定化
研究機関における実験では、高品質な試料作製が求められます。特に、セラミックスと金属の接合においては、微量な酸素や水分、炭化水素が、接合の品質や気密性に悪影響を及ぼす可能性があります。メタル炉は、高真空かつ清浄な雰囲気を提供することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材の高純度アニール ・セラミックスと金属の接合実験 ・各種材料の熱処理実験 【導入の効果】 ・接合部の強度と気密性の向上 ・実験の再現性の向上 ・高品質な試料作製による研究成果の向上
分析機器業界では、測定結果の信頼性を確保するために、試料の安定性が重要です。特に、高温環境下での分析や、微量成分の測定においては、試料の変質や汚染が測定精度に大きく影響します。メタル炉は、真空10^-5Pa級の清浄な雰囲気を提供し、試料の酸化や炭素汚染を防ぎます。これにより、安定した測定結果を得ることが可能になります。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材のアニール ・高精度分析における試料の前処理 ・気密性が必要な部品の封止 【導入の効果】 ・測定結果の再現性向上 ・分析精度の向上 ・長期的な安定性の確保
半導体業界では、製品の信頼性と長期的な性能維持のために、封止工程における気密性が非常に重要です。特に、温度変化や外部環境からの影響を受けやすい半導体デバイスにおいては、封止材と金属・セラミックス材料間の強固な接合が求められます。不適切な封止は、デバイスの故障や性能劣化につながる可能性があります。メタル炉は、高真空かつ清浄な雰囲気を提供することで、セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、強固な封着を実現します。これにより、半導体デバイスの信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材の高純度アニール ・セラミックスと金属の封止 【導入の効果】 ・低O2/H2O/HC環境による、濡れ性・界面強度・気密性の安定化 ・炭素フリー環境による、汚染・炭化の防止 ・真空、還元雰囲気の迅速な切替による、試作～量産サイクルの短縮
環境浄化業界では、焼成プロセスにおける有毒ガスの排出抑制と、処理の確実性が求められます。特に、有害物質を含む廃棄物の焼却や、排ガス処理プロセスにおいては、安全な焼成環境の構築が重要です。不適切な焼成は、環境汚染や作業員の健康被害につながる可能性があります。当社マルチ雰囲気炉は、真空置換から排ガス無害化まで一気通貫で設計することで、安全な焼成プロセスを実現します。 【活用シーン】 ・有害物質を含む廃棄物の焼却 ・排ガス処理プロセスの焼成工程 ・環境浄化技術の研究開発 【導入の効果】 ・有毒ガス排出量の削減 ・焼成プロセスの安全性向上 ・処理の確実性向上
化学業界の反応プロセスにおいて、安全かつ再現性の高い焼成は、品質管理と効率的な生産に不可欠です。特に、アンモニアや一酸化炭素などの有毒ガスを発生させる反応では、適切な排ガス処理と炉内環境の制御が求められます。不適切な焼成条件は、反応の失敗や有害物質の漏洩につながる可能性があります。当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排ガス無害化を一気通貫で設計し、安全で再現性の高い反応プロセスを実現します。 【活用シーン】 ・有毒ガスを伴う化学反応 ・精密な温度・雰囲気制御が必要な反応 ・量産スケールでの反応プロセス 【導入の効果】 ・安全な焼成環境の実現 ・反応の再現性向上 ・スケールアップの効率化
金属加工業界における表面処理では、製品の耐久性、耐食性、および機能性を向上させるために、精密な雰囲気制御が求められます。特に、高温下での反応制御や、均一な表面改質は、製品の品質を左右する重要な要素です。従来の焼成炉では、雰囲気ガスの種類や制御に制約があり、再現性や効率に課題がありました。マルチ雰囲気炉は、これらの課題を解決し、多様な表面処理ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・金属部品の酸化防止 ・表面硬化処理 ・コーティング前処理 【導入の効果】 ・表面処理の品質向上 ・処理時間の短縮 ・多様なガス雰囲気への対応 ・再現性の高い処理の実現
セラミックス業界において、緻密化は製品の強度や耐久性を向上させるために不可欠です。特に、高温環境下での焼成プロセスにおいては、雰囲気制御が品質を大きく左右します。加湿制御の不安定さ、雰囲気ガスの切り替えの遅さ、結露や汚染のリスクは、緻密化のプロセスにおける大きな課題です。これらの課題は、製品の品質ばらつきや歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のマルチ雰囲気炉は、Wetter直結の加湿制御、真空置換、ガス切替機能を搭載し、セラミックスの緻密化プロセスにおけるこれらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・セラミックス焼結 ・高密度化 ・表面改質 【導入の効果】 ・均一な焼成環境の実現 ・高品質なセラミックス製品の製造 ・プロセスの再現性向上
金属・合金業界では、新素材の開発や品質管理において、焼成プロセスにおける正確な温度管理と雰囲気制御が求められます。特に、合金組成や熱処理条件が製品の特性に大きく影響するため、焼成前後の結果だけでなく、焼成中の挙動を詳細に把握することが重要です。従来の管状炉では、焼成前後のデータしか得られず、プロセス最適化に時間がかかるという課題がありました。当社の管状炉は、流量・圧力・物温・排気解析を同期ロギングすることで、焼成プロセスを詳細に可視化し、合金開発における課題解決をサポートします。 【活用シーン】 ・新合金の研究開発 ・合金の熱処理条件検討 ・品質管理における焼成プロセスの最適化 【導入の効果】 ・焼成プロセスの可視化による、開発期間の短縮 ・最適な熱処理条件の確立による、製品品質の向上 ・プロセスの詳細なデータ取得による、品質管理の効率化
電池業界、特に電極製造においては、焼成プロセスにおける品質管理が重要です。電極材料の均一性や特性を最適化するためには、焼成中の温度、圧力、ガス流量などの詳細なデータ取得が不可欠です。焼成前後の結果だけでは、プロセスの最適化が難しく、不良品の発生や性能のばらつきにつながる可能性があります。当社の管状炉は、焼成中の詳細なデータを取得し、プロセスの可視化を実現することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・電極材料の研究開発 ・電極製造プロセスの最適化 ・品質管理の向上 【導入の効果】 ・焼成プロセスの最適化による品質向上 ・不良品率の低減 ・研究開発の効率化
セラミックス業界における焼成工程では、製品の品質を左右する温度、圧力、雰囲気ガスの正確な制御が求められます。焼成前後のデータしか得られず、プロセス中の詳細な挙動が把握できない場合、品質の安定化や不良率の低減が困難になる可能性があります。当社の管状炉は、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装し、焼成中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで取得できます。これにより、焼成プロセスを詳細に把握し、最適な条件を見つけ出すことが可能になります。 【活用シーン】 ・セラミックス焼成工程 ・研究開発における焼成条件検討 ・品質管理における焼成プロセスのモニタリング 【導入の効果】 ・焼成プロセスの可視化による品質向上 ・不良率の低減 ・焼成条件の最適化によるコスト削減
触媒業界では、触媒の活性化プロセスにおいて、反応条件の最適化が求められます。特に、温度、圧力、ガス流量などの微妙な調整が、触媒性能を大きく左右します。従来の焼成方法では、焼成前後のデータしか得られず、プロセスの詳細な理解が困難でした。当社の管状炉は、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装し、同期ロギングにより温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで取得できます。これにより、触媒活性化プロセスの詳細な分析が可能になり、最適な条件を見つけ出すことができます。 【活用シーン】 ・触媒の活性化プロセス ・反応条件の最適化 ・新触媒の開発 【導入の効果】 ・反応プロセスの可視化 ・触媒性能の向上 ・開発期間の短縮
ハロゲンガス（Cl、F、Br など）を伴うプロセスでは、一般的な電気炉に以下のような問題が起こりがちです。 ■ ヒーターや断熱材がハロゲンにより急速に腐食 ■ パッキンや配管材質が合わず、リークや安全面への不安 その結果、新しい材料プロセスの検討自体を諦めるといった状況が生じています。 Thermonik ENGの“小型ハロゲン対応炉”は、 １．プロセスガスとしてハロゲンを積極的に流したい場合 ２．サンプルからハロゲンが揮発して炉を汚してしまう場合 この2つのケースを想定し、「ハロゲンだからできない」を「ハロゲンでもテストできる」に変えるための専用炉です。 [特長] ■ 高耐食材料採用：サーモニック独自の技術により高耐食性を実現 ■ 腐食ガスモニタ対応：漏洩検知センサーとの連動運転が可能 ■ スケール適応性：数g〜数100gまでの試料処理に対応 ■ 常に負圧での運転：大気圧よりも低い圧力で運転することによりプロセスガスの漏洩リスクを低減
当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン＆俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気：Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度：〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途：塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気：真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす：〜1800℃前後(機種による) ・主な用途：焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社では、計装重視の「管状炉」を取り扱っております。 途中データが取れず焼成前後の差分しか分からない、サンプリングポートや 背圧制御が無く圧力・流速の当て込みができないなどといった課題を解決。 お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装します。 【特長】 ■必要な計装を装備：お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装 ■同期ロギング：温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで取得 ■プロセスポートの自由度：入口・出口にサンプリングポート、バイパスライン、 ドレン/凝縮トラップを設計可能 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社では、酸化/還元雰囲気での材料評価・相転移試験を“雰囲気×温度"の 二軸で精密設計した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空システムを内蔵しており、処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減。 また、トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEでスケールアップの 当たり条件を短サイクルで抽出します。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社では、NH3・COなどの発生ガスに対応した「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/ 熱酸化)まで、一気通貫で設計。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社では、露点×酸素分圧を自在に設計できる「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 加湿がブレやすい/切替が遅く再現性が出ない、結露・逆流・汚染・腐食が 怖くて踏み出せない、チューブ炉では並列自由度が低く条件出しに時間がかかる などといった課題を解決。 また、仕様につきましては、お客様の要望によりカスタム可能ですので、 詳細はご相談ください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■ガス種に依存しない加湿系：N2/Ar/空気/(少量H2も可)へWetter直結で 加湿量を設定 ■真空置換→ガス置換：試料内部空気を事前除去し、立ち上がりから狙いの 湿潤雰囲気へ ■切替えの速さ：乾燥・湿潤、N2/Ar・空気(少量H2)を簡便に切り替え可能 ■棚積み×角型サヤ：同条件多検体で並列試験を短サイクル化 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社では、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる「塩素炉」を 取り扱っております。 高温×腐食性雰囲気を安全に再現できる実験炉。塩素ガスによる高温腐食機構の 基礎研究や耐塩素性材料(高合金・被膜材・セラミックス)の耐久評価、腐食防止 コーティングの試験プラットフォームなどへの応用が理論的に期待されます。 また当社では、テスト機もご用意いたしております。 【特長】 ■塩素・塩化水素など腐食性ガス対応 ■減圧・温度の同時制御 ■乾式構造による高純度雰囲気 ■常時減圧雰囲気によるプロセスガスの漏洩リスクを低減 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「塩素炉」は、減圧下で温度と塩素分圧を独立制御できる構造を 有しています。 都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niといった金属が複雑に共存しており、これらを 乾式塩化揮発法により分離できれば、廃液処理の負担を抑えつつ、有価金属のみを 効率的に回収する新しいリサイクル手法が実現可能。 また、温度・圧力・塩素分圧を精密に制御できる本装置の特性から、将来的に 「都市鉱山からの有価金属選択回収」に発展し得ると考えています。 【特長】 ■低温でのベースメタル揮発：FeCl3、SnCl4などを200〜300℃付近で選択揮発 ■中温での貴金属塩生成制御：AuCl3などの安定領域を利用した貴金属分離 ■圧力制御による反応シーケンス切替：減圧条件下で塩化物の生成・分解平衡を制御 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社では、研究開発用「小型塩素炉」を取り扱っております。 管状炉の“ガス漏洩リスクが高く、安全性に乏しい"“試料スケールアップや 連続試験に不向き"といった課題を解決するために開発。 本装置は、塩素および塩化水素を安全かつ制御性高く供給できる密閉構造炉であり、 試料量を確保しつつ、腐食性ガスを用いた乾式処理を研究レベルで再現性高く 行うことが可能です。 【特長】 ■高耐食材料採用：サーモニック独自の技術により高耐食性を実現 ■スクラバー連結容易：液吸収・二段式中和塔などとの接続が簡便 ■腐食ガスモニタ対応：漏洩検知センサーとの連動運転が可能 ■スケール適応性：数g〜数100gまでの試料処理に対応 ■常に負圧での運転：大気圧よりも低い圧力で運転することにより プロセスガスの漏洩リスクを低減 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「カーボン炉」は、“極低酸素×3000℃級×真空置換"で 再現よく高温相転移・結晶化・焼結できます。 相転移・再結晶化の促進/粒成長制御(高温域での相安定化)や セラミックス・難焼結材料の緻密化焼結、表面・界面のエネルギー制御 (低酸素下での表面安定化)などのプロセスに使用可能。 研究〜少量量産の温度レシピ出しに適しています。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→Ar/N2置換(必要に応じ希薄H2※)で酸素ポテンシャルを段階低下 ※H2は装置の安全設計範囲(例：4％以下目安)で運用 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存O2を吸収し、副反応を抑制 ■3000℃級の高温安定 ・常用～2800℃/最大～3000℃、緩昇温→保持で相転移・結晶化・焼結を精密制御 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「カーボン炉」は、窒化の基礎反応試験に好適です。 N2のみでは反応開始温度が高いため、粒成長・粗大化とのバランスが難しい、 冷却時に表面再酸化し、色調・抵抗・硬度のばらつきにつながるなどといった 課題を解決します。 また当社は、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→N2置換で酸素ポテンシャルを段階的に下げる ・炉材カーボンのゲッタリングが残存O2を吸収し、酸化側副反応を抑制 ■十分な高温域へ素早く到達 ・1400-2400℃まで短時間で到達・安定保持 ■短サイクルで条件出し ・トレイ自由度/棚構成で複数試料を同時評価、厚み・接触の影響を検証しやすい ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃＊＊を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安：SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用～2800℃、最大～3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200～2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社では、3000℃級・極低酸素の「カーボン炉」を取り扱っております。 酸素分圧が下がらず、高温域で酸化・脱炭が発生して目標特性に届かない、 チューブ炉ではトレイ自由度が乏しく処理量が低い/試料サイズ制約が厳しい といった課題を解決。 黒鉛材料や黒鉛箔・黒鉛シート、等方性黒鉛・成形体の用途に使用可能です。 【黒鉛化で効く理由】 ■極低酸素を作りやすい：炉材がカーボンで残存酸素を化学的に捕捉＋真空置換で 試料内部空気を事前に排除 ■3000℃級の温度帯：-3000℃の黒鉛化域で均熱・保持が安定、短時間到達・高再現 ■トレイ/サヤ設計の自由度：角型サヤ＋棚積みで複数サンプルを同時処理、 条件出しを高速化 ■雰囲気柔軟性：真空/Ar/N2/低濃度H2※で欠陥低減・熱脱離を組み合わせ可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「メタル炉」は、評価したいのは材料そのものの表面反応・ 相変化だが、黒鉛部材や有機材のアウトガス/炭素源が系を乱すことがある などといった課題を解決します。 ハロゲン・窒化・還元など化学雰囲気が敏感なプロセスは、カーボンフリー の方が再現性が高く、だからこそ、内壁・ヒータ・治具まで金属で統一した メタル炉が有効です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■カーボンフリー ・全金属(Mo/W)ホットゾーン/金属チャンバー、黒鉛・有機材不使用で 炭素由来の副反応を抑制 ■クリーンな雰囲気切替 ・真空→Ar/N2の切替がスムーズ、置換後のブランクが低い ■反応の再現性 ・小型チャンバーで同一条件を短サイクルに再現 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級＋(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)～還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「メタル炉」は、高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で 脱ガス挙動を安定再現します。 高温処理時に試料内部から発生する吸着水・CO2・残留有機物を効率的に 除去できない、高純度プロセスを再現性良く実施できるラボスケール装置が 少ないなどの課題を解決。 小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用しております。 【特長】 ■金属製ヒーター・金属製チャンバー構造により、カーボン源の混入を排除 ■高真空(10^-3～10^-5Pa)運転＋還元雰囲気(H₂/Ar/N₂)切替に対応 ■高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で脱ガス挙動を安定再現 ■酸化物・窒化物の高純度化、残留C・O低減に最適化されたヒートプロファイル ■小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用(Thermonik ENG製) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気～還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(～1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり (サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
当社は「電気×設備×化学」の三位一体で、材料の試作～量産を加速する 電気炉メーカーです。 小型塩素炉はCl2を用いた選択塩素化/塩化揮発の基礎検討に好適で、 腐食環境を前提にした材料選定と温度·雰囲気制御が特長的。 「選択塩素化/塩化揮発による乾式での不純物除去」や、CNT/カーボン材料の 高温処理·高純度化などの課題を解決します。 【特長】 ■小型塩素炉：Cl2を用いた選択塩素化/塩化揮発の基礎検討に好適 腐食環境を前提にした材料選定と温度・雰囲気制御 ■カーボン炉(～3000℃)：極低酸素条件での焼成 ■メタル炉(～1800℃)：高純度雰囲気での焼成 ■マルチ雰囲気炉(加湿・酸化・還元をレシピで切替) ■小型管状炉：試験・教育用途などに対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社は、先端材料分野(半導体·電池·粉末冶金·大学研究)での装置需要拡大 に伴い、販売パートナーを募集します。 取扱い装置例として、小型～パイロットスケールまでの各種電気炉や、 選択塩素化・高純度化プロセス開発などの小型塩素炉(Cl2/HCI対応)が ございます。 ご関心ある企業様は、「会社名/ご担当/得意分野/主要取引領域/拠点」を お知らせください。 【対象】 ■技術商社 ■装置系商社(研究機関や材料メーカーなどとのネットワークをお持ちの企業様) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱っている「管状炉」は、お客様の用途に合わせて必要な 計装機器をオプション選定します。 ～1200℃の安定運転で、加熱ゾーンはΦ120mm×500mmL。管サイズは Φ70mm×1000mmLです。 また、N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応しております。 ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。 【特長】 ■安定運転：～1200℃(更なる高温はご相談可) ■加熱ゾーン：Φ120mm×500mmL ■管サイズ：Φ70mm×1000mmL(サイズ/ゾーン長はカスタム可) ■雰囲気：N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
小型塩素炉(Cl2/HCI対応)について、現場の困りごとと、なぜ安全に 塩素化プロセスを運転できるのかをご紹介します。 酸化物/金属中の微量不純物を揮発性塩化物として除去し、ハロゲン洗浄 による脱金属·脱酸素、表面クリーニングが可能。 また、独自設計により高温×Cl2/HCIでも炉材の劣化を抑制する耐食構造など といった、安全·再現性を担保する設計ポイントがございます。 【よくあるお困りごと】 ■湿式酸処理は廃液処理・エネルギーコストが重く、乾式で置き換えたい ■製品が禁水性のため、濡らさずに金属異物を除去したい ■Dry雰囲気で選択的に金属不純物だけを除去したい ■管状炉でのCI2試験から、より安全にスケールアップしたい ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱っている「小型メタル炉」についてご紹介いたします。 ～1800℃の安定運転で、高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応しており、 オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化し、色味・特性の再現性を 向上します。 また、大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易な コンパクト設計です。 【特長】 ■～1800℃の安定運転：高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応 ■クリーン度：オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化 ■低酸素雰囲気の再現性：N2/Arによるパージ・置換を標準手順化 ■コンパクト設計：大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社で取り扱う小型カーボン炉について、なぜ低酸素・超高温が実現できる のかをご紹介します。 カーボン炉材が残留酸素と反応し、“漏らさない"設計と製作ノウハウが 特長で、真空ポンプ＋置換で粉末内部の空気まで除去します。 放射率の高いグラファイトヒーター×均熱ホットゾーン×高断熱で効率よく 加熱し、局所過熱を避けつつ3000℃クラスまで安定到達が可能です。 【小型カーボン炉の特長】 ■3000℃まで昇温可能：グラファイトヒーターの輻射熱で短時間に超高温へ ■低酸素での焼成がしやすい：炉内カーボンが残留O2と反応 ■粉末内部の空気も置換：真空→不活性ガスの繰り返しで粒子間のO2を低減 ■温度ムラを抑制：均一に温める"均熱ゾーン"で中央/端部/厚み方向の差を縮小 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
前回は小型カーボン炉の用途について紹介しました。 今回は、実際の装置仕様と構成について紹介します。 本装置は研究開発向けに設計されたコンパクトタイプで、限られたスペース でも設置が可能です。 真空および不活性ガス(Ar、N2)雰囲気での加熱に対応し、酸化を抑制した 安定した加熱環境を実現します。本仕様は研究用の小型装置のスペック例 となります。装置サイズはさらに大型機にも対応可能です。 【主な仕様】 ■設備外寸法：1000W×1000D×2100H mm ■炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■対応雰囲気：不活性ガス(Ar、N2)および真空 ■炉内材質：グラファイト ■ドア構造：前開き方式 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ ■記録·監視：温度、流量、圧力など 【安全装置】 ■過昇温防止 ■冷却水低下検知 など ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
前回は、小型カーボン炉の"原理"について紹介しました。 今回は、実際にどのような用途で使われているのか、またどのような 研究・開発に応用できるのかを紹介します。 ■主な用途例 1.高温材料の合成・焼結(～3000℃) カーボン炉ならではの極低酸素環境により、炭化物·窒化物などの 高融点材料を酸化させずに焼成可能。 2.炭素系材料の高結晶化 グラファイトやカーボンナノチューブなどの高結晶化に好適。 3.金属材料の高温処理·還元反応 金属酸化物を低酸素下で還元し、微細構造や相制御が可能。 4.高温ガス反応の評価 N2、H2、Arなど多様な雰囲気で、反応性ガスとの相互作用や材料安定性を検証。 5.研究開発·試作スケールでの材料プロセス評価 短時間で条件最適化を行うためのR＆D用途として。 今後は、より精密な酸素分圧制御を活かした新素材開発への応用を検討して います。次回は「仕様」について詳しく紹介します。 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
小型カーボン炉は、極低酸素環境と超高温(～3000℃級)を両立できる点が 特長です。今回は"なぜそれができるのか"を原理からシンプルに解説します。 1)なぜ「極低酸素」になるのか？ ■炉材自体が“酸素ゲッター" 炉のホットゾーンはカーボン(黒鉛)で構成。残留O2/CO2/H2Oはカーボンと 反応してCO/CO2へ還元·固定化され、実効的に酸素活量が下がります。 結果として、酸化に弱い材料でも穏やかな雰囲気で処理しやすい。 ■真空システム内蔵＋置換 加熱前に真空引き→不活性ガス(Ar/N2など)でパージを繰り返すことで、 試料内部の空気まで事前に追い出せます。単なる“通気"では届かない 細孔・粉末間隙のガス置換に有効。 2)なぜ「3000℃級」が可能なのか？ ■発熱体＝黒鉛の高温安定性 黒鉛は不活性雰囲気·真空下できわめて高い耐熱性を示し、抵抗加熱で 効率的にホットゾーンを昇温できます。 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
乾式·還元系の熱処理ニーズが高まる一方、現場では次のような課題が 目立ちます。 ■研究現場の課題 ・最大到達温度の制限(管状炉では材料・構造上の上限でレシピ設計が縛られる) ・仕込みサンプル量の制限(有効加熱域が狭く、スケール検討に不向き) ・極低酸素(ppm～ppb級)の維持が難しい(リーク/残留O2/ヒートショック 由来の微細クラック等) ■解決の方向性(要求仕様) ・短時間で均一加熱：高速昇温・高い温度均一性・良好な応答 ・柔軟スケール：少量試料～小スケール量産まで連続的に対応 ・雰囲気制御：Ar/N2(必要に応じH2少量)＋低残留O2設計で極低酸素を安定化 ■コンセプト グラファイト発熱体×高断熱構造×低リーク設計。 試作～条件出しに最適化した小型カーボン炉で、乾式·還元プロセスを速く、 再現よく。 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
