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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/02/10
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ピエゾポジショニングシステム ピエゾポジショニングシステム
リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
リニアステージ リニアステージ
XYステージ XYステージ
ピエソモータ ピエソモータ
電動モータ 電動モータ
精密グラナイト製品 精密グラナイト製品
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
6軸システム 6軸システム
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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【新製品】X-365 高精度モジュラー式XYガントリーシステム

精度・剛性・柔軟性を兼ね備えたXY機構

X-365は、高性能コアレスリニアモーターを搭載したモジュラー型のXYガントリーシステムです。 熱影響を低減する設計により安定した動作を実現し、ナノメートル分解能のアブソリュートエンコーダにより高い再現性を確保します。 カスタマイズ性の高い構成により、レーザー加工や検査工程など幅広い用途にも対応可能です。

  • 機械設計

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【光学分野向け】NanoCube 6軸ピエゾシステム

6軸ナノポジショニングで光学系の微細調整を実現

光学分野における調整作業では、光軸の精密な位置決めが、システムの性能を左右する重要な要素となります。特に、ファイバーアライメントや光学素子の配置においては、サブミクロン単位の正確な調整が求められます。従来のステージでは、調整の自由度が限られ、高精度な位置決めが難しい場合がありました。NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65Sは、6自由度のナノ制御により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置調整 ・顕微鏡などの精密機器 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の微細位置決めが可能 ・高剛性・低クロストークにより安定した調整を実現 ・長期安定運用によるメンテナンスコスト削減

  • その他光学部品

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【研究開発向け】光学用位相シフター S-312

干渉計・光学位相制御用オープンループZステージ

研究開発分野、とりわけ干渉計や精密光学実験では、微小な光学位相シフトの制御が実験結果の精度を左右します。わずかな変位の違いが測定精度や解析結果に影響を与える場合があります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計アプリケーションや光学位相制御用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。ピエゾフレクシャー構造により、滑らかで高分解能な微小変位制御を実現し、精密な位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、研究装置への組み込みや光学系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー実験 ・精密光学測定 ・ナノポジショニングを伴う光学研究 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学実験の実現 ・コンパクト設計による装置組み込み性向上 ・研究用途における柔軟な実験構成

  • その他光学部品
  • 光学測定器

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【光学向け】光学用位相シフター S-312

光学・干渉計向け 位相制御用オープンループZステージ

精密光学システムや干渉計アプリケーションでは、微小な光学位相シフトの制御が測定精度や解析結果に大きく影響します。わずかな変位差が干渉縞の安定性や計測結果に影響を与えることもあります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計や精密光学用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、微小変位制御による安定した位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、光学ベンチや装置内への組み込みにも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー/波面制御実験 ・精密光学アライメント 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学測定 ・装置組み込み性の向上

  • その他光学部品
  • 光学測定器

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【研究開発向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ

研究開発用途に対応|最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ

研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験/レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計

  • その他機械要素

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【光学調整向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ

光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ

光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現

  • その他機械要素

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【半導体製造向け】B-421BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ

最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ

半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上

  • その他機械要素

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【ライフサイエンス向け】N-332 ピエゾリニアステージ

細胞観察における高精度位置決めを実現するリニアステージ

バイオテクノロジー分野、特に細胞観察においては、高精度な位置決めが不可欠です。細胞の微細な構造を観察するためには、ナノメートルレベルの正確な位置制御が求められます。従来のステージでは、振動やドリフトにより、正確な観察が妨げられることがありました。N-332ピエゾリニアステージは、PICMAWalkドライブにより、滑り摩擦の影響を受けない高精度な位置決めを実現し、細胞観察の質を向上させます。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・細胞操作 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による正確な位置決め ・セルフロッキング機構による安定性向上 ・多軸セットアップによる柔軟な対応

  • その他機械要素
  • アクチュエーター
  • 圧電デバイス

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【ナノテクノロジー向け】高発生力&高精度ピエゾリニアステージ

ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。

ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上

  • その他機械要素
  • アクチュエーター
  • 圧電デバイス

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【光学顕微鏡向け】高発生力&高精度ピエゾリニアステージ

光学顕微鏡の高精度走査に。サブナノ分解能と高発生力を両立するPICMAWalkドライブ

光学顕微鏡における高倍率観察や広範囲走査では、ナノ~サブナノメートルレベルの位置決め精度と高い安定性が求められます。特に、長時間観察や高解像度イメージングでは、振動やドリフトの影響を最小限に抑える高剛性ステージが不可欠です。N-332は、PICMAWalkドライブにより、これらの課題を解決します。 高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。顕微鏡観察時の安定性を向上させます。高精度な試料位置決めや自動走査を必要とする光学顕微鏡システムに最適です。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での高精度走査 ・高倍率観察における試料位置決め ・共焦点顕微鏡システム ・生体試料の精密アライメント 【導入の効果】 ・真空用途に対応 ・サブナノメートル分解能による高精度位置決め ・高発生力による安定した試料保持 ・長ストローク走査と高精度の両立 ・電源オフ時の自己ロック ・高い再現性と長期安定性

  • その他機械要素
  • アクチュエーター
  • 圧電デバイス

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【宇宙開発向け】ヘキサポッド H-850

±0.2µm再現性・6軸高精度制御。天文光学系の精密アライメントに。

H-850 ヘキサポッドは、天文学研究の用途に対応した6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。±0.2µmの高い再現性とアブソリュートエンコーダを搭載し、原点復帰不要で高精度な位置制御を実現。広い移動・回転範囲により、望遠鏡光学系や検出器の精密アライメントへの組込みに適しています。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・天文望遠鏡の光学アライメント ・真空チャンバー内での精密試験 ・衛星搭載機器の地上評価試験 【導入の効果】 ・±0.2µm再現性による高精度光学調整 ・6軸同時制御による複雑な姿勢制御 ・アブソリュートエンコーダによる即時稼働 ・広い可動範囲で大型光学系にも対応

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  • その他産業用ロボット
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【研究開発向け】ヘキサポッド H-850

±0.2µmの再現性、アブソリュートエンコーダ搭載の重荷重対応モデル

研究開発分野の実験プラットフォームでは、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、重量のある試料を扱う際には、高い精度と剛性、そして即時的な位置情報の取得が重要となります。H-850は、これらの要求に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・光学実験 ・材料試験 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・アブソリュートエンコーダによる位置決め時間の短縮 ・最大250kgの耐荷重による幅広い実験への対応

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【製造業向け】ヘキサポッド H-850

最大250kgの重量物を高精度に位置決め。アブソリュートエンコーダ搭載。

製造業における部品移動では、正確な位置決めと安定した動作が、生産効率と品質を左右します。特に、重量のある部品や精密な組み立て工程においては、ミクロン単位の精度が求められます。位置ずれや振動は、不良品の発生や工程の遅延につながる可能性があります。H-850は、最大250kgの耐荷重と±0.2µmの再現性により、これらの課題を解決します。アブソリュートエンコーダの搭載により、起動時の位置決め時間を短縮し、生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・重量部品のアライメント ・ロボットへの部品供給 ・試験設備での部品位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速かつ安定した動作による生産性向上 ・アブソリュートエンコーダによる起動時間の短縮

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【研究・実験向け】ヘキサポッド H-825

30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸精密ヘキサポッド

H-825 ヘキサポッドは、研究・実験用途向けに設計された6自由度パラレルキネマティクスステージです。±0.1µm(Z軸)再現性と高剛性構造により、微小な位置誤差が許されない光学実験や精密計測に対応。最大30kgの耐荷重とブラシレスDCギアモータ駆動により、高負荷条件下でも安定した位置決めを実現します。高精度アライメントや試料位置制御用途に最適です。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・光学実験/レーザーアライメント ・精密計測・評価装置 ・半導体研究開発 ・試料ステージ/光学系調整 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度アライメント ・高剛性設計による振動抑制と安定性向上 ・初期化不要のアブソリュートエンコーダ搭載で即時稼働

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【製造業向け】ヘキサポッド H-825

30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸高剛性ヘキサポッド

H-825 ヘキサポッドは、製造装置への組込みや高精度アライメント用途に適した6自由度パラレルキネマティクスステージです。±0.1µm(Z軸)再現性と高剛性構造により、重量ワークでも安定した精密位置決めを実現。最大30kgの耐荷重とブラシレスDCギアモータ駆動により、生産ラインや検査装置における高精度調整工程を支援します。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・半導体装置における高精度アライメント ・光学部品の6軸位置調整 ・検査装置・計測装置への組込み ・精密組立工程 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度位置合わせ ・高剛性設計による振動抑制と安定動作 ・アブソリュートエンコーダ搭載で初期化不要・即時稼働 ・30kg耐荷重で大型ワークにも対応

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【研究向け】パラレルキネマティック・ヘキサポッドH-811.I2

コンパクトながら高精度なリファレンスクラスの6軸位置決めシステム

研究分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細・高精度な測定を行う際には、位置決めの精度が実験結果に大きく影響します。位置決め精度が低いと、正確なデータが得られず、実験の再現性も損なわれる可能性があります。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811.I2は、高い精度と剛性、そして柔軟なピボットポイント設定により、研究実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・光位置合わせ ・オートメーション ・品質保証試験 ・試験機器での利用 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・再現性の高い実験結果の実現 ・多様な実験への対応

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【製造業向け】小型ヘキサポッド H-811.I2

コンパクトながら高精度な6軸位置決めシステムで製造工程を最適化

製造業における位置決め作業では、高い精度と信頼性が求められます。特に、製品の品質を左右する精密な組み立てや検査工程においては、微細で正確な位置決めが不可欠です。従来の単軸位置決めシステムでは、複雑な多軸調整に手間と時間がかかることが課題でした。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811.I2は、6軸自由度を持つ設計により、これらの課題を解決します。また小型な設計のため、設置面積が小さいことも大きな特徴です。 【活用シーン】 ・精密部品の組み立て ・検査装置での位置決め ・光ファイバーアライメント ・オートメーションシステム 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる製品品質の向上 ・作業時間の短縮と効率化 ・多様なアプリケーションへの対応 ・高い信頼性による安定した稼働

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【バイオテクノロジー向け】PIHera XYピエゾステージ 

細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。

バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。

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【顕微鏡向け】PIHera XYピエゾステージ

最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適

顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上

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【半導体技術向け】PIHera XYピエゾステージ

最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定

半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上

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【計測・検査向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献

計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上

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【光学調整向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート

光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献

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【半導体製造向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。

半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上

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高い移動精度と耐荷重性を備えたリニアステージ「L-511」

短納期対応が可能。幅広い応用分野に対応した高精度リニアステージ

L-511高精度リニアステージは、幅広い業界で使用いただけるよう設計されています。 ・±0.15 µmまでのサブミクロンの再現性を実現できるため、レーザー切断や光学アライメントなどの高い精度が求められるタスクに最適 ・循環ボールベアリングガイドと最大155mmのストロークで、安定性と強度を確保 ・応力緩和アルミニウムベースにより、厳しい環境でも機械的な安定性が確保され、ドリフトが最小限に抑えられる ・モーターとエンコーダの構成は複数用意されており、自動化、研究開発、バイオテクノロジー分野における幅広い用途に対応

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【精密測定向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ

精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減

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【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ

摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・検査装置 ・計測機器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・クリーンルーム対応による高い信頼性

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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。

FPD製造業界の検査工程では、高精度な位置決めが求められます。特に、微細な欠陥の検出や寸法測定においては、正確な位置決めが不良品の発生を抑制し、歩留まり向上に不可欠です。位置精度の低いステージを使用した場合、検査結果の信頼性が損なわれ、正確な評価が困難になる可能性があります。A-143 PIglideは、±0.2 µmの高精度位置決めにより、FPD検査の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・FPDの欠陥検査 ・寸法測定 ・位置合わせ 【導入の効果】 ・検査精度向上 ・不良品率の低減 ・生産性の向上

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【レーザー加工向け】A-143 高精度リニアステージ

レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。

レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮

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【光学機器向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。

光学機器業界では、レンズやミラーなどの精密な調整が、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、微細な位置調整が求められる場面では、精度の高いステージングシステムが不可欠です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。A-143 PIglideは、ナノメートルレベルの精度で位置決めを行い、光学機器の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・精密測定器のキャリブレーション ・光ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な調整作業の実現 ・作業時間の短縮 ・製品品質の向上

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【機械部品向け】PIglideA-121高精度モデル

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

ロボティクス業界では、精密な位置決めと滑らかな動作が、ロボットアームや精密機器の性能を左右します。特に、高速かつ正確な位置決めが求められる場面では、摩擦やバックラッシュによる誤差は許容されません。PIglide A-121は、これらの課題を解決するために開発されました。 【活用シーン】 ・ロボットアームの位置決め ・精密組み立て工程 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる作業効率の向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減

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【光学アライメント向け】PIglideA-121高精度モデル

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

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【半導体検査向け】PIglideA-121高精度モデル

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減

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【計測・検査向け】高精度回転ステージ V-62xシリーズ

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上

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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ

開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応

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【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ

開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ

レーザー加工業界では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細加工や精密なパターン形成においては、位置ずれや振動が加工精度に大きく影響します。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、レーザー加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・角度依存の微細パターン加工 ・光学部品・精密部品の試作加工 ・レーザー加工プロセス開発・条件検証 【導入の効果】 ・加工精度・加工品質の向上 ・微細加工の再現性向上 ・加工プロセスの信頼性向上

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【レーザー微細加工向け】産業用ヘキサポッド

さまざまな方向で信頼性の高い位置決めを実行

レーザー微細加工では、わずかな位置ズレや姿勢誤差が加工品質を大きく左右します。 H-815 ヘキサポッドは、6軸同時制御によるサブミクロン精度の位置決めと高い再現性により、 加工点・焦点位置・ワーク姿勢を常に最適な状態に保持。安定した加工品質を実現します。 【活用シーン】 ・加工ばらつきの低減 ・半導体製造装置への組み込み ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・微細パターンの再現性向上 ・24時間365日の安定稼働

  • 試験機器・装置

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【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能

フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応

光学部品業界では、正確で要求の厳しい位置決めが品質を左右する重要な要素です。当社のH-815産業用ヘキサポッドは、高精度な位置決めを実現し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応 ・レンズやその他の光学部品などの極めて小さな部品のアライメント 【導入の効果】 ・複雑な製造・計測プロセスの生産性を向上 ・小さな部品のアライメント ・高負荷サイクルに対応した長寿命設計

  • 試験機器・装置

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【半導体製造向け】6軸位置決めシステム

安定したウェーハ搬送を実現する産業用6軸位置決めシステム

半導体製造業界では、ウェーハの正確な位置決めが歩留まりを左右する重要な要素です。特に、24時間365日の連続稼働が求められる製造ラインにおいては、高い耐久性と信頼性が不可欠です。位置決めの精度が低いと、製造プロセスに悪影響を及ぼし、不良品の発生につながる可能性があります。当社の6軸位置決めシステムは、ウェーハ搬送における高精度な位置決めを実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの精密位置決め ・半導体製造装置への組み込み ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・歩留まりの向上 ・24時間365日の安定稼働

  • 試験機器・装置

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【製造業向け】高精度かつ小型・高速動作の6軸位置決めシステム

コンパクトながら高精度で高速動作を実現。信頼性の高い6軸位置決めシステム

製造業では、品質と生産効率の向上が求められます。特に、精密部品の組み立てや検査工程においては、位置決めの精度が製品の品質を左右する重要です。位置決め精度が低い場合、不良品の発生や組み立て時間の増加につながる可能性があります。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811は、高精度な位置決め性能により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・複雑な製造プロセスや測定手順の生産性向上 【導入の効果】 ・コンパクトな設置面積 ・生産性の向上

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新製品:NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65S

6自由度のナノ制御で微細調整を可能に|フォトニクス、ファイバーアライメントなどの応用分野に

NanoCube P-616.65S は、X・Y・Z の直線移動に加え、θX・θY・θZ の回転まで含む 6軸ナノポジショニングを実現する多自由度ピエゾステージです。 パラレルキネマティクスとフレクシャガイド構造により、従来ステージでは達成できない 高剛性・低クロストーク・高ダイナミクス動作を提供します。 ±250 µm の移動レンジと ±26.2 mrad の回転レンジを持ち、ナノメートル単位の微細位置決めが可能。フォトニクス、ファイバーアライメントなど、サブミクロン精度が求められる環境で威力を発揮します。

  • その他光学部品

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ナノレベルの制御で再現性を向上。研究現場向け「位置決め」製品特集

研究室・科学機器向け位置決めソリューションをサポートする製品ラインナップをご紹介

研究では、限られた条件下でも高い再現性と信頼性が求められます。 PIは50年以上にわたり、ナノレベルの高精度と長期安定性を両立した位置決めソリューションを提供。既存の研究設備にもスムーズに統合でき、LabVIEWやMATLAB、Pythonなど主要ソフトウェアとの互換性も備えています。 顕微鏡検査、フォトニクス、量子研究など、厳しい環境下でも精密で安定した動作を実現。短期プロジェクトや緊急対応にも柔軟に対応可能です。 精密研究を支えるPIの最新技術を、ぜひ詳細ページでご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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光学用位相シフター S-312

光学または干渉計アプリケーション向け高解像度オープンループZステージ

・高度な干渉計アプリケーションにおける光学位相シフト用に設計された精密ナノポジ ショニングステージ。 ・薄型ステージ ・トリポッドピエゾ駆動設計により、ティルトエラー補正付きZ動作を実現 ・カスタムモデル対応 (例: closed-loop)

  • その他光学部品
  • 光学測定器

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連続荷重や高サイクル周波数下でも高精度の位置決めを実現

安定した製造プロセスを実現する産業用 6軸位置決めシステム

24時間・365日稼働を前提に設計された、堅牢かつ高精度な産業用途向けのヘキサポッド。 コンパクトな設計でありながら高い耐久性を備え、厳しい環境下でも信頼性の高い位置決めを実現します。

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ヘキサポッドシステム用コントローラ C-887.52X

PIヘキサポッド専用で、標準ソフトで直感的操作が容易

C-887.52Xは、ヘキサポッド制御に最適化された32bit PIDコントローラを内蔵し、1つのコマンドで6自由度の位置決めが可能。 EtherCAT・USB・RS-232などの多様な通信に対応し、アナログ/デジタルI/O、BNC端子も装備。 LabVIEWやWindows DLL、Linux用ドライバも提供され、開発環境に応じた柔軟な制御が可能。 リファレンススイッチやストール検知機能も備え、安全性にも配慮されています。

  • コントローラ
  • サーボ
  • アンプ

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耐荷重~250kg ヘキサポッド H-850 絶対エンコーダ搭載

±0.2µmの再現性、アブソリュートエンコーダ標準搭載の重荷重対応モデル

H-850は最大250kgの耐荷重を誇る高剛性ヘキサポッドで、±50mm(XY)/±25mm(Z)、および±30°の広範囲な動作が可能です。 再現性はZ軸±0.2µm、回転軸±7.5µradと高精度。ブラシレスDCギアモータによる滑らかな動作と、アブソリュートエンコーダの即時位置取得により、高速かつ安定した制御が可能です。 構造はパラレルキネマティック方式で、ロボティクス、重量物アライメント、試験設備などに最適です。

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