スパッタリング装置の製品一覧

大阪空気機械製T型トラップの代替品・油回転・水封式真空ポンプの保護装置

• 真空ポンプ

《数千個/月の量産OK》ロボットで塗装を行うので再現性と安定した品質を実現！コストダウンのご提案も可能。

• アルミニウム

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！

• スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です！

• スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布を実現

• スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

• スパッタリング装置

「有機EL用GB付きスパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」などの実績を保有！

• スパッタリング装置

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製造でお困りの方は是非ご相談ください。※製作事例資料進呈中

• スパッタリング装置

各種材料、基材の加工実績が豊富！基材×薄膜＝光学調整・導電・抗菌/ウイルス

• スパッタリング装置
• 加工受託
• 表面処理受託サービス

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試作・研究開発のための新型マルチチャンバスパッタリング装置

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへの試料の移載が可能

• スパッタリング装置

ほぼ理想的な混合物が作成可能！直線性に優れ、試料内の幾何学的な配置と組成が1対1に対応

• スパッタリング装置

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

• 加工受託
• ウエハー
• スパッタリング装置

アルミ切削／アルミ加工／アルミ機械加工

• CVD装置
• スパッタリング装置
• コーター

旋盤加工／アルミ加工／精密部品加工

• CVD装置
• スパッタリング装置
• アニール炉

500～1200ｍｍサイズの加工を得意とし、1000分台の精度保証対応が可能です。まずはご相談ください。

• ステッパー
• スパッタリング装置
• 半導体検査/試験装置

切削加工/金属加工

• スパッタリング装置
• アニール炉
• レジスト装置

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能です

• スパッタリング装置

プランゼーの高機能材料（タングステン・モリブデン）製品がオンラインで購入できます。板、棒、ワイヤー、蒸着部品、ヒートシンクなど

• 非鉄金属
• 工業炉
• スパッタリング装置

CNC旋盤加工・アルミ精密切削・半導体製造装置部品【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• スパッタリング装置
• CVD装置
• イオン注入装置

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

アルミ切削／A5052／旋盤加工／大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• CVD装置
• スパッタリング装置
• 半導体検査/試験装置

半導体業界や太陽電池業界(PV)向けに、ポリシリコーンは原材料として使用。素材：ニッケル合金 プロセス:フィルター

• スパッタリング装置

■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント

• スパッタリング装置

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの正三角形です

• スパッタリング装置

1辺25mmトライアングルの有効エリア！単一基板に数百条件分の組成分布を形成します

• スパッタリング装置

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• スパッタリング装置
• CVD装置
• 蒸着装置

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。

• スパッタリング装置
• CVD装置
• その他半導体製造装置

磁気結合式直進回転導入機（MFL）を取り付ける際の軸差および角度調整に！

• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

真空チャンバーを製作いたします

• CVD装置
• スパッタリング装置
• その他半導体製造装置

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置
• その他加工機械

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】

• スパッタリング装置
• イオン注入装置
• 蒸着装置

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能

• スパッタリング装置

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハイクオリティ、多用途対応のＣｔｏＣタイプスパッタリング装置

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置
• その他実装機械

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発～量産に対応。デモ機でプロセスサポート。

• その他加工機械
• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス＆ハードウェア

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

• スパッタリング装置

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

研究開発から量産までサポート！

• スパッタリング装置
• プリント基板
• その他半導体

新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見！樹脂基板への金属膜、保護膜を全自動で成膜

• 真空機器
• スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト＆装置見学対応中

• スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合物半導体量産プロセスを実現　サンプルテスト＆装置見学対応中

• スパッタリング装置
• プラズマ表面処理装置

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ

• その他理化学機器
• スパッタリング装置

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装置で、同基板台内±５％以内の優れた膜厚均一性を実現

• スパッタリング装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

• スパッタリング装置

イオンソースを搭載した実験用装置　精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能

• スパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング（IBS）装置です。

• スパッタリング装置
• その他半導体
• 磁石

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用可能です。

• 蒸着装置
• スパッタリング装置
• CVD装置

表面改質から触媒利用まで！成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術をご紹介！

• スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

• スパッタリング装置

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

• 真空機器
• スパッタリング装置

940gのシリーズ最軽量！ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生！

• 塗装機械
• スパッタリング装置
• その他

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパッタ装置

• スパッタリング装置

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

• スパッタリング装置

低圧動作のECR型アトムソース

• エッチング装置
• 蒸着装置
• スパッタリング装置

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置

• スパッタリング装置

真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております。

• 蒸着装置
• CVD装置
• スパッタリング装置

クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタミフリーなアルミホイルです。

• スパッタリング装置
• アルミニウム
• その他半導体製造装置