ウェハ/の製品一覧
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半導体、PCB、プリンテッドエレクトロニクス向け、卓上型インクジェットプリンターシステム
- その他半導体製造装置
- ディスペンサー
- 基板加工機
【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理！】複数サイズ兼用装置はダウンタイムが少なく、生産性が高いリフトオフ装置を実現！
- レジスト装置
最大10pc/secの高速ピックアップ技術で高生産性を実現！独自技術により極小チップも確実に収函 ※カスタマイズ可能
- ウエハー
- テーピングマシン
少量ウェーハに対応！研究・テスト用途に便利なウェーハ販売サービス！ ハーフinchから450mmまで幅広く取り扱っております！
- その他半導体
半導体製造装置のウェハキャリアに耐薬品性、耐熱性、機械的強度に優れたPEEK450Gが採用されました。
- エンジニアリングプラスチック
2～8インチウェハ対応！デバイス製作に必要な高精度アライメントを備えています！
- 印刷機械
- 業務用プリンタ
サファイア、SiC、GaN などの ウェハ・基板をセラミックやガラスなどの支持基板（貼付け板）にワックスで接着させる貼付装置です
- 加工治具
12インチリング付きウェハ処理が可能！ 表面改質、無機物/有機物汚染除去！ 量産前の評価、研究に最適！ 高速、低価格
- ウエハー
- その他半導体
- その他電子部品
展示会 『SEMICON JAPAN 2017』 に出展します（開催日程：2017年12月13日～12月15日）
日本エンギスは、2017年12月13日(水)～12月15日(金) 東京ビッグサイト(東京国際展示場) にて開催されます 「SEMICON JAPAN 2017」 に出展いたします。 今回の展示会におきましては主力製品 ラッピング装置のニューモデル 『高速&高圧研磨機 EJW-400HSP』 を展示しておりますので、弊社の技術力の一端をご高覧いただければ幸甚に存じます。 当日は、研磨（主に平面研磨）のご相談も受け付けておりますので、お気軽に弊社ブースを訪問していただければ幸いです。 多くの皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。
展示会 『SEMICON JAPAN 2017』 に出展します（開催日程：2017年12月13日～12月15日）
日本エンギスは、2017年12月13日(水)～12月15日(金) 東京ビッグサイト(東京国際展示場) にて開催されます 「SEMICON JAPAN 2017」 に出展いたします。 今回の展示会におきましては主力製品 ラッピング装置のニューモデル 『高速&高圧研磨機 EJW-400HSP』 を展示しておりますので、弊社の技術力の一端をご高覧いただければ幸甚に存じます。 当日は、研磨（主に平面研磨）のご相談も受け付けておりますので、お気軽に弊社ブースを訪問していただければ幸いです。 多くの皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。
ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物半導体・ＭＥＭＳ。幅広い実績と充実のサポート。新タイプ登場
- アッシング装置
- エッチング装置
- プラズマ表面処理装置
ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイプエッチング装置。 半導体製造装置部品・材料にも対応
- エッチング装置
- プラズマ表面処理装置
最大8インチＭＥＭＳラインを有するオムロン野洲事業所にてウェハ工程の試作から量産までお客様の様々なご要望にお応えいたします！
- 解析サービス
- 受託解析
先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面を実現。超高真空対応のハードが実現する高品質電極膜
- 蒸着装置
新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜のエッチングに対応。大面積化も容易な新型エッチング装置.
- エッチング装置
- アッシング装置
- プラズマ表面処理装置
簡単操作で高精度な画像判別！製品の異常や欠陥を検出し、品質の向上と生産効率の向上を実現できるAI自動外観検査システムです。
- その他検査機器・装置
豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート
- リフロー装置
- アニール炉
- 電気炉
技術情報「ポジ型フォトレジストの構造解析」ほか2件を公開
MSTホームページにて、下記分析事例3件を公開しました。 ・ポジ型フォトレジストの構造解析 ・粘着シートによる電子部品の汚染評価 詳細はMSTホームページをご覧ください。 http://www.mst.or.jp/
SEMICON Japan 2024へ出展いたします
弊社では2024年12月11日 (水) 〜 13日 (金)にかけて東京ビッグサイトで開催される SEMICON Japan 2024へ出展いたします 昨年同様、各種光加熱製品を出展しますので、ご来場をお待ちしております。
同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰返しの衝撃。マスクやガラス洗浄ウェハ研磨後スラリー除去に。
- その他洗浄機
- 食品洗浄装置
- 高圧洗浄機
BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベーク搭載自動レジスト塗布装置
- コーター
