分析のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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分析 - メーカー・企業498社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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分析のメーカー・企業ランキング

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  1. Tebiki株式会社 東京都/IT・情報通信
  2. 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST 東京都/試験・分析・測定
  3. ビーエルテック株式会社 東京都/試験・分析・測定
  4. 4 株式会社同仁グローカル 熊本県/その他
  5. 5 株式会社分析センター 第一技術研究所 東京都/試験・分析・測定

分析の製品ランキング

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  1. 事例で解説『トヨタ流「なぜなぜ分析」の実践方法とポイント』 Tebiki株式会社
  2. 分析、精密天びん│EXPLORERシリーズ ※総合カタログ進呈中 オーハウス コーポレーション 日本支社
  3. 洗剤等粘性液体のpHって測定できるの? 株式会社分析センター 第一技術研究所
  4. 4 海水栄養塩測定装置 クワトロ ビーエルテック株式会社
  5. 5 ICP-AES/ICP-MS用 認証単元素・混合標準液 湿式分析 西進商事株式会社

分析の製品一覧

181~195 件を表示 / 全 1919 件

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【分析事例】600V耐圧SiCダイオードのブレークダウン観察

前処理から発光箇所特定まで一貫解析

高電圧電源(2000Vまで印加可能)を用いることで、耐圧の高いダイオードに対してもブレークダウンを発生させることができます。 本事例では600V耐圧のSiC Schottky Diodeを動作させ、逆方向に高電圧まで印加することで、ブレークダウンを発生させました。カソード電極を研磨で除去後、エミッション顕微鏡観察を行い、ブレークダウン電流発生箇所を特定した事例をご紹介します。測定には市販品を用いています。

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【分析事例】SIMSによるMEMS中ドーパントの三次元分布評価

イメージングSIMSにより微小領域・微量元素の濃度分布を可視化できます

市販品MEMSについて、BとAsの三次元イメージングSIMS測定を行いました(測定領域:75μm角、深さ:約1.5μm)。測定後のデータ処理により、任意断面・任意深さの面分布、任意領域の深さ方向分布、任意箇所のラインプロファイルの抽出が可能です。 注) イオンビームで試料を掘りながら、深さ方向にイメージを取り込みますので、破壊分析となります。

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HAADF-STEM像とは

HAADF-STEM:高角散乱環状暗視野走査透過顕微鏡法

■原理 HAADF-STEM( High-angle Annular Dark Field Scanning TEM)像は細く絞った電子線を試料に走査させながら当て、透過電子のうち高角に散乱したものを環状の検出器で検出することにより得られます。 ■特徴 Z2ρが大きな材料の方がより高角に散乱される ↓ 重い元素はSTEM像では暗く、HAADF-STEM像では明るい 原子量(Z)に比例したコントラストが得られることから、Zコントラスト像とも呼びます。

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【分析事例】CIGS太陽電池へテロ接合界面の抵抗評価

真空下での走査型広がり抵抗顕微鏡(SSRM)による局所抵抗分布評価

CIGS薄膜太陽電池のZnO/CdS/CIGSの多結晶へテロ接合界面をSSRM法で分析し、局所的な抵抗分布を計測しました。真空環境下で測定することで、測定表面の吸着水を除去し、高空間分解能を得ることができます。測定結果から、ナノメートルレベルの空間分解能で各層の抵抗値を計測できていることが分かります。各層の抵抗値が数桁異なり、これがキャリア濃度の違いを示しています。CIGS層はi-ZnO層よりも高抵抗であること、CdSはこれらの層よりもさらに高抵抗であることが分かりました。

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【分析事例】有機ELディスプレイの総合評価

構造把握・材料評価・劣化原因特定など各種手法を組み合わせて評価します

有機ELは、自発発光するフレキシブルな次世代ディスプレイ、照明パネルとして期待されておりますが、更なる信頼性の向上が望まれています。各種手法を組み合わせることにより、構造解析や状態分析および劣化原因の特定などの総合評価が可能です。

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【分析事例】二酸化ケイ素の構造解析

非晶質(ガラス)二酸化ケイ素(SiO2)のラマン散乱分光法による構造解析

二酸化ケイ素(SiO2)は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。ガラス中でSiO2が環状に結合することに着目し、ラマン測定を行いました。(図1) 単結晶石英ではガラス状態のスペクトルとは著しく異なり、長距離秩序によるフォノンバンドが観測されます。(図2、 図3)

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【分析事例】極薄SiON膜の組成・膜厚評価

光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり

シリコンウエハ上の自然酸化膜・シリコン酸窒化薄膜など、厚さ数nm以下の極薄膜について、サンプル最表面のSi2pスペクトルを測定します。得られたスペクトルの波形解析を行うことにより、各結合状態の存在割合を求め、この結果と光電子の平均自由行程から膜厚を見積もります(式1)。

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FIB低加速加工

FIB:集束イオンビーム加工

FIBを用いたTEM観察用薄膜試料作製法では、高エネルギーのGaイオン(加速電圧30kV)を用いており、加工面にダメージ層が生じ、TEMの像質低下の原因となっています。そこで従来より低加速(2kV)の加工を行うことでダメージ層が低減でき、像質が改善されました。 FIB低加速加工によりFIB加工面のダメージを低減することで、TEM像観察、EELS測定において高品質で信頼性の高いデータが得られます。

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マイクロサンプリング法

FIB:集束イオンビーム加工

試料から直接小片を取り出し(マイクロサンプリング)、FIB加工を行うことができます。

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よくあるご質問(FAQ) ご発注について

ご発注について、よくお問い合わせいただくご質問を、FAQ形式でまとめました。

ご不明な点はお問い合わせください。

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研究開発を強力サポート 「受託分析サービス」

お客様からお預かりした材料・製品の受託分析を行います。前処理から測定までをお引き受けし、分析データをご提供。

MSTでは各種材料や研究の受託分析、受託解析、受託評価サービスを行なっています。 知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案!確かな品質と安心のサポートで、お客様に疑問を残しません。 半導体・金属・電池などのエレクトロニクス分野、医薬品・化粧品・食品などの ライフサイエンス分野の受託分析・受託解析に幅広く対応します。 ・分析手法のご相談から承っております。 ・分析費用のお見積りもお気軽にお問い合わせください。 ・分析に関するお問い合わせ・お申し込みはお電話やお問い合わせより、受け付けております。 【受託分析データ例】 ○TEM分析 原子レベルまで観察 ○SIMS分析 不純物の濃度を評価 ○XRD分析 X線で結晶を特定 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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[TOC]全有機体炭素測定

TOC計は、試料中の全炭素量 、全有機体炭素量、無機体炭素量(IC:を評価することができる装置です

TOC計は、試料中の全炭素量(TC:Total Carbon) 、全有機体炭素量(TOC:Total Organic Carbon)、無機体炭素量(IC:Inorganic Carbon)を評価することができる装置です。 ・有機成分含有量を全有機炭素量(TOC)として評価可能 ・液体試料と固体試料の測定が可能 ・全炭素量(TC:Total Carbon)、無機体炭素量(IC:Inorganic Carbon)の測定が可能

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【分析事例】プリント基板上有機物系異物の分析(C0084)

適切なサンプリングと顕微測定で異物周辺情報の影響を軽減

サンプリングを併用した顕微FT-IR分析が有効な異物の評価事例を紹介します。 下地の影響がほとんど無い電極上異物はフラックスと同定されましたが、プリント基板上異物からは異物由来の情報が取得できませんでした(図1)。無機結晶上にサンプリングを行うことで異物の情報が得られ、異物はフラックスと同定されました(図2)。

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【分析事例】多結晶シリコン太陽電池のPLマッピング

太陽電池セルの欠陥の位置を非破壊で特定することができます

太陽電池に禁制帯幅以上のエネルギーの光を照射するとキャリアが生成し、一部は発光性再結合をします。その際の発光をフォトルミネッセンス(PL)と呼びます。しかし、欠陥が存在する箇所では、キャリアが捕捉されPL強度が弱くなります。このことから、PLマッピング測定をすることで、非破壊かつ簡便に欠陥箇所を特定することができます。多結晶シリコン太陽電池セルにおいて、PLマッピング測定を行い、欠陥箇所を特定した事例を以下に示します。

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  • PLスペクトル.png
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雰囲気制御&冷却下でのTEM分析

雰囲気制御下での処理 クライオ加工 冷却 TEM: 透過電子顕微鏡法他

大気に暴露すると変質してしまうリチウムイオン二次電池材料や、加工・観察時の熱で変質する有機系材料等の試料は、通常の環境下でTEMを用いて構造を観察することは困難です。 弊団では雰囲気制御によって大気暴露を抑え、更に冷却して加工・観察・分析を行うシステムを整備しておりますので、試料本来の構造を保ったままTEM薄片試料を作製し、観察・分析することが可能です。

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