成膜装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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成膜装置 - 企業27社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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企業ランキング

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  1. 京浜ラムテック株式会社 神奈川県/製造・加工受託
  2. 北野精機株式会社 東京都/製造・加工受託
  3. 株式会社クリエイティブコーティングス 東京都/電子部品・半導体
  4. プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社 神奈川県/電子部品・半導体
  5. 株式会社栗田製作所 京都府/産業用電気機器 本社・京都事業部

製品ランキング

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  1. RAM クラスター型スパッタリング成膜装置 京浜ラムテック株式会社
  2. ロードロック式スパッタ成膜装置 RAS-1100C 株式会社シンクロン
  3. 低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー) 株式会社クリエイティブコーティングス
  4. 有機EL用成膜装置 北野精機株式会社
  5. 4 多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン+ALD) 株式会社マツボー

製品一覧

16~30 件を表示 / 全 50 件

表示件数

低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー)

従来ta-Cと比較し密着力向上した低温DLC(Diamond-like carbon)薄膜硬質コーティングが可能!

高密着で安定した高品質な成膜が可能! 高硬質(耐摩耗性)、低摩擦係数(耐摩耗性)、耐食性、耐凝着性、平滑性なDLC成膜をおこなうことで 半導体製造装置パーツ用金型や樹脂成形金型、摺動部品や治工具などの長寿命化に貢献。 顧客のコスト削減だけでなく、清掃作業などの保守業務工数削減や業務改善にも最適。 立体的な超精密な複雑形状な金型や機械部品にも 「はがれにくく高密着、平滑&硬質な低温DLC成膜」が可能。 高硬度&耐摩耗性向上だけでなく「剥離処理~再成膜も受託可能」なため、 製品のライフサイクルコスト低減や材料廃棄削減など環境負荷低減にも貢献。 ++++++++++++++++++++++++++++++ DLCとは:ダイヤモンドライクカーボン(Diamond-Like Carbon)の略で、 ダイヤモンドとグラファイトの中間特性を有する滑り性の良い硬質な薄膜コーティングが可能。 SP3(ダイヤモンド結合)とSP2(グラファイト結合)の比率、その中に含まれるH(水素)の比率、 また多層被膜することによって、様々な物性や特性(工業的価値)を持つ薄膜を作ることが可能。

  • プラズマ表面処理装置
  • 表面処理受託サービス
  • その他半導体製造装置

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RAM クラスター型スパッタリング成膜装置

拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能

RAMクラスター スパッタリングシステムは、 RAMカソード(4面対向式低ダメージスパッタリングカソード)が搭載されたクラスター型スパッタリング装置です。 下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。 拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能。 また、25段多段ラック式のロードロックを搭載し、多種多様な成膜レシピをスロットごとに 自動で成膜することができ、あらゆる研究開発に対応できます。

  • スパッタリング装置

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ロールツーロール式真空成膜装置

試験研究に好適な小型ロールツーロール成膜装置!

『ロールツーロール式真空成膜装置』は、ロールツーロールにて フィルム基板上に連続的に薄膜形成が可能な装置です。 コンパクトでエコノミーな装置なので、研究開発に好適。 フィルム搬送系に工夫をすることで、高速成膜が可能になります。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【主な仕様】 ■成膜方式:DCマグネトロンスパッタリング(オプションにてRFに対応) ■基板搬送:ロールツーロール(張力制御付)、速度0.2~3.0m/min、       張力15~80N ■ローラー面長:140mm ■フィルム寸法:最大幅100mm、長さ100m(フィルム厚50μm) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

  • 真空機器
  • 真空成形機

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プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能

『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition:原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃~500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min~500nm/minとなっております。 【仕様】 ■プロセス温度:80℃~500℃ ■ウエハサイズ:150mm、200mm ■成膜速度:0.1nm/min~500nm/min ■アスペクト比  ・20:1 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他検査機器・装置

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成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置

当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • エッチング装置

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DLC(ダイヤモンド状炭素)成膜装置

医療用途・光学部品に!イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマCVD装置

『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニング イオンゲージ放電形式)プラズマCVD装置です。 低温かつ高真空での処理を可能とし、硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。 他方式に比べ基板に入射するイオンの量とイオンのエネルギーをそれぞれ 独立して制御できる為、極めて広範囲な膜質の制御が可能です。 また、東製株式会社では、超硬・ステンレス・工具鋼などへのダイヤモンド状 炭素膜の優れた特長を広くご活用いただける表面処理加工も行っております。 【特長】 ■低摩擦係数 ■対摩耗性 ■低攻撃性 ■非溶着性 ■絶縁性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他 受託サービス

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プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000

生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

プラズマイオン注入・成膜装置(Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D)とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号)した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • プラズマ表面処理装置
  • イオン注入装置

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ロードロック式スパッタ成膜装置 RAS-1100C

光学薄膜から機能性装飾膜まで成膜が可能!スパッタ成膜装置

≪独自に開発したRAS方式はさらに進化し、高規格の光学薄膜から         機能性装飾膜まで広範囲の成膜が可能になりました≫ ●波長シフトの無い高密度な光学薄膜形成が可能 ●中間屈折率を利用し光学薄膜設計が容易に ●再現性の良い20nm以下の薄膜を利用し、  光学薄膜設計どおりの成膜が可能 ●色の再現性が良い、RGBカラー着色が可能 ●低温処理によるプラスチックスへの成膜可能 ●CO2排出量を抑え、地球環境に配慮しました

  • その他加工機械

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ポリパラキシレン蒸着成膜装置

ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパでポリパラキシレン成膜及び装置販売を行ってきました。

本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが実行可能です。成膜レシピのログもCSVファイルに出力することができます。 ・装置のカスタマイズが可能です。

  • 蒸着装置

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圧電膜成膜装置

MEMSやFBARの生産に特化した成膜装置です。

米国AMS社スパッタ装置(圧電膜、誘電体膜、メタルスパッタ装置)は、Al膜、Mo膜をメインに、その他多くの膜において高い面内均一性を達成します。

  • 圧電デバイス
  • センサ

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Dynavac社天体望遠鏡用成膜装置

2 m以上の望遠鏡基板に光学多層膜を成膜(スパッタ、蒸着)します。

Dynavac社は望遠鏡へのコーティングにおいて、リーディング企業です。 ・スパッタと蒸着による成膜 ・様々な鏡の形状にあわせます ・膜厚均一性:±5 %未満

  • その他表面処理装置

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多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン+ALD)

ポリパラキシレン(パリレン)とALD(原子層堆積法)による無機酸化物層を交互に積層します。

パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。 パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はありません。また、プロセス・ノウハウもメーカはあるので、レシピに関する情報も提供可能です。 デモ成膜も行っていますので、お気軽にお問い合わせください。

  • CVD装置

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高速成膜装置

MEMS製造の犠牲層・光導波路などへ

無機フィルムの高速製膜装置。デモ実験など承っております。お気軽にご相談下さい。

  • その他加工機械
  • その他半導体製造装置

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グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能    オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能   オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能

  • その他理化学機器
  • CVD装置

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卓上CNT/グラフェン成膜装置

長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型CVD装置です。

有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。

  • その他加工機械

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