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多彩なオプションに対応した、高真空蒸着装置です。
一歩進んだ試料作りは清浄高真空から始まります。 ターボモレキュラーポンプ(TMP)排気系を採用した清浄高真空蒸着装置です。高真空は膜純度の向上、膜密度の向上に貢献します。 パネルの EVAC START のボタンを押せば予備排気から高真空排気まで自動的に行います。タッチパネル＋プログラム制御で操作ミスを防止する安全設計です。 VE-2050 には多彩な付属装置(オプション)が用意してあります。研究の目的に対応した機能の追加改造もお受けします。
標準仕様は抵抗加熱蒸着源タイプでSDGはガラスベルジャSDMはメタルベルジャ（いずれもマニュアルハンドリング）仕様となります
DH300SD（G/M）は立上りの早い広帯域TMPを搭載させたφ300のベルジャ型高真空排気装置に蒸着源を組み込んで構成された汎用型の小型蒸着装置です。イニシャルのコストパフォーマンスに重点をおき、半導体や光学、電子部品など広範囲の用途において研究開発や準生産向けに拡張性を持たせたシステムとして構成しています。
真空蒸着装置の紹介です。
○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Waterloo, Canada ○EIT+ Cluster Tool -Installed at the Wroclaw Research Centre EIT+, Wroclaw, Poland ○UTD Cluster Tool -Installed at the University of Texas at Dallas, USA ○FW Dresden Cluster ○ Materials Innovation Platform Materials Innovation Platform ※各装置の詳細はお問い合わせください。
水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能
『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで可能な薄膜製造装置
ユーザーの立場より開発された薄膜製造装置は、ジョブコーターとしての経験をふんだんに装置に織り込み、ユーザーの立場で設計し、お客様とディスカッションしながら組み上げていく「オーダーシステム」をとっています。小型の実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで種々のタイプをそろえています。 私どもの装置はすべてオーダーメードです。多様な蒸発源を持っておりますので何をどのくらいどのように加工したいのかを伺いながら装置の設計を進めてまいります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。
超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」は、新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。 【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様（オプション） ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積照射イオンソース 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデル
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
樹脂レンズへの成膜に最適！大量生産を高次元で実現する光学薄膜用蒸着装置です。
光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」は、Sapio 1300 のテクノロジーを盛り込みつつコストパフォーマンスに磨きをかけたAR コート専用 スタンダードマシンです。 ＲＦイオンソース、光学モニター、反転パレットなど多彩な仕様選択が可能です。 【特徴】 ○量産性能と作業効率を高次元で融合 ○設置スペースは1300クラスのたった２割増 ○製品の取数は2倍以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
全機種オーバーホールして完全稼動した状態で納品しております
株式会社グリーンテックでは、完全オーバーホールを実施して性能 確認した中古真空機器・装置の販売・メンテナンス及びレンタルを 行っております。 取扱商品はスパッタ装置・真空蒸着装置をはじめとして、Heリークディ テクタ等の計測器や電源・電子銃・真空計・ポンプ等の単品も販売して おりますので、ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■販売品在庫数豊富 ■完全オーバーホールを実施 ※詳しくは、お問い合わせください。
機種選びから消耗品供給、アフターフォローまで安心して任せられる万全のフロー
当カタログは、真空蒸着装置の製造・販売の専門メーカーである 株式会社クラフトの総合カタログです。 (※株式会社プロスタッフは、株式会社クラフトを販売メーカーとし、 プロスタッフは製造部門として一翼を担っております。) 自動真空蒸着装置[オーダーメイド]CAPシリーズといった製品の掲載を はじめ、メンテナンスメニュー・加工品の紹介など幅広く掲載しております。 【掲載内容】 ■自動真空蒸着装置[オーダーメイド] ■リフレッシュ品[中古品] ■装置メンテナンス ■部品メンテナンス ■蒸着部材・加工品 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計！蒸発物および基板への熱影響を抑制
『LOE』は、密閉したルツボから熱により有機材料を蒸発させる コンポーネントです。 デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計が、蒸発物および基板への 熱影響を最小限に抑制。その蒸気は、基板へ通じる加熱パイプを通って供給され、 リニアノズルアレイから基板に放出されます。 有機蒸気に接触するすべての部品、特にルツボとノズルパイプは、有機 EL材料に対して全く不活性なセラミックでできています。ルツボとノズル パイプは、有機材料の凝縮点を超える温度まで加熱されます。 【特長】 ■小分子量有機材料の蒸着 ■固体または液体の前駆体の蒸着 ■シングル蒸着、共蒸着、トリプル蒸着 ■垂直または水平に運転 ■基板幅最大1200mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール
半導体化学蒸着装置の世界市場：大気耐性CVD、低圧CVD、超高真空CVD、ファウンドリ、統合型デバイスメーカー（IDM） ...
本調査レポート（Global Semiconductor Chemical Vapor Deposition Equipment Market）は、半導体化学蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の半導体化学蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 半導体化学蒸着装置市場の種類別（By Type）のセグメントは、大気耐性CVD、低圧CVD、超高真空CVDを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、ファウンドリ、統合型デバイスメーカー（IDM）、メモリメーカー、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、半導体化学蒸着装置の市場規模を算出しました。 主要企業の半導体化学蒸着装置市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
半導体蒸着装置の世界市場：物理蒸着、化学蒸着、鋳造業、統合型デバイスメーカー（IDM）、その他
本調査レポート（Global Semiconductor Deposition Equipment Market）は、半導体蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の半導体蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 半導体蒸着装置市場の種類別（By Type）のセグメントは、物理蒸着、化学蒸着を対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、鋳造業、統合型デバイスメーカー（IDM）、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、半導体蒸着装置の市場規模を算出しました。 主要企業の半導体蒸着装置市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
