蒸着装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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蒸着装置 - メーカー・企業41社の製品一覧とランキング

更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
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蒸着装置のメーカー・企業ランキング

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  1. テルモセラ・ジャパン株式会社 東京都/産業用電気機器 本社
  2. 神港精機株式会社 東京都/産業用機械 東京支店
  3. 株式会社エイエルエステクノロジー 神奈川県/試験・分析・測定
  4. 株式会社真空デバイス 茨城県/医薬品・バイオ 本社
  5. 5 テクノウェーブ株式会社 神奈川県/産業用機械
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蒸着装置の製品ランキング

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  1. 卓上型高真空蒸着装置ＶＥ－２０１３ 株式会社真空デバイス 本社
  2. 株式会社エイエルエステクノロジー　会社案内 株式会社エイエルエステクノロジー
  3. BAKファミリー　全自動蒸着機能搭載 日本エバテック株式会社
  4. TMPタイプ　真空蒸着装置 サンユー電子株式会社
  5. 4 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』 テルモセラ・ジャパン株式会社 本社

蒸着装置の製品一覧

61～75 件を表示 ／ 全 82 件

表示件数
真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置
  • アニール炉

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真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。

OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。

  • 蒸着装置

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真空蒸着装置『MiniLab-026』

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。

  • 蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • アニール炉

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抵抗加熱蒸着装置DH300SD

抵抗加熱蒸着装置DH300SD

標準仕様は抵抗加熱蒸着源タイプでSDGはガラスベルジャSDMはメタルベルジャ（いずれもマニュアルハンドリング）仕様となります

DH300SD（G/M）は立上りの早い広帯域TMPを搭載させたφ300のベルジャ型高真空排気装置に蒸着源を組み込んで構成された汎用型の小型蒸着装置です。イニシャルのコストパフォーマンスに重点をおき、半導体や光学、電子部品など広範囲の用途において研究開発や準生産向けに拡張性を持たせたシステムとして構成しています。

  • その他

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Cluster Systems（真空蒸着装置）

Cluster Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Waterloo, Canada ○EIT+ Cluster Tool -Installed at the Wroclaw Research Centre EIT+, Wroclaw, Poland ○UTD Cluster Tool -Installed at the University of Texas at Dallas, USA ○FW Dresden Cluster ○ Materials Innovation Platform Materials Innovation Platform ※各装置の詳細はお問い合わせください。

  • 分析機器・装置

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高真空蒸着装置『KW-030D』

高真空蒸着装置『KW-030D』

水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 蒸着装置
  • 分析機器・装置

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事業紹介　薄膜製造装置の販売

事業紹介　薄膜製造装置の販売

実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで可能な薄膜製造装置

ユーザーの立場より開発された薄膜製造装置は、ジョブコーターとしての経験をふんだんに装置に織り込み、ユーザーの立場で設計し、お客様とディスカッションしながら組み上げていく「オーダーシステム」をとっています。小型の実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで種々のタイプをそろえています。 私どもの装置はすべてオーダーメードです。多様な蒸発源を持っておりますので何をどのくらいどのように加工したいのかを伺いながら装置の設計を進めてまいります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

  • 真空機器

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超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」は、新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。 【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様（オプション） ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積照射イオンソース 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 真空機器
  • 蒸着装置

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多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデル

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 　同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 蒸着装置

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光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」

光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」

樹脂レンズへの成膜に最適！大量生産を高次元で実現する光学薄膜用蒸着装置です。

光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」は、Sapio 1300 のテクノロジーを盛り込みつつコストパフォーマンスに磨きをかけたAR コート専用 スタンダードマシンです。 ＲＦイオンソース、光学モニター、反転パレットなど多彩な仕様選択が可能です。 【特徴】 ○量産性能と作業効率を高次元で融合 ○設置スペースは1300クラスのたった２割増 ○製品の取数は2倍以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 蒸着装置

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中古真空装置・機器販売のご案内

中古真空装置・機器販売のご案内

全機種オーバーホールして完全稼動した状態で納品しております

株式会社グリーンテックでは、完全オーバーホールを実施して性能 確認した中古真空機器・装置の販売・メンテナンス及びレンタルを 行っております。 取扱商品はスパッタ装置・真空蒸着装置をはじめとして、Heリークディ テクタ等の計測器や電源・電子銃・真空計・ポンプ等の単品も販売して おりますので、ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■販売品在庫数豊富 ■完全オーバーホールを実施 ※詳しくは、お問い合わせください。

  • 真空機器
  • 真空ポンプ
  • バルブ

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総合カタログ　真空蒸着装置

総合カタログ　真空蒸着装置

機種選びから消耗品供給、アフターフォローまで安心して任せられる万全のフロー

当カタログは、真空蒸着装置の製造・販売の専門メーカーである 株式会社クラフトの総合カタログです。 (※株式会社プロスタッフは、株式会社クラフトを販売メーカーとし、 　 プロスタッフは製造部門として一翼を担っております。) 自動真空蒸着装置[オーダーメイド]CAPシリーズといった製品の掲載を はじめ、メンテナンスメニュー・加工品の紹介など幅広く掲載しております。 【掲載内容】 ■自動真空蒸着装置[オーダーメイド] ■リフレッシュ品[中古品] ■装置メンテナンス ■部品メンテナンス ■蒸着部材・加工品　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 真空機器

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リニア有機材料蒸着器『LOE』

リニア有機材料蒸着器『LOE』

デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計！蒸発物および基板への熱影響を抑制

『LOE』は、密閉したルツボから熱により有機材料を蒸発させる コンポーネントです。 デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計が、蒸発物および基板への 熱影響を最小限に抑制。その蒸気は、基板へ通じる加熱パイプを通って供給され、 リニアノズルアレイから基板に放出されます。 有機蒸気に接触するすべての部品、特にルツボとノズルパイプは、有機 EL材料に対して全く不活性なセラミックでできています。ルツボとノズル パイプは、有機材料の凝縮点を超える温度まで加熱されます。 【特長】 ■小分子量有機材料の蒸着 ■固体または液体の前駆体の蒸着 ■シングル蒸着、共蒸着、トリプル蒸着 ■垂直または水平に運転 ■基板幅最大1200mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 蒸着装置

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[マーケットレポート］ALD装置の世界市場

[マーケットレポート］ALD装置の世界市場

ALD装置の世界市場が倍増、2031年までに83.3億米ドルに急拡大

世界の原子層蒸着（ALD）装置市場は目覚ましい成長を遂げ、売上高は2022年の約41億米ドルから2031年には推定83.3億米ドルに急増する。この急増は、2023年から2031年までの予測期間中に8.2%という堅調な複合年間成長率（CAGR）を反映している。 原子層蒸着は、半導体、エレクトロニクス、エネルギー貯蔵など、さまざまな産業で使用されている精密な薄膜蒸着技術である。ALD装置市場の成長は、様々な産業の形成におけるその重要性を示している。技術が進歩し続けるにつれ、精密で効率的な薄膜蒸着へのニーズは高まる一方である。 応募方法は[PDFダウンロード]ボタンからご確認いただくか、関連リンクから直接ご応募ください。

  • その他

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【調査資料】半導体化学蒸着装置の世界市場

【調査資料】半導体化学蒸着装置の世界市場

半導体化学蒸着装置の世界市場：大気耐性CVD、低圧CVD、超高真空CVD、ファウンドリ、統合型デバイスメーカー（IDM） ...

本調査レポート（Global Semiconductor Chemical Vapor Deposition Equipment Market）は、半導体化学蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の半導体化学蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 半導体化学蒸着装置市場の種類別（By Type）のセグメントは、大気耐性CVD、低圧CVD、超高真空CVDを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、ファウンドリ、統合型デバイスメーカー（IDM）、メモリメーカー、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、半導体化学蒸着装置の市場規模を算出しました。 主要企業の半導体化学蒸着装置市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。

  • その他の各種サービス

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