「臨界角（θc）」とは、屈折率が大きいところから小さいところに光が向かうとき、全反射が起きる最も小さな入射角のことです。 試料にX線を極浅い角度で入射させると、入射角 が臨界角より小さいときは入射したX線はすべて反射（全反射）されます。入射角を徐々に大きくしていき、入射角が臨界角より大きくなると、X線が薄膜中に侵入し、反射X線の強度が小さくなります。 さらに入射角を大きくしていくと、薄膜表面で反射したX線と各界面で反射したX線が互いに干渉し、振動プロファイルが観測されます。このようにして得られた反射率の振動プロファイルは、その物質の d：膜厚、ρ：密度、σ：ラフネスに応じた特有のプロファイルとなります。 膜構造を仮定してシミュレーションを行い、実測値とシミュレーション結果が合うように各パラメータの最適化を行うことで、膜厚・密度・ラフネスの評価を行います。

XRDの評価対象である『結晶』とは、物質を構成する原子あるいは分子・イオンの集団が3次元的に繰り返し配列した状態のことです。Ｘ線を結晶に照射すると、結晶中の電子によりX線が散乱されます（散乱X線）。散乱X線は干渉し合い、ブラッグの法則を満たしたときに強い回折X線が生じます。 格子面間隔をd、 X線の入射角をθとした場合、第1面と第2面の行路差（－）は 2d sinθ となります。行路差が入射X線の波長λの整数倍の時に散乱X線が強め合い、ブラッグの法則が成り立ちます。

■周期構造による散乱 周期構造による散乱では、(1)のようなプロファイルが得られます。構造単位の周期性がピークとして現れます。低角領域の散乱X線を見ることで、数nm～数十nm程度の分子レベルの周期構造まで測定することができます。 ■粒子内部における散乱 粒子内部における散乱では、(2)のようなプロファイルが得られます。プロファイルの傾きは粒子（空孔）の大きさを反映しており、形状は粒子の形状や粒径分布を反映します。 広角に散乱されたX線⇒?オーダーの結晶の面間隔・歪み・配向性を評価 低角に散乱されたX線⇒ナノオーダーの分子の周期性・配向性を評価

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測定法：SEM・SEM-EDX・EBSD・TEM・TOF-SIMS・ICP-MS・XRD・SSRM 製品分野：二次電池 分析目的：組成評価・同定・化学結合状態評価・組成分布評価・形状評価・構造評価・製品調査