プラズマ/の製品一覧
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フォトマスクの新規開発に携わる方必見！コンパクトな設計で、様々なサイズのフォトマスク・ウエハの処理が可能なドライエッチング装置
- エッチング装置
小型から大型まで、ステンレス・鉄・アルミ・銅・インコネル・ハステロイの加工に対応。素材販売から加工・梱包・出荷までワンストップ
- 加工受託
受託テスト成膜サービス（高品位反応膜などの試験成膜）のご案内
これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。
エッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐プラズマ性・密着性に優れた「イットリア」を提供
- セラミックス
家庭用AC100V、持ち運べる軽量化設計；高出力200W！短時間で汚れを除去！母材を傷つけない！環境にやさしい、消耗品なし！
- その他マーキング
- 刻印機
- その他洗浄機
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結体で、高強度、耐摩耗性、化学的安定性などに応えます！
- その他半導体
【会社紹介動画】モノづくりに欠かせない金属加工技術
モノづくりに欠かせない技術力をイプロス内で公開中！ 株式会社 アイ・シイ・エス 広報担当です。 このたび弊社では、会社紹介動画を作成致しました。 熱処理、コーティング、溶射、認証取得、環境等 弊社の事業を3分ほどで知っていただける内容となっています。 動画をご覧になった方には 「熱処理のイメージが変わった。」 「うちの部品にコーティングを試してみたい。」 「キレイでクリーンな職場ですね。」 といっていただくことがあります。 ぜひ時間がある時にご覧いただければと思います。 ------------------------------------------------------------------------------------ 株式会社アイ・シイ・エスについて モノづくりに欠かせない３つの技術（金属熱処理、コーティング、溶射） で金属製品に高付加価値を付与します。 耐摩耗性、摺動性、耐疑着性、耐食性の向上等 現状では物足らない特性や機能をぜひアイシイエスへ気軽にご相談ください。 開発から量産まで一緒に成果につなげるお手伝いをさせていただきます。
CVDコーティング技術の世界市場：APCVD（大気圧化学蒸着）、LPCVD（低圧化学蒸着）、MOCVD（金属有機化学蒸着 ...
- その他の各種サービス
プラズマインジケータ『PLAZMARKⓇ デスミア用』は代表的なO₂＋CF₄系ガスに対応！高出力長時間の強力なプラズマ処理にも！
- その他実験器具・容器
【突発的な発熱から電子機器を保護】金属を適切に分散させ、放電プラズマ焼結（SPS）することで熱応答性の高い固体潜熱蓄熱材を開発！
- その他金属材料
サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発～量産に対応。デモ機でプロセスサポート。
- その他加工機械
- スパッタリング装置
- プラズマ表面処理装置
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 蒸着装置
- スパッタリング装置
- アニール炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性に優れる！独自のイオンアシスト蒸着法による酸化イットリウム
- 表面処理受託サービス
- エッチング装置
- 加工受託
装置内で部品（カバーリング、石英への溶射、シャワープレート）が、プラズマにより損傷を受け劣化したものを解決した事例を紹介！
- 加工受託
機械学習やAIを活用した業務効率化のお手伝いが可能！当社取扱いソフトや解析事例をご紹介
- その他解析
- 解析サービス
- ソフトウェア（ミドル・ドライバ・セキュリティ等）
中真空域でのスパッタリング技術を使用し、世界で初めて銅ダイレク成膜によるめっきシード層形成技術を開発！ 従来以上の生産性を実現！
- スパッタリング装置
他社には真似のできない高品質かつ高生産、低価格を実現！ 常に最新鋭設備を揃え、熟練の技がミクロン単位の加工を可能にします。
- 加工受託
原因の早期究明に役立ち、以前よりも信頼いただけるように！当社の製品事例をご紹介
- プラズマ発生装置
- 評価ボード
「光とレーザーの科学技術フェア2023」に出展いたします。
オプトシリウス株式会社は、「光とレーザーの科学技術フェア2023」に出展いたします。 【開催概要】 開催期間：2023年11月7日(火)～9日(木) 会 場：パシフィコ横浜（展示ホールC） 小間位置：S-10 主な展示品：レーザーパワー測定器、小型分光器、積分球、量子ドット、配光装置、高出力LED、レジスト 詳しくは以下のリンクをご参照ください。 https://www.optronics.co.jp/fair/
