卓上エッチング装置 ES-10/ES30
エアー噴流で、簡単・効率的にエッチング
両面基板の同時エッチングはもちろん、 数枚まとめてのエッチングにも対応可能な卓上エッチング装置
- 企業:サンハヤト株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月20日~2025年09月16日
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エアー噴流で、簡単・効率的にエッチング
両面基板の同時エッチングはもちろん、 数枚まとめてのエッチングにも対応可能な卓上エッチング装置
まだ手動ですか?卓上サイズで試験・実験に適した『スプレー式小型エッチング装置』のご紹介!フィルムのエッチング等の使用例も!
『スプレー型小型エッチング装置』は、プリント基板などのエッチング処理や、現像処理をする卓上サイズの基板制作装置です。 エッチング液(塩化第二鉄)の化学反応を使って、銅箔を回路パターン通りにエッチング(化学腐食、蝕刻)加工をします。 手動でやっている作業をスプレー型小型エッチング装置に置き換えれば、 再現性も高まり、作業効率も向上! フィルムへのプリント時のエッチングにも使用されたこともあるなど、 様々なシーンに合わせてご活用いただけます! 【特長】 ■コンベア搬送方式なので基板を差し込むだけの簡単処理 ■スプレー(片面)タイプなので、短時間・高品質な基盤に仕上がります ■実験・試作などの少量のエッチングにおすすめです ■ワークサイズは150×200mmまで対応 ■装置本体を机の上に置いて使用できる小型タイプ オプション品の専用排気処理用カバー(MODEL ES-400FC)を使用することにより、サンハヤト製排気装置ES-F2,KS-8などに接続が可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはPDF資料をダウンロードしてご覧ください。
お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能です。
液晶ガラスやタッチパネルなどに用いられる枚葉基盤を処理する装置です 【特長】 ■対応ワーク 100mm角~1000mm角まで対応可能(他のサイズ、形状は別途相談) ■揺動機構(水平揺動・スプレーノズル首振り)を付けることにより、処理効率を向上させます ■カセットtoカセット対応も可能 ※詳しくはPDF(カタログ)をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
エッチング装置
塩化第二鉄及び、塩化第二銅を使用し 現像後の銅箔をエッチングする装置 【特徴】 ○Lane構成:2Lane ○搬送速度:2.0m/min ○材料幅:TAB/CSP/COF用 35mm〜160mm(FPC用 250〜300mm) ○材料厚み:PI 25μm〜 ○加工面:片面 ○装置構成 :巻出〜エッチング〜水洗〜液切り〜乾燥〜巻取 ○ユーティリティー ・電源 AC200V・220V / 50Hz・60Hz ・市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、( スチーム ) ○装置寸法 :16m(L)×2.5m(W)×2.5m(H) ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
搬送速度は5.0m/min、材料幅は310mmまで対応!金属箔(ALなど)の表面をエッチング
当装置は、金属箔(ALなど)の表面をエッチングする装置です。 搬送速度は5.0m/min、材料幅は310mmまで対応。 装置は、巻出~エッチング処理~洗浄~乾燥~巻取の構成と なっております。 薄物で非常に脆弱な機材を当社の低テンション搬送技術により、 キズ・シワなく搬送し連続処理を行います。 【仕様】 ■Lane構成:1Lane ■材料厚み:20μm~ ■加工面:片面 及び 両面 ■ユーティリティー:電源(AC200・220V/50・60HZ)、 純水、市水、冷却水、スクラバー、 熱排気、(スチーム) ■寸法:15m(L)×2m(W)× 2.5m(H) ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応!薬液温度・圧力を精度よくコントロール
当装置はFPC等の薄い枚葉基板をロールtoロール搬送し連続にて エッチングを行います。 装置は、巻出(基板投入)~ラミネート~エッチング~水洗~ 酸洗~水洗~巻取(基板剥がし)~水洗~乾燥~基板積載の構成。 また搬送機構以外にも薬液温度・圧力を精度よくコントロールを行います。 【仕様】 ■Lane構成:1Lane ■搬送速度:1.5m/min ■材料幅:MAX350mm ■材料厚み:50μm~ ■加工面:片面 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄物製品を当社の搬送技術により、キズ、シワなく搬送し連続処理をする装置をご紹介
『ロールtoロール エッチング装置』は、薄物製品を当社の搬送技術により、 キズ、シワなく搬送し連続処理をする装置です。 搬送速度は、常用5.0m/minです。 対象とする樹脂フィルム材質(アルミ・銅・ステンレス等)に合わせ、 装置構成を組みご提案致します。 【特長】 ■装置サイズ:15000mm(L)×2100mm(W)×2600mm(H) ■基材幅:MAX 310mm ■処理工程:巻出⇒エッチング処理⇒洗浄⇒乾燥⇒巻取 ■搬送速度:常用 5.0m/min ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バキュームエッチング装置
基盤作成のためのバキュームエッチング装置です 当社自慢のチップオンフレキシブル、テープオンボードの技術を活かし 基盤回路幅を25μmまで極小化できます 【特長】 ◆業界をリードするバキュームエッチング技術を駆使 ◆当社の誇る、他の基盤製造機械との連携により回路幅を25μmまで極小化 ■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ =====詳細はお問い合わせください=====
バキュームエッチング技術により高精細なパターン処理を実現!面内バラツキ無く仕上がります
株式会社フジ機工の取り扱う、パターン形成用のエッチング装置を ご紹介します。 バキュームエッチング技術により高精細なパターン処理を実現し、 ほぼ面内バラツキ無く仕上がります。 また、微細な半導体パッケージ基板から厚銅基板まで対応できます。 【特長】 ■枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応 ■微細な半導体パッケージ基板から厚銅基板まで対応 ■バキュームエッチング技術により高精細なパターン処理を実現 ■ほぼ面内バラツキ無く仕上がる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【デモ実施中!】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置
「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオン源、イオンビーム技術の お問合せやご質問、デモンストレーションについては お気軽にご相談ください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチングを行うイオンビームエッチング装置です。
小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング(IBE)装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 80℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテクター搭載可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
培われた技術と新しい感性で、新時代を迎え躍進し続けます!
株式会社三友製作所は、医療用分析機器関連製品の製造、電子顕微鏡関連の 付属品の製造、半導体故障解析用ツールの製造を行うモノづくり企業です。 創業以来精密機械加工を中心に事業を展開し、そこで培われた技術が当社の 技術基盤を形作っています。設計、機械加工、組立・調整まで一貫した生産 形態を持つことで、顧客からの短納期要求にも対応できております。 現在は、医療用分析機器関連製品の製造が大半を占めておりますが、近年、 次世代を見据えた技術開発にも取り組んできております。 私共は、お客様のニーズを先取りし、常にチャレンジャーとして、科学の発展、そして、未来創生の為に貢献していきたいと考えております。 【事業内容】 ■電子顕微鏡関連付属品の製造 ■半導体故障解析ツールの製造 ■精密機械加工 ■分析機器関連製品の製造 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
お客様のご要望に合わせたエッチングシステムをご提案致します!
ナップ工業株式会社から、連続自動エッチングシステムのご案内です。 印刷→乾燥→エッチング→剥離→水洗→拭上→保護膜貼り。
触媒機能を持つパッドにより、純化学的に様々な材料を原子スケールで平坦化
触媒機能を持つパッド(PtやNi等の触媒を成膜)を加工対象物上で超純水を加工液として動かすことで被加工表面上の凸部のみ化学的に除去する触媒作用を利用した独自のエッチング技術。ガラスやSiCを始めとする様々な材料表面を原子スケールで平坦化します。 CAREは更にP-V0.7nmを実現し、将来的には原子1個分の平坦度をも可能となる究極の加工法です。
<30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細なエッチング処理を実現
【nanoETCH(ナノエッチ)】Model. ETCH5A <30W(制御精度10mA)低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。