金属表面の酸化層管理
自然酸化層、強制加熱酸化層の工程内での定量管理が可能です。
銅合金・アルミ合金・リードフレーム材・Niめっき等の自然酸化層、強制加熱酸化層の工程内での定量管理が可能です。コロナサーフはさまざまな産業分野で表面清浄度、表面品質の管理に使用されています。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所
- 価格：応相談
成膜装置 - メーカー・企業37社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年08月27日～2025年09月23日
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成膜装置のメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月27日～2025年09月23日
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- DIAM株式会社 千葉県/製造・加工受託
- 株式会社クリエイティブコーティングス 東京都/電子部品・半導体
- 株式会社マツボー 東京都/商社・卸売り
- 4 京浜ラムテック株式会社 神奈川県/製造・加工受託
- 5 日本エバテック株式会社 大阪府/電子部品・半導体
成膜装置の製品ランキング
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- 【導電性ダイヤモンド技術活用事例】電解酸化法によるPFAS分解 DIAM株式会社
- 低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー) 株式会社クリエイティブコーティングス
- ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 株式会社渡辺商行
- 4 多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD） 株式会社マツボー
- 5 DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
成膜装置の製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 70 件
表示件数
ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代のガラス基板成膜装置
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150～300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル ・導入・維持コストの削減: 小フットプリント、真空・プラズマ処理不要 【用途】 ・FPD向け絶縁膜(NSG) ・酸化物半導体TFT パッシベーション膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社渡辺商行
- 価格：応相談
プラズマイオン注入成膜装置
日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です。
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です
- 企業：株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- 価格：応相談
DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」
３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装置
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。 DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。 【特徴】 ○３次元形状成膜が可能 ○装置の大型化が可能 ○低温処理が可能 ○完全自動運転 ○安心のログ機能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- 価格：応相談
【応用事例】パルスレーザ成膜（PLD）
当社独自の高出力エキシマレーザ！長稼働時間、長寿命を実現
当社のパルスレーザ成膜(PLD)用の強力なエキシマレーザにより、 スループット速度で迅速かつ穏やかに堆積させることができ、研究や 大量生産をサポートします。 堅牢なCOMPexレーザを使用することで、パルスレーザ成膜(PLD)の 化学量論的に優れた結果を得ることが可能。 高出力LEAPレーザにより、広範囲の高性能薄膜を実現、 また、エキシマレーザは長稼働時間、長寿命を実現しています。 【ラインアップ】 ■COMPEX ■LEAP ■LAMBDA SX ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC
- 価格：応相談
デュアルイオンビーム成膜装置
デュアルイオンビーム成膜装置
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan装置のソフトウエア、ハードウエハを開発した主要なスタッフにて設立されました。スキアシステムズ社はユニークで且つ独自の最先端のイオンビームやプラズマ技術を開発し、研究開発装置から量産向け装置を取り扱っております。
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
ロール to ロール装置『ATMOS-R2Rシリーズ』
同一チャンバーに搭載可能！マルチゾーン化によりクロスコンタミを低減
『ATMOS-R2Rシリーズ』は、ロール to ロール装置です。 様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの表面トリートメント・成膜し、 同一チャンバーのマルチゾーン化によりクロスコンタミを低減。 各種の成膜用ソースやトリートメント用ソースが 同一チャンバーに搭載可能で、FLOCONシリーズのガス、 蒸気や液体制御システムの統合による高い対応性があります。 【特長】 ■様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの 表面トリートメント・成膜 ■同一チャンバーのマルチゾーン化により クロスコンタミ低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
パルスレーザー成膜装置『GLAZEシリーズ』
800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能！高効率・高品質な成膜が可能なパルスレーザー成膜装置
『GLAZEシリーズ』は、先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置です。 ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能。 800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能で、 マグネトロンカソードも搭載が可能です。 【特長】 ■先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置 ■ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能 ■800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能 ■マグネトロンカソードも搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF
ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD表面処理装置です。
試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。
- 企業：株式会社マイクロフェーズ
- 価格：応相談
有機EL用成膜装置
有機材料開発用成膜装置
【特徴】 ・搬送機構にてマスク及び試料搬送が可能。 ・有機材料と金属材料が同じ部屋で成膜可能。 ・有機材料と金属材料の共蒸着が可能。 ・有機材料共蒸着が可能（最大4元）。 ・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備。 ・蒸着室において、基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能。 ・基板とマスク間ギャップは最少。 ・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5％以内。 ・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない。 ・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い。 ・グローブボックスと接続可能。 ・PLC制御にて自動搬送・自動排気が可能。 ・導入室内には基板及びマスクホルダーが標準5枚ストック可能。
- 企業：北野精機株式会社
- 価格：応相談
有機EL用成膜装置
有機EL用のインライン型の自動制御機能を盛り込んだ研究開発用装置です。
有機材料（有機EL）成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。
- 企業：北野精機株式会社
- 価格：5000万円 ~ 1億円
有機EL用成膜装置
有機EL用の実験装置です。搬送系の操作は、PCより制御可能です。全自動式のクラスター型成膜装置の完成形です。
有機EL成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が16台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。
- 企業：北野精機株式会社
- 価格：1億円 ~
フィルム連続成膜装置
フィルム連続成膜装置
ロール状フィルムを連続成膜する装置 ■□■特徴■□■ ■スパッタ・EB・抵抗加熱蒸着に対応 ■テンションピックアップフィードバック制御 ■フィルム放出ガス排気用コールドトラップ ■差動排気システム（任意設置） ■基板クリーニング機構 ■抵抗値透過率モニター機構 ■成膜ローラー冷温媒装置 ■表裏連続成膜にも対応します（右記イメージ図参照） ■ロール幅・ロール径・巻取り速度は任意相談 ■巻取り制御 UW、W、CR単独制御 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。
- 企業：ケニックス株式会社
- 価格：応相談
DLCによる耐食性対策＜STD-DLC＞
ピンホールの殆どない厚膜DLCで耐食性に優れたDLCを成膜します
当社方式は内部応力の小さいDLCが成膜可能です。 その為、厚膜DLCの成膜ができ、殆どの酸、アルカリに侵されません。 他社では難しい複雑形状、パイプ内面などにも成膜出来ます。
- 企業：株式会社プラズマイオンアシスト
- 価格：応相談
