マルチ成膜装置VEＳ－１０
親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。
マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了まで自動で行なえます。機能切替はボタン一つで楽々。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社真空デバイス 本社
- 価格：100万円 ~ 500万円
成膜装置 - メーカー・企業37社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年08月27日～2025年09月23日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
成膜装置のメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月27日～2025年09月23日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
- DIAM株式会社 千葉県/製造・加工受託
- 株式会社クリエイティブコーティングス 東京都/電子部品・半導体
- 株式会社マツボー 東京都/商社・卸売り
- 4 京浜ラムテック株式会社 神奈川県/製造・加工受託
- 5 日本エバテック株式会社 大阪府/電子部品・半導体
成膜装置の製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月27日～2025年09月23日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
- 【導電性ダイヤモンド技術活用事例】電解酸化法によるPFAS分解 DIAM株式会社
- 低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー) 株式会社クリエイティブコーティングス
- ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 株式会社渡辺商行
- 4 多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD） 株式会社マツボー
- 5 DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
成膜装置の製品一覧
16～30 件を表示 ／ 全 70 件
表示件数
『各種真空成膜装置』
ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います
創意工夫を大切にし、時流に流されない研究開発を続けるナノテックが 取り扱う『各種真空成膜装置』をご紹介します。 当社では、ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置の カスタマイズ製作を行います。 HIPIMS法による成膜を行う「ICF成膜装置」をはじめ、半導体プラズマ洗浄用 プラズマエッチング装置「NAPE500」などをご用意しております。 【ラインアップ】 ■ICF成膜装置 ■プラズマエッチング装置「NAPE500」 ■パルスバイアス実験装置「ICF330」 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ナノテック株式会社
- 価格：応相談
開発向けマルチ成膜装置『R＆D向けPVD』
マグネトロンスパッタ、熱蒸着、EBに対応！IoT・車載デバイスの開発向け複合成膜装置
『R＆D向けPVD』は、開発向けマルチ成膜装置です。 マグネトロンスパッタ、熱蒸着、EBに対応。 ワールドワイドで納入実績は、400台以上を誇ります。 モジュール設計により、ご希望に応じた組合せが可能です。 【特長】 ■R＆Dに特化した開発用成膜装置 ■著名な研究所、大学、企業など納入実績400台以上 ■マグネトロンスパッタ、熱蒸着、E-Beamの組合せが可能 （改造により組合せも変更可能） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社日立ハイテク
- 価格：応相談
【コンパクト×高拡張性】モジュール式真空成膜装置の優位性
シンプルな操作性！短時間かつ低コストで全く異なる目的の真空システムに再構築可能
当社が取り扱う『モジュール式真空成膜装置』についてご紹介します。 一般的な真空装置の場合、KFポートやCFポートが溶接されていて、 システム導入後はポート配置は固定され、チャンバー構成を 変更することはできません。 当製品の場合、すべてのパネルは取り外して交換可能。 まさにブロックを組み立てるような要領で、さまざまな チャンバー構成に変更することができます。 【優位性（一部）】 ■コンパクト設計（実験台の上に設置可能） ■シンプルな操作性 ■ポート配置、ポート数を変更可能 ■高い拡張性（成膜ソースやアクセサリーの追加） ■単純なコーティングから多層膜まで多目的に利用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：テガサイエンス株式会社
- 価格：応相談
マイクロ波ダイヤモンド成膜装置『MDD-2016』
安定な高密度プ ラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成するマイクロ波ダイヤモンド成膜装置！
『MDD-2016』は、高出力（最大5kW）のマイクロ波電源および自動整合器（4Eチューナ） により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成できる装置です。独自のプラズマ制御機能により、プラズマ点灯状態で基板上のプラズマ分布を制御できます。マイクロ波電源はマグネトロン発振（ 連続波、パルス波、高安定スペクトル）およびソリッドステート発振など、当社電源ラインアップからお選び頂けます。 【特長】 ■高出力（最大5kW） ■高密度プラズマを発生 ■高品質ダイヤモンドを高速合成 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：日本高周波株式会社
- 価格：応相談
ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』
複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置
『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリーニング効果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：JSWアフティ株式会社
- 価格：応相談
クリエイティブコーティングス『気相技術』
ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介！
「気相技術」は、樹脂原料・燃料電池など『新素材・新材料』『エネルギー』、医療センサー・機器など『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。 また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm～1000nmの成膜を実現。 蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。 【特長】 ■ALDロボットCVA series ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能 ■バレル型ALDロボットCVA-B series 低温ALD装置とバレル機構の融合 ■低温高周波励起DLC成膜装置CVC series 低温で、グラファイトからDLCまで密着性の良い成膜が可能 ■バブリングCVDロボットCVB series 液体→気体 低温で、低コスト＆高品質成膜が可能 ■IBAD（イオンアシスト蒸着法）CVI series IBADによる受託成膜例 低温での低エネルギー照射を可能にし、タッチパネルの透明導電膜（Zn O）や高融点金属電極形成の密着性が向上
- 企業：株式会社クリエイティブコーティングス
- 価格：応相談
低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー)
従来ta-Cと比較し密着力向上した低温DLC(Diamond-like carbon）薄膜硬質コーティングが可能！
高密着で安定した高品質な成膜が可能！ 高硬質(耐摩耗性)、低摩擦係数(耐摩耗性)、耐食性、耐凝着性、平滑性なDLC成膜をおこなうことで 半導体製造装置パーツ用金型や樹脂成形金型、摺動部品や治工具などの長寿命化に貢献。 顧客のコスト削減だけでなく、清掃作業などの保守業務工数削減や業務改善にも最適。 立体的な超精密な複雑形状な金型や機械部品にも 「はがれにくく高密着、平滑＆硬質な低温DLC成膜」が可能。 高硬度＆耐摩耗性向上だけでなく「剥離処理～再成膜も受託可能」なため、 製品のライフサイクルコスト低減や材料廃棄削減など環境負荷低減にも貢献。 ++++++++++++++++++++++++++++++ DLCとは：ダイヤモンドライクカーボン(Diamond-Like Carbon)の略で、 ダイヤモンドとグラファイトの中間特性を有する滑り性の良い硬質な薄膜コーティングが可能。 SP3(ダイヤモンド結合)とSP2(グラファイト結合)の比率、その中に含まれるH(水素)の比率、 また多層被膜することによって、様々な物性や特性(工業的価値)を持つ薄膜を作ることが可能。
- 企業：株式会社クリエイティブコーティングス
- 価格：応相談
RAM クラスター型スパッタリング成膜装置
拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能
RAMクラスター スパッタリングシステムは、 RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード）が搭載されたクラスター型スパッタリング装置です。 下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。 拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能。 また、25段多段ラック式のロードロックを搭載し、多種多様な成膜レシピをスロットごとに 自動で成膜することができ、あらゆる研究開発に対応できます。
- 企業：京浜ラムテック株式会社
- 価格：応相談
ロールツーロール式真空成膜装置
試験研究に好適な小型ロールツーロール成膜装置！
『ロールツーロール式真空成膜装置』は、ロールツーロールにて フィルム基板上に連続的に薄膜形成が可能な装置です。 コンパクトでエコノミーな装置なので、研究開発に好適。 フィルム搬送系に工夫をすることで、高速成膜が可能になります。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【主な仕様】 ■成膜方式：DCマグネトロンスパッタリング（オプションにてRFに対応） ■基板搬送：ロールツーロール（張力制御付）、速度0.2~3.0m/min、 張力15~80N ■ローラー面長：140mm ■フィルム寸法：最大幅100mm、長さ100m（フィルム厚50μm） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。
- 企業：ユースエンジニアリング株式会社
- 価格：応相談
プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』
パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております。 【仕様】 ■プロセス温度：80℃～500℃ ■ウエハサイズ：150mm、200mm ■成膜速度：0.1nm/min～500nm/min ■アスペクト比 ・20：1 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
成膜装置『Corial 200 Series』
用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置
当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE,ICP,ICP+RIE,ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
小冊子プレゼント！『失敗しないコーティング選び』第２弾！
読むだけで“硬質薄膜の品質管理”が分かる！膜厚・硬さ・密着力の測定方法を解説
耐摩耗性・潤滑性に優れたDLCコーティングを得意とする当社から、大人気の小冊子『失敗しないコーティング選び』第2弾が登場！ 今回は“硬質薄膜の品質管理”をテーマに、品質管理の基礎知識をはじめ 「マスキング段差測定法」「インデンテーション硬さ試験」「スクラッチ試験法」など、膜厚・硬さ・密着力の測定方法について徹底解説しています。 冊子でご希望の方は『お問い合わせ』からお願い致します。 【掲載内容】 ■硬質薄膜の品質管理とは？ ■膜厚の測定方法 ■硬さの測定方法 ■密着力の試験方法 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所
- 価格：応相談
DLC（ダイヤモンド状炭素）成膜装置
医療用途・光学部品に！イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマCVD装置
『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニング イオンゲージ放電形式）プラズマCVD装置です。 低温かつ高真空での処理を可能とし､硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。 他方式に比べ基板に入射するイオンの量とイオンのエネルギーをそれぞれ 独立して制御できる為、極めて広範囲な膜質の制御が可能です。 また、東製株式会社では、超硬・ステンレス･工具鋼などへのダイヤモンド状 炭素膜の優れた特長を広くご活用いただける表面処理加工も行っております。 【特長】 ■低摩擦係数 ■対摩耗性 ■低攻撃性 ■非溶着性 ■絶縁性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：東製株式会社
- 価格：応相談
プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- 価格：応相談
