更新日： 集計期間:2026年08月19日～2026年09月15日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年08月19日～2026年09月15日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年08月19日～2026年09月15日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
31～60 件を表示 ／ 全 62 件
医療用途・光学部品に！イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマCVD装置
『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニング イオンゲージ放電形式）プラズマCVD装置です。 低温かつ高真空での処理を可能とし､硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。 他方式に比べ基板に入射するイオンの量とイオンのエネルギーをそれぞれ 独立して制御できる為、極めて広範囲な膜質の制御が可能です。 また、東製株式会社では、超硬・ステンレス･工具鋼などへのダイヤモンド状 炭素膜の優れた特長を広くご活用いただける表面処理加工も行っております。 【特長】 ■低摩擦係数 ■対摩耗性 ■低攻撃性 ■非溶着性 ■絶縁性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
自公転式サンプルホルダーを採用！カスタマイズ可能なバッチ式大型コーティング装置
当社で取り扱っている『バッチ式FCVA装置』をご紹介します。 自動車部品やプリンター部品等の摺動部品への成膜に有効に 用いられています。 自公転式のサンプルフォルダーにより、均一な膜厚分布を示しています。 【特長】 ■自公転式サンプルホルダーを採用 ■カスタマイズ可能 ■生産性の向上に寄与 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパでポリパラキシレン成膜及び装置販売を行ってきました。
本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが実行可能です。成膜レシピのログもCSVファイルに出力することができます。 ・装置のカスタマイズが可能です。
MEMSやFBARの生産に特化した成膜装置です。
米国AMS社スパッタ装置(圧電膜、誘電体膜、メタルスパッタ装置)は、Al膜、Mo膜をメインに、その他多くの膜において高い面内均一性を達成します。
ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層を交互に積層します。
パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。 パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はありません。また、プロセス・ノウハウもメーカはあるので、レシピに関する情報も提供可能です。 デモ成膜も行っていますので、お気軽にお問い合わせください。
太陽電池、5Gアンテナなど、フレキシブルデバイスの製造に『ロールtoロール (Roll to Roll) 成膜』。
■概要 樹脂フィルムや金属箔などの大量生産に適し、ロール状に巻いた材料に成膜できます。 4µmの極薄の対応実績があります。 お客さまの目的用途に応じた仕様決定など、開発品のための機能性薄膜設計コンサルも承ります。 わたしたちが長年培った『透明導電膜・ITO膜』の技術と知見を、製品づくりにぜひご活用ください。
炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能
長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型CVD装置です。
有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。
有機材料と金属材料が同部屋にて成膜可能なハイブリット型成膜装置です。有機材料及び金属材料の共蒸着が可能です。
有機材料成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが同部屋に標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。また、グローブボックスへ接続可能なシステムです。本システムは、有機材料と金属材料が同じ部屋にて成膜可能なハイブリット型蒸着装置となります。
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）
可能性の中でテクノロジーは加速する。
ＤＣＬとは、ダイヤモンドのような性質を持ったカーボン膜の意味です。 表面が非常に硬いなどの大きな性質をもっており、工業用材料や加工品など、更に新素材の誕生の期待が持たれています。
新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見！樹脂基板への金属膜、保護膜を全自動で成膜
新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【対象製品】 ◆自動車ヘッドランプリフレクター ◆ミラー ◆金属装飾膜 ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
低温プロセス 高屈折率制御 高速反応性成膜 緻密・平坦膜
『AFTEX-9000シリーズ』は、低温・低ダメージで高品質なナノ薄膜形成を 実現可能な装置です。 基板サイズ8インチ対応、ECRプラズマ源を3基まで搭載可能で、これらを 同時に稼動することにより生産性を大幅に向上することができます。 ナノ薄膜形成には是非当社製の装置をお使い下さい。 【特長】 ■8インチ対応のECR成膜モジュールを最大３基接続可能な 本格的マルチチャンバ方式の C to C枚葉式全自動システム ■3基のECRプラズマによる同時成膜可能で高い生産性を実現 ■レシピによる搬送フロー､成膜チャンバ､成膜プロセスの設定が可能で､ 任意の材料の多層膜を全自動で成膜可能 ■基板傾斜回転と低圧成膜により、優れた均一性を実現 ■装置内分光システム（オプション）で膜厚・屈折率分散等の 測定が可能 ■固体ソースからの原料粒子と高活性なECRプラズマ流を 直接反応させるため､高価な除害設備が不要で環境に優しい ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置
『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、 窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い 結晶性薄膜を得ることも可能です。 【特長】 ■固体ソース ECRプラズマ成膜装置の基本機能のみを装備 ■自動成膜装置にくらべて低価格 ■長期安定稼働を実現 ■クリーンな成膜環境 ■各種インターロック機構採用 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置
AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。 【特長】 ■高絶縁膜特性 ■多層膜 ■緻密・平坦膜 ■低ダメージ ■長期安定稼働 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜はプラズマCDV法、スパッタリング等のマルチプロセスも可能
『ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に 表面処理をする装置です。 ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、 成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセス を組み合わせたマルチプロセスが可能です。 また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。 【特長】 ■ドラムレスのフラットWeb搬送が可能 ■処理表面の成膜前非接触搬送が可能 ■マルチプロセスが可能 ■TMP＋CRT排気システムを採用 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多層成膜により耐荷重性向上した低温DLC(Diamond-like carbon）薄膜硬質コーティングが可能！
高密着で安定した高品質な成膜が可能！ 高硬質(耐摩耗性)、低摩擦係数(耐摩耗性)、耐食性、耐凝着性、平滑性なDLC成膜をおこなうことで 半導体製造装置パーツ用金型や樹脂成形金型、摺動部品や治工具などの長寿命化に貢献。 顧客のコスト削減だけでなく、清掃作業などの保守業務工数削減や業務改善にも最適。 立体的な超精密な複雑形状な金型や機械部品にも 「はがれにくく高密着、平滑＆硬質な低温DLC成膜」が可能。 高硬度＆耐摩耗性向上だけでなく「剥離処理～再成膜も受託可能」なため、 製品のライフサイクルコスト低減や材料廃棄削減など環境負荷低減にも貢献。 ++++++++++++++++++++++++++++++ DLCとは：ダイヤモンドライクカーボン(Diamond-Like Carbon)の略で、 ダイヤモンドとグラファイトの中間特性を有する滑り性の良い硬質な薄膜コーティングが可能。 SP3(ダイヤモンド結合)とSP2(グラファイト結合)の比率、その中に含まれるH(水素)の比率、 また多層被膜することによって、様々な物性や特性(工業的価値)を持つ薄膜を作ることが可能。
パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。
RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード） 及び強磁場プレーナーカソードを搭載したデポジションアップ式水平インライン型スパッタ装置です。 下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。 その後、強磁場カソードで高速成膜を行います。 ロードロックストッカー及びアンロードロックストッカーに各15トレイずつ真空保管されます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ナノ材料の分散塗布および成膜を簡便に実現！
当社では、高品質の静電噴霧技術により、ナノ粒子をワーク上に成膜する 静電噴霧成膜装置『PDS-D01』を取り扱っております。 ノズルとワークとの距離を調整することにより、細密充填構造的な 膜(ウェットモード)や多孔質的な膜(ドライモード)を選択可能。 また、印加電圧の選択(DC、パルス、ACの3種類)により、ミクロン オーダーの大粒子の噴霧や絶縁性ワークへの成膜を可能にしています。 【装置について】 ■デスクトップPC、コントローラ、塗布機構本体から構成されている ■塗布機構には噴霧状態を観察するため光源及びカメラが装備 ■成膜範囲は標準のもので50mm四方 ■予備噴霧を行うテストエリアあり ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 ＜特長＞ ■高速・高効率イオンビームスパッタリング 誘電体・強磁性ターゲットへの最適解 ■ヘリコンプラズマイオンソースとターゲット印加 高速スパッタリングと低コンタミの両立 ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減 グリッドレス構造によるメンテナンス低減 リモートプラズマ構成による、基盤を低温に保ってのスパッタリング ■枚葉処理 ステップカバレージの向上 クラスターツールによる複合成膜 ■優れた直進性 直進性の高いイオンビームにより、均一な膜厚での成膜が可能。 ステップカバレッジの優れた成膜
2元および3元の組成傾斜膜が作成可能！様々な固体素子に用いられる機能性材料を成膜いたします
当社では、創業以来、大変ご好評をいただいているユニークなサービスとして、 コンビナトリアル技術を用いた薄膜試料を作成いたします。 任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能。 熱電材料・強誘電体・強磁性体・バッテリー電極・相変化メモリ材料・ 金属間化合物など、様々な固体素子に用いられる機能性材料を成膜いたします。 【特長】 ■経験豊かな技術スタッフが新機能性材料開発をお手伝い ■薄膜堆積法として、スパッタ法、 PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いている ■任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実現
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を 2倍以上に伸ばすことに成功しております。 【特長】 ■均一性<2% 3σ(200mmウエハ)、スキャニングモーションを 取り入れることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、 Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システム
『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ） ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
低コストで高い生産性！モジュール設計なので、顧客の要件に合わせて装置を構成
当社の成膜システムは薄膜太陽電池のスタンダードも作り続けています。 PIA|novaとXENIAは、裏面電極層、透明導電膜（TCO）、そしてCIGSや CdTeテクノロジーのような様々な種類の吸収層を成膜するモジュール式を採 用した、高度な自動化装置プラットフォームです。 薄膜太陽電池メーカーとの長年にわたる提携、そして大型ガラス基板の成膜に 関して積み上げてきた経験により、生産コストを減らしつつ、同時に変換効率を 向上させる推進力になっています。 【その他の事業（一部）】 ■建材およびモビリティー向けのガラス成膜 ■結晶太陽電池 ■フレキシブル基板 ■特殊アプリケーション ■モジュール式プロセスシステム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
PLP向けにより高い生産性！より多くのプロセス可能性。アドバンストパッケージング向けに最適
「CLUSTERLINE600」は、大型パネル向けに特化したPVD成膜装置。 すべてのプラットフォームは、カセットからカセットへの処理と 完全に自動化された処理を備えたクラスターアーキテクチャを共有。 【チャンバー構成】 ■脱ガスチャンバー ■イオンエッチング ■Tiスパッター ■Cuスパッター ※詳しくはPDF(英語版)をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
現地調査から設計・施工まで、経験豊富なエンジニアが対応します！
当社では、お手持ちの装置を活かしつつ、先進の成膜技術を導入いたします。 現行の設備をそのままに性能をアップグレードしたい企業様に好適。 海外の装置の輸入販売も手掛けており初めてのご担当者様でも丁寧な ヒアリングと現地調査で安心してご相談していただけます。 その他、自社製スパッタ成膜源販売および海外製品の輸入販売なども 行っております。 【サービス内容】 ■コストを抑え、設備の延命と性能向上を実現 ■計画的な対応で現場の運用に配慮 ■実機を熟知した技術者が直接対応 ■お客様の課題に合わせた好適設計 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
