露光装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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露光装置 - 企業27社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年04月02日~2025年04月29日
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企業ランキング

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  1. 株式会社サーマプレシジョン 東京都/その他
  2. 株式会社インターテック販売 東京都/電子部品・半導体 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)
  3. 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
  4. 4 株式会社イーエッチシー 東京都/電子部品・半導体
  5. 4 株式会社大日本科研 京都府/光学機器

製品ランキング

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  1. 投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用 株式会社サーマプレシジョン
  2. 平行光露光装置 株式会社イーエッチシー
  3. マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
  4. 一括露光機 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)
  5. 4 LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ

製品一覧

31~45 件を表示 / 全 70 件

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疑似平行露光装置『F1型/F2型』

照度分布の均一化を実現!積算光量計により10chのメモリー登録が可能な疑似平行露光装置

当社が取り扱う、疑似平行露光装置『F1型/F2型』をご紹介します。 ランプは3kwメタルハライドランプ。フレーネルレンズを採用しており、 拡散光を擬似平行光にします。 また、積算光量計により10chのメモリー登録ができ、ランプ交換により 水銀ランプ(UV360nm)も可能です。 【特長】 ■拡散光を擬似平行光にする ■照度分布の均一化を実現 ■積算光量計により10chのメモリー登録ができる ■ランプ交換により水銀ランプ(UV360nm)も可能 ■露光制御装置:EC501(10chメモリー付き) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他

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平行光露光装置

コンパクト設計な平行光露光装置です。

本装置は、点光源の超高圧水銀灯を光源とする、コリメーションミラー方式の平行光露光装置です。主要構成は、光源部・吸着式の露光テーブル部・マスク部から成り、露光方式は、真空密着式(ハードコンタクト)の露光方式が可能になっております。要望により、プロキシミティ方式も承ります。 露光管理の為に、積算光量計も搭載し、適正露光量を設定し易くなっており、架台付きで、コンパクト設計な露光装置です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 試料セット2.JPG
  • 平行度測定.JPG
  • その他FPD関連

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【半導体製造装置関連】自動両面マスク露光機

ウェハ搬送ロボットによる全自動搬送2マガジン対応の自動マスク露光機。

500万画素CCDによるアライメント精度±1.0µm。

  • 光学顕微鏡
  • その他顕微鏡・マイクロスコープ

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露光装置 小型露光装置

JEMの装置は簡単な操作で正確な製版ができます。

露光時温度を一定に保つ様、ランプのブロワー換気を行っていますので露光安定性、再現性にすぐれています。露光面積に余裕があり、専用バキュームポンプを使用しています。振動騒音が少なくネガフィルムの密着は完璧です。

  • その他半導体製造装置

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露光装置 表面処理後露光装置

操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長期間使用できます。

JEMの装置は簡単な操作でべた付きのない美しい製版ができ、段ボール印刷からプロセス等の美粧印刷まで高品質な印刷ができます。

  • その他表面処理装置

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露光装置 大型両面露光装置

操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長寿命です。

JEMの新型両面露光機は、一度樹脂版をセットするだけで裏返す手間が省け作業時間が短縮でき、省力・省エネ・低コスト・高品質な製版に貢献します。

  • その他半導体製造装置

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露光装置 ロータリー型露光装置

正確な製版が可能です。

JEMの装置は簡単な操作で正確な製版ができます。

  • その他半導体製造装置

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マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献します。

半導体製造工程・マイクロセンサー(加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー)製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル(1ミクロン以下)の露光精度を実現。 試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します。 【特徴】 ○高価なマスクが不要となる ○マスクデータの外部流出防止 ○描画パターンの設計から描画までの時間短縮 ○描画パターンの設計変更が容易 ○各基板の歪みに合わせた露光パターンの補正等が可能 ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他半導体製造装置

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Ø150mm対応露光装置

Ø2”~6”対応全自動露光装置(マスクアライナ)

【主な特長】 ・全機能がコンパクトに一体化 ・独自のアライメントシステムを搭載。 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助と生産管理。 ・上位通信システム対応可能。 ・量産用としてのべ500台以上の販売実績。

  • その他半導体製造装置

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自動両面露光装置

フィルム材料用 Roll To Roll 自動両面露光装置

自動両面露光装置は、高精度両面自動整合機を搭載しています。 平行光ランプで高精度画像が得られます。 【特長】 ■タッチパネル PET フィルム用 Roll To Roll 露光装置 ■フィルム搬送を熟知した材料搬送技術 ■露光機専用に開発された画像処理装置搭載 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置

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ロール両面同時露光装置『BEX-560DR-LED』

ランニングコストの負担軽減に貢献するロール両面同時露光装置!

『BEX-560DR-LED』は、生産性・高精度・大面積・省エネ・拡張性など 1台で多様な生産現場のニーズに対応できるロール両面同時露光装置です。 高品質なLED光源ユニットを搭載し、ランニングコストの負担を軽減。 また、超高精度アライメント機構によりパターン表裏の位置合わせ精度 1μmを実現します。 【特長】 ■露光室のクリーン度を上げる/装置内をクリーン度でクラス分け ■ランニングコストの負担を軽減:高品質LED光源ユニット  ・ランプ交換不要の長寿命LED  ・LED専用設計のフライアイレンズ  ・水銀灯比1/8の低消費電力  ・高速電子シャッター搭載  ・熱線を含まないLED光源(365nm) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置
  • その他工作機械

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実験・研究機向け 手動式露光装置『MA-1000シリーズ』

独自のギャップ機構と高速画像処理!オートアライメントシステムで多層露光が可能

『MA-1000シリーズ』は、多品種小ロット生産や実験・研究に好適な 手動式露光装置です。 ソフトコンタクト露光と、プロキシミティ露光を採用可能。 また、用途と基板サイズに合わせて超高圧水銀ランプ、各種ミラー、 特殊レンズを好適に組み合わせた光学系を準備いたします。 【特長】 ■ソフトコンタクト露光と、プロキシミティ露光を採用可能 ■独自のミラー・レンズ光学系を採用した面内均一照明 ■多層露光が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他加工機械

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縮小投影型露光装置 Stepper

縮小投影型露光装置 Stepper

「ミクロ」から「ナノ」も世界へ

  • その他画像関連機器

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紫外線偏光露光装置 HC−1001PUFM

均一性の優れた一定の偏光光のみを選択して照射する光源装置

【特徴】 ○水銀キセノンランプを光源とし、紫外線コールドミラーと  光学インテグレータ使用により、均一性の優れた一定の  偏光光のみを選択して照射する光源装置 ○偏光消光比 50:1以上の光を照射 ○高透過率干渉フィルターを装着することで  照射波長を選択することができる ○希望の照射面積・照射強度に対応可能

  • 紫外線照射装置

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φ300mm(12インチ)ウェハー用全自動両面露光装置

各工程インテグレードで効率生産!!!

<特徴> MLCSP、C-MOSno裏面配線用両面アライメント露光装置です。 エンバイロメント(Foup)を装備し、GEM300、OHTも対応 スピンコーター、デベロッパーもインテクレード可能、レジストコートから露光、現像まで全自動で パターニングが可能(オプション) レチクル自動交換(オプション)

  • その他半導体製造装置
  • ウエハ加工/研磨装置

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