フラットパネル露光装置＜超大型縦型露光＞
大型パネルのマスクの撓みを大幅に削減！！
<特徴> 大型パネルのマスクの撓みを最小限に抑えたマスク縦型の露光装置です。 多面取、大型パネルをXステップで露光。高い継ぎ精度で露光します。 マスクとパネルの精密温度制御を行い、トータルピッチを抑えた装置になっています。
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
露光装置 - 企業27社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年04月02日～2025年04月29日
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企業ランキング
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- 株式会社サーマプレシジョン 東京都/その他
- 株式会社インターテック販売 東京都/電子部品・半導体 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
- 4 株式会社イーエッチシー 東京都/電子部品・半導体
- 4 株式会社大日本科研 京都府/光学機器
製品ランキング
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- 投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用 株式会社サーマプレシジョン
- 平行光露光装置 株式会社イーエッチシー
- マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
- 一括露光機 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 4 LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 70 件
表示件数
大型タッチパネル用露光装置
独自光学系と照明で高精度にアライメント！！！
<特徴> 4.5G（920＊730mm）～6G（1500＊1850mm）までのタッチパネルの薄板に対応します。 ITO、OC1、メタル、OC2のプロセスに最適なモードを提供します。 画像で不鮮明なITOマーク、メタルの被ったマークを独自光学系と照明で、高精度にアライメントします。 パネル搬送は、縦型で、非接触搬送、薄板に対応します。 マスクチェンジャー（5-10枚）を標準装備し、クリーンなパターニングに対応します
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
中型タッチパネル/OLED露光装置
独自の光学系と照明、、画像処理で、高いアライメント能力を提供！！！
<特徴> 2G～3.5Gまでの水平形露光装置をラインアップしています。 搬送は、高速シャトル搬送または、ロボット搬送にて、ハイスループットで生産に寄与します。 また、見えづらいITOマーク、メタルの被ったマークに対しても、独自の光学系と照明、、画像処理で、高いアライメント能力を提供します。 マスクとワークの温度制御にて、トータルピッチ±3-5μｍ
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
フィルム用ロールtoロール露光装置
ロールtoロールで搬送にかかる手間を大幅に削減！！！
<特徴> ３D、タッチパネル、FPC、OLED等のフィルムデバイスに、片面又は両面露光と提供します。
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
ウェハー露光装置（マスクアライナー）
全自動タイプ(2～12inch 及び 角型等)ウェハー露光装置
概要 高精細露光に最適化た独自UV光学系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用 バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティー迄対応した全自動露光装置 特注対応可能
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
ナノパターン露光装置『PhableR 100』
回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システム
『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行えます。 【特長】 ■300nmピッチ以下の高解像度300nmピッチ以下の高解像度 ■DUV光源選択で150nmピッチを実現 ■全面露光 ■ノンコンタクト：マスクをダメージやコンタミネーションから保護 ■事実上無制限の深さ方向フォーカス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社協同インターナショナル
- 価格：応相談
UV露光装置 LUV-1000
平行度を保証した高強度露光装置
超高圧水銀ランプ2kWを使用した露光装置です。 専用PCソフトウェアから制御可能で、マスクの平面出しやガラスとのギャップ調整も可能です。
- 企業：壺坂電機株式会社
- 価格：応相談
自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）Maskaligner
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能搭載のオートマスクアライナ―。オーダーメイドも可能！
当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
手動等倍露光装置（マニュアルマスクアライナー）
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。 また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
マスクレス露光装置『 ME-120F』
最大12インチウエハに対応！汎用CAD対応の直接描画なので、フォトマスク製作にかかっていた費用と時間が不要になります！
◆直接描画でフォトリソの課題を解消 マスクレス露光装置は、DMD(Digital Micromirror Device)により、ワークに直接描画を行う装置です。 フォトマスクの製作に必要とされていた莫大な費用と多くの時間が不要になることで、従来のフォトリソグラフィプロセスにおける課題が解消され、半導体デバイスの試作がより身近なものとなります。 ◆選べる露光モード 2016年よりピクセル補完技術を応用したファイン露光モードを標準搭載しています。 標準露光モードに比べスループット時間は長くなりますが、斜線や曲線パターンのデータ再現性がきわめて高くなります。 ◇DMDとは DMDは、格子状に配列された数10万個の微小鏡のこと。この鏡面に光を照射し、一つひとつのミラーをON/OFF制御することで、汎用CADで作成した画像データをワークに投映します。 光源にはLED光を採用しているため、長寿命で経済的です。
- 企業：株式会社ピーエムティー 本社・工場
- 価格：応相談
試料裏面マスクアライメント露光装置 BAシリーズ
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光。
試料裏面マスクアライメント露光装置 BAシリーズは、従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを可能にするローコストなマスクアライメント装置です。通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンをアライメントして露光できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社ナノテック
- 価格：応相談
FPC露光装置
フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置
ロールｔｏロールでピッチ送りしてドライフィルム上にパターンを焼き付ける製品群をラインアップさせています。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
平行光露光装置
平行光露光装置のラインナップのご案内です。
均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
