更新日： 集計期間:2025年04月02日～2025年04月29日
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ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。
露光安定性・再現性に優れています。
JEMの大型露光装置は、常に完全な均一露光を得るため積算光量計・バラスト機構・大型ドライロータリーポンプ・バキュームレギュレター等を組み込んだ最新高性能の大型露光装置です。
コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ）です。
【主な特長】 ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適なマニュアル一括露光装置 ・高精度オートアライメントおよび裏面アライメント機能を搭載。 ・割れ基板へのオートアライメントが可能。 ・フットプリントを縮小化することで省スペースを実現。 ・UV-LED光源搭載可能 ・レシピ管理機能 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助とLOG保存。
Ø200mm Ø300mm対応露光装置（マスクアライナ）
【主な特長】 ・自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現 ・独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現。I R方式や裏面方式にも対応 ・独自の光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを非接触で高速・高精度に設定 ・マスクチェンジャを搭載。最大20枚のフォトマスクを自動交換 ロードポートを最大３基搭載可能
LED/LD混合波レンズ 高速で高い生産能力・高コストパフォーマンス
・LD405+LED385+LED365 三波長混合技術 ・高出力光源+前後二列構造で、より高い生産能力を実現 ◆特徴 ・高速で高い生産能力 ・高精度アライメント ・高コストパフォーマンス ・高出力LD搭載（自社製造）
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光装置
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。
マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っております。
i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
