スパッタリング装置の製品一覧
- 分類：スパッタリング装置
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SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
- スパッタリング装置
- その他金属材料
- ファインセラミックス
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール
- スパッタリング装置
スパッタカソード サービスセンター開設いたしました
2024年４月より、アメリカオングストローム・サイエンス社製「マグネトロンスパッタカソード」の点検・修理のサービスセンターを開設いたします。 新たなサービスセンターにはクリーンルーム設備をはじめ、真空リークチェッカー、各種検査機器を常備して万全な体制でのメンテナンスを実施いたします。 すべての作業はAngstromeScience社での研修を修了した有資格者が指導・監修し、アメリカ本国の修理と同様のサービスを提供いたします。 これまでは、故障に伴う修理を中心に対応をいたしておりましたが、サービスセンター開設を機に定期メンテナンスをお引き受けすることができるようになりました。 定期的にカソードの点検を行って、ダウンタイム無しでの運用をサポートいたします。
FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。
- スパッタリング装置
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
- スパッタリング装置
大好評 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置
今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置｜スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
- スパッタリング装置
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクト抵抗加熱蒸着装置HEX-TES【R&Dに最適！】
HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-TES』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにした抵抗加熱蒸着装置です。抵抗加熱蒸着源TESを搭載します。 電気接点、太陽電池、および半導体アプリケーション向けのシンプルな金属膜堆積に適した真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着装置は堅牢で使いやすく、消耗品のコストも低く抑えられることが特徴です。 最大で3台の成膜ソースと搭載可能なので、電子ビーム蒸着源など抵抗感つ蒸着源以外の成膜ソースと組み合わせることができます。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・抵抗加熱蒸着源TES ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・固定サンプルテーブル ・TESソース用600W電源 ・膜厚計（QCM） ・マニュアル式シャッター ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。
X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ターゲット1μm以下)が可能になりました。
- スパッタリング装置
- 半導体検査/試験装置
- フォトマスク
電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選定に役立ちます
- その他金属材料
- スパッタリング装置
- セラミックス
クリーンルーム内の使用に最適！全自動でロールを洗浄するシステムです。
- スパッタリング装置
- 製袋機・スリッター
- 特殊ラベルなど
ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティング生産ライン速度300m/minでも安定して除塵。
- スパッタリング装置
- 製袋機・スリッター
- 食品包装機械
最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビームスパッタ装置をご紹介
- スパッタリング装置
立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処理用多目的スパッタリング装置。タンブラーの内面も成膜OK
- スパッタリング装置
- ガラス
- 繊維
業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅速に、より効率よく洗浄することができる装置です！
- スパッタリング装置
最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あらゆる機材に諸植生・親水性など新たな機能を実現。
- スパッタリング装置
- ガラス
- 繊維
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！
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