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消耗品のご提案・サポートも対応！薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに行います
株式会社ワイケイシーで行っている、『プリント基板事業』では、 プリント基板製造に関わる薬品から製造設備の 選定、設置までをトータルに行います。 また、ルータービット、ドリル、カートリッジフィルター等の消耗品の ご提案・サポートも対応。 多様化するニーズにお応えしますので、ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに対応 ■消耗品のご提案・サポートも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応可能な露光装置/マスクアライナーをラインアップ！
株式会社三明では、コンパクトな微細露光機や両面プロセスのローコストアシストモデル、 両面・多面プロセスのスタンダード量産機である手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動・全自動タイプなど優れたローコストな露光装置を多数ラインアップしております。 【各種ラインアップの特長】 （マニュアル マスクアライナー） ■高倍率ズーム顕微鏡を備えた、手動式露光装置！ ■片面露光タイプ、両面露光タイプ、両面同時露光タイプと多彩なシリーズをラインナップ！ （セミオート マスクアライナー) ■自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬出の流れで量産が可能！ （フルオート マスクアライナー) ■C to C 自動搬送 ■丸形、角形試料など、各種デバイスへ露光可能！ ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
LED/LD混合波レンズ 高速で高い生産能力・高コストパフォーマンス
・LD405+LED385+LED365 三波長混合技術 ・高出力光源+前後二列構造で、より高い生産能力を実現 ◆特徴 ・高速で高い生産能力 ・高精度アライメント ・高コストパフォーマンス ・高出力LD搭載（自社製造）
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光装置
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。
マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っております。
i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
