更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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消耗品のご提案・サポートも対応！薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに行います
株式会社ワイケイシーで行っている、『プリント基板事業』では、 プリント基板製造に関わる薬品から製造設備の 選定、設置までをトータルに行います。 また、ルータービット、ドリル、カートリッジフィルター等の消耗品の ご提案・サポートも対応。 多様化するニーズにお応えしますので、ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに対応 ■消耗品のご提案・サポートも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。 また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応可能な露光装置/マスクアライナーをラインアップ！
株式会社三明では、コンパクトな微細露光機や両面プロセスのローコストアシストモデル、 両面・多面プロセスのスタンダード量産機である手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動・全自動タイプなど優れたローコストな露光装置を多数ラインアップしております。 【各種ラインアップの特長】 （マニュアル マスクアライナー） ■高倍率ズーム顕微鏡を備えた、手動式露光装置！ ■片面露光タイプ、両面露光タイプ、両面同時露光タイプと多彩なシリーズをラインナップ！ （セミオート マスクアライナー) ■自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬出の流れで量産が可能！ （フルオート マスクアライナー) ■C to C 自動搬送 ■丸形、角形試料など、各種デバイスへ露光可能！ ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
汚れや傷がつきにくい！レジストに紫外線を照射し、パターンを形成
プロキシミティ露光とは、半導体や液晶などの製造に使われる技術の一つです。 レジスト(光感性樹脂)に紫外線を照射し、パターンを形成します。 その際、レジストとフォトマスク(パターンを形成するための板)の 間に微小な隙間を設け、レジストに光を届けることで、細かなパターンを 形成します。 【メリット】 ■マスクとワークが接触しないため汚れや傷がつきにくい ■フォトリソグラフィーと比較してパターン形成に必要な時間が短くて 済むため生産性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送ユニット搭載の半自動マスクアライナー。
当製品は、半自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を1枚毎にセットし、 基板セット後，搬送～露光を自動で行う装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 従来の手動でギャップ調整を行うという煩雑な作業が一切不要です． また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光装置
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
