スクリーン版用露光装置
フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。
フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。新真空システムでスクリーン版枠の歪みを軽減し、さらに配光バランスを向上させました。スクリーン枠装置と、PDP用の大型装置の2種類をラインアップさせています。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
露光装置 - メーカー・企業33社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
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露光装置のメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
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- 株式会社三明 静岡県/産業用電気機器
- 株式会社ピーエムティー 福岡県/産業用機械 本社・工場
- 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
- 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
- 5 ネオアーク株式会社 東京都/産業用電気機器 東京営業部
露光装置の製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
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- 露光装置 ※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！ 株式会社三明
- マスクレス露光装置『 ME-120F』 株式会社ピーエムティー 本社・工場
- LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
- マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』 ネオアーク株式会社 東京営業部
- 5 i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
露光装置の製品一覧
61～75 件を表示 ／ 全 81 件
表示件数
オート式露光装置
190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ
2インチのウエハサイズに対応する､全自動式露光装置です｡ 従来のウエハ搬送方式で用いられる多間接ロボットに代わり､自社開発の搬送ロボットを3台配置させたことで､毎時190枚(2インチウエハ)を処理する高いスループットを実現しました｡ 特に､新開発のアライメント画像処理には､任意座標指定のサーチおよび､インテリジェントθサーチとの複合サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡ オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精度での露光が可能です｡
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』
トライ＆エラーが必要不可欠な研究・試作用途に好適なマスクレス露光装置
『DDB-701シリーズ』は、MEMS技術の代表格であるフォトリソグラフィを、 卓上で、手軽に、思いのままに行えるマスクレス露光装置です。 装置サイズを徹底的に小型化し、A3サイズの設置面積を実現。 フローティング構造を採用することで振動を抑制し、 防振台不要・真空吸着用エア源内蔵を実現し、 導入に際して障害となりやすい圧縮エアなどのユーティリティを取り除きました。 【特長】 ■設置場所に困らない卓上型 ■業界の常識を覆す低価格設定 ■ユーザフレンドリーな操作性を追求 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
- 企業：ネオアーク株式会社 東京営業部
- 価格：応相談
投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
- 企業：株式会社サーマプレシジョン
- 価格：応相談
外層板用縦型両面露光装置 光 ＦＥ２０５Ｃ
今までの露光装置とは ごみ対策が違います！
当社独自の基板を立てた状態で露光を行うシステムにより、ごみ問題による歩留まり低下を解消します。
- 企業：豊和工業株式会社 機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム
- 価格：応相談
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ
最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
露光装置 大型露光装置
露光安定性・再現性に優れています。
JEMの大型露光装置は、常に完全な均一露光を得るため積算光量計・バラスト機構・大型ドライロータリーポンプ・バキュームレギュレター等を組み込んだ最新高性能の大型露光装置です。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
実験・研究用露光装置
コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ）です。
【主な特長】 ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適なマニュアル一括露光装置 ・高精度オートアライメントおよび裏面アライメント機能を搭載。 ・割れ基板へのオートアライメントが可能。 ・フットプリントを縮小化することで省スペースを実現。 ・UV-LED光源搭載可能 ・レシピ管理機能 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助とLOG保存。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
Ø300mm対応露光装置
Ø200mm Ø300mm対応露光装置（マスクアライナ）
【主な特長】 ・自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現 ・独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現。I R方式や裏面方式にも対応 ・独自の光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを非接触で高速・高精度に設定 ・マスクチェンジャを搭載。最大20枚のフォトマスクを自動交換 ロードポートを最大３基搭載可能
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
実験・研究用 コンパクトUV硬光装置「デモ機あり」
用途に応じた照射長域の選択が可能！マルチな波長対応で実験、研究用に活躍
『UV-1500MT』は、1500Wメタハラ、水銀ランプとも交換共用ができ、 マルチな波長対応で実験、研究用に適したUV簡易露光装置です。 ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計。高安定・長寿命・ オゾンレスランプの使用で、用途に応じた照射長域の選択が可能です。 自動化ラインに対応する豊富なリモート機能や万全なノイズ防止対策など、多彩な機能を備えています。 【特長】 ■ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計 ■高安定・長寿命・オゾンレスランプの使用 ■用途に応じた照射長域の選択が可能 ■70~100%まで強度調整が可能 ■自動化ラインに対応する豊富なリモート機能 ■万全なノイズ防止対策 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三永電機製作所
- 価格：50万円 ~ 100万円
投影露光とは？
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：夏目光学株式会社
- 価格：応相談
株式会社プリケン プリント基板 パターンニング(内層)
プレス室、現像室、クリーンルームにて実施！当社の工程設備をご紹介
当社では、工程設備にて「パターンニング(内層)」を行っています。 プレス室にて、X線穴あけ機で内層のパターンを確認し基準穴をあけ、 現像室では、規定の大きさに切断された板の汚れを落としドライフィルム の密着性を向上。 クリーンルームで、オートラミネートカッターでポリエチレンフィルムを 剥がしながら熱ロールで圧着し、フィルムと基材を密着させ、紫外線で露光。 現像室にて未露光部分を膨潤剥離します。 【工程】 ■基準穴加工 ■整面 ■露光 ■現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社プリケン 本社、山形営業所、神奈川営業所、関西営業所、福岡営業所
- 価格：応相談
