露光装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

露光装置 - メーカー・企業34社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

露光装置のメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. 株式会社三明 静岡県/産業用電気機器
  2. 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所) 東京都/電子部品・半導体
  3. 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
  4. 4 株式会社大日本科研 京都府/光学機器
  5. 5 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所 東京都/その他

露光装置の製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
  2. i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)
  3. 半自動露光装置『半自動マスクアライナー』 株式会社三明
  4. 4 マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
  5. 5 自動両面露光装置 株式会社ラットコーポレーション 本社:営業部・業務部

露光装置の製品一覧

61~75 件を表示 / 全 81 件

表示件数

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

2インチのウエハサイズに対応する、全自動式露光装置です。 従来のウエハ搬送方式で用いられる多間接ロボットに代わり、自社開発の搬送ロボットを3台配置させたことで、毎時190枚(2インチウエハ)を処理する高いスループットを実現しました。 特に、新開発のアライメント画像処理には、任意座標指定のサーチおよび、インテリジェントθサーチとの複合サーチを行うオートアライメントを採用しました。また、安定した視認性を実現するために、顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により、照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています。 オペレータはフォトマスクとウエハをセットし、あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで、ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ、露光までをオートで行うことから、オペレータや使用経験に依存しない、安定した精度での露光が可能です。

  • レジスト装置
  • ステッパー
  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』

トライ&エラーが必要不可欠な研究・試作用途に好適なマスクレス露光装置

『DDB-701シリーズ』は、MEMS技術の代表格であるフォトリソグラフィを、 卓上で、手軽に、思いのままに行えるマスクレス露光装置です。 装置サイズを徹底的に小型化し、A3サイズの設置面積を実現。 フローティング構造を採用することで振動を抑制し、 防振台不要・真空吸着用エア源内蔵を実現し、 導入に際して障害となりやすい圧縮エアなどのユーティリティを取り除きました。 【特長】 ■設置場所に困らない卓上型 ■業界の常識を覆す低価格設定 ■ユーザフレンドリーな操作性を追求 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用(生産性を落さずランニングコスト削減が可能!)

■ 8インチ以下は「一括露光方式」、   12インチは「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の   実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備

  • MRS.jpg
  • MR S.jpg
  • ステッパー

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

一括露光機

ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。

マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】

  • フォトマスク

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

i線ステッパー露光装置

Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っております。

i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】

  • ステッパー

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

外層板用縦型両面露光装置 光 FE205C

今までの露光装置とは ごみ対策が違います!

 当社独自の基板を立てた状態で露光を行うシステムにより、ごみ問題による歩留まり低下を解消します。

  • 基板加工機
  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

  • その他プロセス制御
  • 分光分析装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。

  • その他プロセス制御
  • 分光分析装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

露光装置 大型露光装置

露光安定性・再現性に優れています。

JEMの大型露光装置は、常に完全な均一露光を得るため積算光量計・バラスト機構・大型ドライロータリーポンプ・バキュームレギュレター等を組み込んだ最新高性能の大型露光装置です。

  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

実験・研究用露光装置

コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ)です。

【主な特長】 ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適なマニュアル一括露光装置 ・高精度オートアライメントおよび裏面アライメント機能を搭載。 ・割れ基板へのオートアライメントが可能。 ・フットプリントを縮小化することで省スペースを実現。 ・UV-LED光源搭載可能 ・レシピ管理機能 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助とLOG保存。

  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Ø300mm対応露光装置

Ø200mm Ø300mm対応露光装置(マスクアライナ)

【主な特長】 ・自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現 ・独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現。I R方式や裏面方式にも対応 ・独自の光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを非接触で高速・高精度に設定 ・マスクチェンジャを搭載。最大20枚のフォトマスクを自動交換 ロードポートを最大3基搭載可能

  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

実験・研究用 コンパクトUV硬光装置「デモ機あり」

用途に応じた照射長域の選択が可能!マルチな波長対応で実験、研究用に活躍

『UV-1500MT』は、1500Wメタハラ、水銀ランプとも交換共用ができ、 マルチな波長対応で実験、研究用に適したUV簡易露光装置です。 ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計。高安定・長寿命・ オゾンレスランプの使用で、用途に応じた照射長域の選択が可能です。 自動化ラインに対応する豊富なリモート機能や万全なノイズ防止対策など、多彩な機能を備えています。 【特長】 ■ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計 ■高安定・長寿命・オゾンレスランプの使用 ■用途に応じた照射長域の選択が可能 ■70~100%まで強度調整が可能 ■自動化ラインに対応する豊富なリモート機能 ■万全なノイズ防止対策 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 紫外線照射装置
  • その他理化学機器

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

株式会社プリケン プリント基板 パターンニング(内層)

プレス室、現像室、クリーンルームにて実施!当社の工程設備をご紹介

当社では、工程設備にて「パターンニング(内層)」を行っています。 プレス室にて、X線穴あけ機で内層のパターンを確認し基準穴をあけ、 現像室では、規定の大きさに切断された板の汚れを落としドライフィルム の密着性を向上。 クリーンルームで、オートラミネートカッターでポリエチレンフィルムを 剥がしながら熱ロールで圧着し、フィルムと基材を密着させ、紫外線で露光。 現像室にて未露光部分を膨潤剥離します。 【工程】 ■基準穴加工 ■整面 ■露光 ■現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 基板設計・製造

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

裏面アライメントシステム(IRAS)

ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット

『裏面アライメントシステム(IRAS)』は、MPA、PLAに搭載する事により、 ウェハーの裏面をアライメントできるユニットです。 MPA、PLAを裏面露光装置として使用する為に製作。 新規で裏面露光装置のご購入を考えているユーザー様に適しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【概要】 ■主要追加部品  ・マスクアライメント用CCDカメラ  ・ウェハー裏面アライメント用近赤外線CCDカメラ  ・画像解析用モニター&パソコン  ・裏面カメラユニットステージ  ・その他 ■対応機種:MPA600Series、PLASeries ■設置期間:1.5週間 ■近赤外線仕様もあります ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

  • フォトマスク
  • その他半導体製造装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

プリント基板事業

消耗品のご提案・サポートも対応!薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに行います

株式会社ワイケイシーで行っている、『プリント基板事業』では、 プリント基板製造に関わる薬品から製造設備の 選定、設置までをトータルに行います。 また、ルータービット、ドリル、カートリッジフィルター等の消耗品の ご提案・サポートも対応。 多様化するニーズにお応えしますので、ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに対応 ■消耗品のご提案・サポートも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • プリント基板
  • 化学薬品
  • その他理化学機器

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録