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Alaina - メーカー・企業14社の製品一覧とランキング

更新日： 集計期間:Nov 05, 2025～Dec 02, 2025
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Alainaのメーカー・企業ランキング

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  1. 兼松ＰＷＳ Kanagawa//Industrial Machinery
  2. ミカサ 本社・大阪営業所 Tokyo//Optical Instruments
  3. ハイデルベルグ・インストルメンツ Kanagawa//Optical Instruments
  4. 4 三明 Shizuoka//Industrial Electrical Equipment
  5. 5 エイ・エス・エイ・ピイ Saitama//Electronic Components and Semiconductors
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Alainaの製品ランキング

更新日： 集計期間:Nov 05, 2025～Dec 02, 2025
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  1. SUSS MicroTec Manual Mask Aligner MJB4 兼松ＰＷＳ
  2. Mask aligner ミカサ 本社・大阪営業所
  3. SUSS MicroTec Manual Mask Aligner MA/BAGen4 兼松ＰＷＳ
  4. 4 Maskless Aligner "MLA150" ハイデルベルグ・インストルメンツ
  5. 5 Maskless aligner "uMLA" (Micro M L A) ハイデルベルグ・インストルメンツ

Alainaの製品一覧

1～15 件を表示 ／ 全 37 件

表示件数
No rear alignment! Single-sided automatic mask aligner AMA6000

No rear alignment! Single-sided automatic mask aligner AMA6000

By eliminating back alignment, we achieved a low price and compact design, making it an ideal device for small-batch production of various types.

The "AMA6000" is an automatic batch equal exposure mask alignment device. The ASAP mask aligner manages the gap between the mask and the wafer in a completely non-contact manner. While it can operate in non-contact mode, it also supports soft and hard contact. It achieves low cost, compact size, and easy operation. 【Features】 ■ Parallel exposure in complete non-contact ■ Space-saving & easy maintenance ■ Auto alignment ■ Achieves low cost and compact design, suitable for small-batch production of various types *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • others

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三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト（低価格）】

三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト（低価格）】

研究開発から、少LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」のローコストな露光装置/マスクアライナーをご提案！

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマスクアライナー」など、 優れたローコストな露光装置を多数取り揃えております。 ＊詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • Wafer processing/polishing equipment

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MEMS development process equipment

MEMS development process equipment

MEMS development tools and precision alignment nanotech

In the "MEMS Development Process Equipment," we offer a variety of devices including the compact standard model for fine exposure, the "Single-Sided Mask Aligner," the low-cost assist model for double-sided processes, the "Front Mask Aligner," the standard mass production machine for double-sided and multi-sided processes, the "Simultaneous Double-Sided Exposure Mask Aligner," the custom equipment for automation and mass production, the "Auto Mask Aligner," the dedicated exposure device, the "Custom Mask Aligner," the alignment fixing device compatible with custom designs, the "Precision Alignment Holder" using a unique clamping mechanism, the "UV Nano Imprinter / Micro Contact Printer" for precise transfer with low residual film and low bubbles, the industry-standard "General Purpose Spray Coater," and the unique low-cost mask production machine, the "Simple Mask Production Machine," among many others. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Other processing machines

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MEMS development tools

MEMS development tools

This is product information for NanoTech's MEMS development tools.

The "MEMS Development Tools" includes a variety of equipment such as standard single-sided mask aligners, sample backside observation aligners referred to as "mask aligners," UV nanoimprinters and micro-contact printers called "imprints," spray coaters known as "coaters," and a unique low-cost mask fabrication machine called "simple mask fabrication machine." It also features numerous devices including alignment equipment for anodic bonding, infrared observation alignment equipment, various bonding alignment devices referred to as "temporary bonding devices," vacuum bonding equipment known as "anodic bonding devices," and the simple mask fabrication machine "MM605." For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Other processing machines

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Mask alignment exposure device for sample interior, BA series

Mask alignment exposure device for sample interior, BA series

Pattern exposure at matching positions on the front and back of samples with different processes.

The BA series backside mask alignment exposure device is a low-cost mask alignment system that enables alignment from the backside of the sample, which was difficult with conventional exposure devices. It can also be used as a standard single-sided exposure mask aligner, supporting the development of various MEMS and semiconductor devices with double-sided configurations. This device allows for the alignment and exposure of mask patterns to specified positions on the opposite side (the second side) of the sample, relative to pre-formed alignment marks on the first side. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Other inspection equipment and devices

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Dual-Sided Simultaneous Exposure Mask Aligner 'BS425' 'BS620'

Dual-Sided Simultaneous Exposure Mask Aligner 'BS425' 'BS620'

Simultaneous exposure of both sides of the wafer! Supports medium lot production with semi-automatic operation.

The dual-sided simultaneous exposure mask aligners 'BS425' and 'BS620' have a proven track record in both research and development and small to medium lot production. They adopt a method where the primary exposure is simultaneous on both sides, and subsequent exposures are done one side at a time, making them simple and versatile, with customization available to meet specific needs. Since the secondary exposure and beyond are done on one side, a separate "sample stage" is required. Please feel free to contact us. 【Features】 ■ Supports maximum φ4 inch wafers 'BS425' ■ Supports maximum φ6 inch wafers 'BS620' ■ Compact design ■ Semi-automatic operation possible during primary exposure with a footswitch ■ Easy to accommodate non-standard shape samples due to the hand placement style ■ Equipped with wafer positioning guide (optional) and more *For more details, please refer to the catalog or feel free to contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

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Double-sided mask aligner

Double-sided mask aligner

Both-side alignment and the ability for proximity and soft contact exposure are possible.

It is a mask aligner that aligns a glass mask and a workpiece in the photolithography process for wafers and glass substrates, transferring a fine mask pattern onto the photoresist coated on the plate.

  • Stepper

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Optical Aligners SAL4484 Series

Optical Aligners SAL4484 Series

The control method is RS232C and parallel photo I/O.

The SAL4484 series optical aligner, compatible with 100mm to 200mm, is designed for positioning wafers in semiconductor manufacturing equipment and inspection devices that require precise alignment during transport. It centers silicon wafers and positions the orientation flat and notch quickly and accurately. The control method uses RS232C and parallel photo I/O. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Transport and handling robots
  • Other industrial robots

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50-100mm compatible aligner SAL2241 series

50-100mm compatible aligner SAL2241 series

We have achieved a reduced footprint with small-diameter wafer compatibility.

The SAL2241 series aligner, compatible with 50mm to 100mm wafers, is designed for transporting wafers that require positioning within semiconductor manufacturing equipment and inspection devices. It achieves a compact footprint while accommodating small-diameter wafers. It centers small-diameter wafers and positions orifices and notches with high speed and precision. A 0.1μm filter is equipped on the spindle side. The control method is via RS232C and parallel photo I/O. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Transport and handling robots
  • Other industrial robots

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Optical Aligners SAL3261GR Series

Optical Aligners SAL3261GR Series

Alignment of 2-inch, 3-inch, and 100-150mm wafers is possible.

The optical aligner SAL3261GR series is designed to support the positioning of wafers in semiconductor manufacturing equipment and inspection devices. It is capable of aligning 2-inch, 3-inch, and 100-150mm wafers. Equipped with sensors that detect the wafer edge, it can align silicon, transparent, translucent glass, gallium arsenide, sapphire wafers, and more. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Transport and handling robots
  • Other industrial robots

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342mm Susceptor Compatible Vacuum Aligner SVAL30D1 Series

342mm Susceptor Compatible Vacuum Aligner SVAL30D1 Series

It is possible to position the susceptor at high speed and high precision using a gripping method in a vacuum environment.

The 342mm Susceptor-Compatible Vacuum Aligner SVAL30D1 series enables high-speed and high-precision positioning of susceptors (such as compound semiconductors and silicon wafers) in a vacuum environment using a gripping method. By placing the positioning sensor in the vacuum environment, installation can be completed with just the main unit, increasing the design flexibility of the equipment. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Transport and handling robots
  • Other industrial robots

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Atmospheric Environment Aligner "EG-303 Series"

Atmospheric Environment Aligner "EG-303 Series"

Edge grip type aligner that does not contact the back surface of the wafer for 300mm wafers.

■High-precision centering with edge grip method using three movable claws ■Minimization of robot waiting time during alignment with optional buffer port *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • Transport and handling robots

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Maskless Aligner "MLA150"

Maskless Aligner "MLA150"

High-speed maskless aligner capable of fine drawing at 0.6μm.

The Maskless Aligner MLA150 is a non-contact laser exposure device that does not require a mask. With its exceptional ease of use and high speed, it is an ideal laser direct writing system for rapid prototyping, small to medium production, and research and development environments. Since the Maskless Aligner series was first introduced in 2015, innovative and cutting-edge maskless technology has been established. The MLA150 is positioned as an alternative to traditional mask aligners, with over 130 units shipped.

  • Photomask
  • Stepper

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Maskless aligner "uMLA" (Micro M L A)

Maskless aligner "uMLA" (Micro M L A)

Tabletop-sized autofocus maskless aligner

The tabletop system's maskless aligner µMLA features cutting-edge maskless technology and is an entry-level drawing device suitable for all research and development areas requiring fine structures. Typical applications include microfluidics, microoptics, sensors, MEMS, and materials science. The µMLA (Micro M L A) is a state-of-the-art maskless exposure device that is more economical and offers superior customizable flexibility compared to previous tabletop direct writing devices.

  • Photomask
  • Stepper

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Maskless Aligner "MLA300"

Maskless Aligner "MLA300"

High-performance maskless aligner for production

The MLA300 is an industrial production version of a maskless aligner that has already become the standard in the fields of research and development applications, rapid prototyping, and low to medium volume production. The MLA300 achieves high resolution with a line and space of 2 µm while maintaining the high throughput and availability expected in production facilities. It is equipped with a wafer robot and load port, as well as software specially designed for production environments, to accommodate automation for streamlining workflows.

  • Stepper
  • Photomask
  • Other semiconductor manufacturing equipment

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